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11. 发明公开

EP2376379A1 METHOD AND APPARATUS FOR THE PRODUCTION OF CHLOROSILANES 审中-公开
标题翻译：方法和装置HERSTELLUHNG氯硅烷
公开(公告)号：EP2376379A1
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：EP09837243.6
申请日：2009-12-23
申请人： Arise Technologies Corporation
发明人： DODD, Peter , BALKOS, Athanasios Tom , DAWKINS, Jeffrey
IPC分类号： C01B33/021 , B01J8/02 , C01B33/107
CPC分类号： C01B33/035 , C01B33/107 , C01B33/1071 , C01B33/10715 , C01B33/10721 , C01B33/10731 , C01B33/10747 , C01B33/10757 , C01B33/10773
摘要： A method and respect material for the production of chlorosilanes (primarily: trichlorosilane) and the deposition of high purity poly-silicon from these chlorosilanes. The source for the chlorosilane production consists of eutectic or hypo-eutectic copper- silicon, the concentration range of said copper-silicon is between 10 and 16 wt% silicon. The eutectic or hypo-eutectic copper-silicon is cast in a shape suitable for a chlorination reactor, where it is exposed to a process gas, which consists, at least partially, of HCI. The gas reacts at the surface of the eutectic or hypo-eutectic copper-silicon and extracts silicon in the form of volatile chlorosilane. The depleted eutectic or hypo- eutectic material might be afterwards recycled in such a way that the amount of extracted silicon is replenished and the material is re-cast into the material shape desired.

12. 发明公开

EP2771279A1 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG VON TETRAHALOGENSILANEN 审中-公开
标题翻译：用于生产四卤代
公开(公告)号：EP2771279A1
公开(公告)日：2014-09-03
申请号：EP12780179.3
申请日：2012-10-26
申请人： Spawnt Private S.à.r.l.
发明人： AUNER, Norbert
IPC分类号： C01B33/107
CPC分类号： C01B33/10747 , C01B33/10705 , C01F7/60
摘要： A method for producing tetrahalosilanes (SiX
4 ) (X = halogen, especially Cl, F) from processed rock masses containing highly viscous hydrocarbons and SiO
2 and/or silicates or from the residual masses accumulating in the preparation is described. In the first variant of the method, the masses are heated in a flow of hydrogen halide, and the resultant (SiX
4 ) is collected and distilled. In the second variant, hydrogen fluoride (HF) and/or alkali or alkaline earth fluoride and sulfuric acid are added to the masses and the resulatnt (SiX
4 ) is collected and distilled. The method is characterized by an especially high efficiency, since the carbon that is present in the raw materials or residual masses is effectively used as a reducing agent or energy source.

13. 发明公开

EP2376380A2 METHOD AND APPARATUS FOR SILICON REFINEMENT 审中-公开
标题翻译：方法和装置精炼硅的
公开(公告)号：EP2376380A2
公开(公告)日：2011-10-19
申请号：EP09837242.8
申请日：2009-12-23
申请人： Arise Technologies Corporation
发明人： DODD, Peter , BALKOS, Athanasios, Tom , DAWKINS, Jeffrey
IPC分类号： C01B33/039 , C01B33/037
CPC分类号： C01B33/035 , C01B33/107 , C01B33/1071 , C01B33/10715 , C01B33/10721 , C01B33/10742 , C01B33/10747 , C01B33/10757 , C01B33/10773
摘要： A method and respect material for the production of chlorosilanes (primarily: trichlorosilane) and the deposition of high purity poly-silicon from these chlorosilanes. The source for the chlorosilane production consists of eutectic or hypo-eutectic copper-silicon, the concentration range of said copper-silicon is between 10 and 16 wt% silicon. The eutectic or hypo-eutectic copper-silicon is cast in a shape suitable for a chlorination reactor, where it is exposed to a process gas, which consists, at least partially, of HCI. The gas reacts at the surface of the eutectic or hypo-eutectic copper-silicon and extracts silicon in the form of volatile chlorosilane. The depleted eutectic or hypo-eutectic material might be afterwards recycled in such a way that the amount of extracted silicon is replenished and the material is re-cast into the material shape desired.

14. 发明专利

JP2014516900A Reactor design for reacting the organo chloro silane and silicon tetrachloride in hydrogen-containing chlorosilanes 审中-公开
公开(公告)号：JP2014516900A
公开(公告)日：2014-07-17
申请号：JP2013558336
申请日：2012-01-27
申请人：エボニックデグサゲーエムベーハーEvonik Degussa GmbH
发明人：エナルイュセル , シュトホニオルギド , ザウアーイェルク , パウリインゴ , シュラーダーベックノアベアト
IPC分类号： C01B33/107
CPC分类号： C01B33/10747 , C01B33/1071
摘要：本発明は、１つ以上の反応室を含む圧力式の反応器の稼働中にケイ素ベースの固体析出物を抑止しながら含水素クロロシランを製造する方法に関し、反応室の少なくとも１つの中に少なくとも１つのオルガノクロロシランが水素と少なくとも一時的に反応され、場合によって複数ある反応室の少なくとも１つの中でこの反応が行われ、その中に少なくとも一時的に追加のＨＣｌが供給されることを特徴とする。追加のＨＣｌは、好ましくは四塩化ケイ素を水素で脱ハロゲン化水素化することによって、反応器の、場合によって複数ある反応室の少なくとも１つの中で発生させる。

15. 发明专利

JP2012515130A Chlorosilane of the manufacturing method and apparatus 审中-公开
公开(公告)号：JP2012515130A
公开(公告)日：2012-07-05
申请号：JP2011542641
申请日：2009-12-23
申请人：アライズテクノロジーズコーポレーション
发明人：ドーキンス、ジェフリー , ドッド、ピーター , バルコス、アサナシオス・トム
IPC分类号： C01B33/107
CPC分类号： C01B33/035 , C01B33/107 , C01B33/1071 , C01B33/10715 , C01B33/10721 , C01B33/10731 , C01B33/10747 , C01B33/10757 , C01B33/10773
摘要：クロロシラン（主に：トリクロロシラン）の製造のためおよびこれらクロロシランからの高純度ポリシリコンの堆積のための方法および関係する材料。クロロシラン製造のためのソースは、共晶または亜共晶の銅−シリコンであり、前記銅−シリコンの濃度範囲は１０ないし１６ｗｔ％シリコンである。共晶または亜共晶の銅−シリコンは、塩素処理反応器に好適な形状に鋳造され、そこで、少なくとも部分的にＨＣｌからなるプロセスガスに曝される。このガスは共晶または亜共晶の銅−シリコンの表面で反応してシリコンを揮発性クロロシランの形態で抽出する。貧化した共晶または亜共晶の材料はその後リサイクルすることができ、抽出された量のシリコンが補充され、この材料は所望の形状へ再鋳造される。
【選択図】図１

16. 发明申请

WO2012032129A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON SILICIUM HOHER REINHEIT 审中-公开
标题翻译：工艺生产高纯度硅
公开(公告)号：WO2012032129A1
公开(公告)日：2012-03-15
申请号：PCT/EP2011/065577
申请日：2011-09-08
申请人： SPAWNT PRIVATE S.À.R.L. , AUNER, Norbert , BAUCH, Christian , DELTSCHEW, Rumen , HOLL, Sven , MOHSSENI, Javad
发明人： AUNER, Norbert , BAUCH, Christian , DELTSCHEW, Rumen , HOLL, Sven , MOHSSENI, Javad
IPC分类号： C01B33/025
CPC分类号： C01B33/021 , C01B33/03 , C01B33/10747
摘要： Es wird ein Verfahren zur Herstellung von Silicium hoher Reinheit beschrieben. Aus SiO2-haltigen Ausgangsstoffen wird durch Carbochlorierung SiCl4 hergestellt, aus dem in weiteren Verfahrensschritten das Silicium hoher Reinheit gewonnen wird. In sämtlichen Verfahrensschritten wird kein elementares Silicium zugeführt. Auf diese Weise ergibt sich eine besonders effiziente und kostengünstige Verfahrensweise.
摘要翻译：一种用于生产高纯度硅的制造方法进行说明。从在进一步的处理步骤中，从含SiO 2的起始原料获得的高纯度硅通过碳氯化的SiCl 4制备。在所有的工艺步骤，没有硅元素被提供。以这种方式，一种特别有效的和廉价的步骤的结果。

17. 发明申请

WO2010078643A2 METHOD AND APPARATUS FOR SILICON REFINEMENT 审中-公开
标题翻译：用于硅精炼的方法和设备
公开(公告)号：WO2010078643A2
公开(公告)日：2010-07-15
申请号：PCT/CA2009/001877
申请日：2009-12-23
申请人： ARISE TECHNOLOGIES CORPORATION , DODD, Peter , BALKOS, Athanasios, Tom , DAWKINS, Jeffrey
发明人： DODD, Peter , BALKOS, Athanasios, Tom , DAWKINS, Jeffrey
CPC分类号： C01B33/035 , C01B33/107 , C01B33/1071 , C01B33/10715 , C01B33/10721 , C01B33/10742 , C01B33/10747 , C01B33/10757 , C01B33/10773
摘要： A method and respect material for the production of chlorosilanes (primarily: trichlorosilane) and the deposition of high purity poly-silicon from these chlorosilanes. The source for the chlorosilane production consists of eutectic or hypo-eutectic copper-silicon, the concentration range of said copper-silicon is between 10 and 16 wt% silicon. The eutectic or hypo-eutectic copper-silicon is cast in a shape suitable for a chlorination reactor, where it is exposed to a process gas, which consists, at least partially, of HCI. The gas reacts at the surface of the eutectic or hypo-eutectic copper-silicon and extracts silicon in the form of volatile chlorosilane. The depleted eutectic or hypo-eutectic material might be afterwards recycled in such a way that the amount of extracted silicon is replenished and the material is re-cast into the material shape desired.
摘要翻译：用于生产氯硅烷（主要是三氯硅烷）和从这些氯硅烷中沉积高纯度多晶硅的方法和材料。氯硅烷生产的来源由共晶或低共晶铜硅组成，所述铜 - 硅的浓度范围为10至16重量％的硅。共晶或次共晶铜硅被铸造成适合氯化反应器的形状，在那里暴露于至少部分由HCl组成的工艺气体中。气体在共晶或次共晶铜硅表面反应，并以挥发性氯硅烷的形式提取硅。耗尽的共晶或次共晶材料可能随后被循环，使得提取的硅的量得到补充并且材料被重铸成所需的材料形状。

18. 发明申请

WO2012123158A1 REAKTORKONZEPT ZUR UMSETZUNG VON ORGANOCHLORSILANEN UND SILICIUMTETRACHLORID ZU WASSERSTOFF-HALTIGEN CHLORSILANEN 审中-公开
标题翻译：堆概念为实施有机氯硅烷和四氯化硅TO含氢氯硅烷
公开(公告)号：WO2012123158A1
公开(公告)日：2012-09-20
申请号：PCT/EP2012/051329
申请日：2012-01-27
申请人： EVONIK DEGUSSA GMBH , ÖNAL, Yücel , STOCHNIOL, Guido , SAUER, Jörg , PAULI, Ingo , SCHLADERBECK, Norbert
发明人： ÖNAL, Yücel , STOCHNIOL, Guido , SAUER, Jörg , PAULI, Ingo , SCHLADERBECK, Norbert
IPC分类号： C01B33/107
CPC分类号： C01B33/10747 , C01B33/1071
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von wasserstoffhaltigen Chlorsilanen unter Verminderung Si-basierter Feststoffablagerungen während des Betriebs eines druckbetriebenen Reaktors, der ein oder mehrere Reaktionsräume umfasst, wobei in zumindest einem dieser Reaktionsräume mindestens ein Organochlorsilan mit Wasserstoff zumindest zeitweise umgesetzt wird, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens einem der ggf. mehreren Reaktionsräume in denen diese Umsetzung erfolgt mindestens zeitweise zusätzliches HCl zugeführt wird. Das zusätzliche HCl wird vorzugsweise durch Hydrodehalogenierung von Siliciumtetrachlorid mit Wasserstoff in mindestens einem der ggf. mehreren Reaktionsräume des Reaktors erzeugt.
摘要翻译：本发明涉及一种用于压力操作反应器的操作期间产生具有减少的Si系固体沉积物的含氢氯硅烷的包括一个或多个反应室，其中至少一个有机基氯代硅烷与氢气是至少在这些反应室的至少一个部分地实现，其特征在于在此反应发生至少临时额外的HCl供给可能的几个反应室的至少一个。附加的HCl的可能优选通过四氯化硅的加氢脱卤与氢在至少多个的反应器的反应室中产生。

19. 发明申请

WO2010074673A1 METHOD AND APPARATUS FOR THE PRODUCTION OF CHLOROSILANES 审中-公开
标题翻译：氯仿生产方法和装置
公开(公告)号：WO2010074673A1
公开(公告)日：2010-07-01
申请号：PCT/US2008/013996
申请日：2008-12-23
申请人： ARISE TECHNOLOGIES CORPORATION , DOLD, Peter , MOOIBROEK, Sandra , BALKOS, Tom , DAWKINS, Jeff , SPITZENBERGER, Alfred , OLSON, Jerry, M.
发明人： DOLD, Peter , MOOIBROEK, Sandra , BALKOS, Tom , DAWKINS, Jeff , SPITZENBERGER, Alfred , OLSON, Jerry, M.
IPC分类号： C01B33/08
CPC分类号： C01B33/035 , C01B33/107 , C01B33/1071 , C01B33/10715 , C01B33/10721 , C01B33/10731 , C01B33/10747 , C01B33/10757 , C01B33/10773
摘要： The present invention provides a method and apparatus for the production of chlorosilanes. The feed material is silicon in the form of a cast or a sintered silicon-metal alloy. The invention may be used as a stand alone apparatus for the generation of chlorosilanes or it may be connected to a Siemens type CVD reactor for the production of high purity silicon or it may be connected to any kind of subsequent chamber(s) for the deposition of silicon.
摘要翻译：本发明提供了用于生产氯硅烷的方法和装置。进料材料是铸态或烧结硅 - 金属合金形式的硅。本发明可以用作产生氯硅烷的独立设备，或者可以连接到用于生产高纯度硅的西门子型CVD反应器，或者可以连接到用于沉积的任何种类的后续室的硅。

20. 发明申请

WO2013060863A1 VERFAHREN ZUR ERZEUGUNG VON TETRAHALOGENSILANEN 审中-公开
标题翻译：用于生产四卤代
公开(公告)号：WO2013060863A1
公开(公告)日：2013-05-02
申请号：PCT/EP2012/071290
申请日：2012-10-26
申请人： AUNER, Norbert
发明人： AUNER, Norbert
IPC分类号： C01B33/107
CPC分类号： C01B33/10747 , C01B33/10705 , C01F7/60
摘要： Es wird ein Verfahren zur Erzeugung von Tetrahalogensilanen (SiX 4 ) (X = Halogen, insbesondere Cl, F) aus aufbereiteten, hochviskose Kohlenwasserstoffe und SiO 2 und/oder Silikate enthaltenen Gesteinsmassen oder den bei einer solchen Aufbereitunganfallenden Rückstandsmassen beschrieben. Bei einerersten Variante des Verfahrens werden die Massen im Halogenwasserstoffstrom erhitzt, und das sich dabei bildende (SiX 4 ) wird aufgefangen oder abdestilliert. Bei einer zweiten Variante werden die Massen mit Flusssäure (HF) und/oder Alkali- oder Erdalkalifluorid und mit Schwefelsäure versetzt, und das sich dabei bildende (SiX 4 ) wird aufgefangen oder abdestilliert. Das Verfahren zeichnet sich durch eine besondershohe Effizienz aus, da der in den Ausgangsmassen bzw. Rückstandsmassen vorhandene Kohlenstoff als Reduktionsmittel bzw. Energieträger effektiv genutzt wird.
摘要翻译：它被再循环至一个用于生产四卤代硅烷的（SiX4）（X =卤素，特别是CI，F），高粘性烃和SiO 2和/或硅酸盐的岩石块包含或这种治疗得到的残余物群众说明。在该方法的第一变型的材料的卤化氢料流在加热，从而形成（SiX4）被收集或通过蒸馏除去。在第二变型中，加入氢氟酸（HF）和/或碱金属或碱土金属的氟化物和硫酸的化合物和由此形成的（SiX4）被收集或通过蒸馏除去。该方法的特征在于特别高的效率，由于存在于原料或残留物质碳被有效地利用作为还原剂或能量载体。

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