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    • 15. 发明申请
    • METHOD OF CREATING A NANO-SIZED RECESS
    • 创建纳米尺寸凹槽的方法
    • WO2017108591A1
    • 2017-06-29
    • PCT/EP2016/081326
    • 2016-12-16
    • KONINKLIJKE PHILIPS N.V.
    • VERSCHUUREN, Marcus, AntoniusVAN DER ZAAG, Pieter, Jan
    • G01N33/487
    • G01N33/48721
    • The invention relates to creating a nano-sized recess into a layer of material. For that, a first layer (100) is provided, which defines a first recess (101). The first layer (100) is then conformally covered with a second layer (107) such that the second layer evenly covers the boundaries of the first recess. In this way, the second layer defines a nano-sized recess. Furthermore, the invention relates to using such a structure with a second nano-sized recess for etching a nanoslit into a graphene layer. Furthermore, such a graphene layer with a nanoslit is described to be used for creating a crossed-nanoslit device for sequencing molecules.
    • 本发明涉及在材料层中形成纳米尺寸的凹陷。 为此,提供了第一层(100),其限定第一凹部(101)。 然后用第二层(107)共形地覆盖第一层(100),使得第二层均匀地覆盖第一凹槽的边界。 这样,第二层限定了纳米尺寸的凹陷。 此外,本发明涉及使用具有第二纳米尺寸的凹部的这种结构用于将纳米狭缝蚀刻成石墨烯层。 此外,这种具有纳米缝的石墨烯层被描述为用于创建用于测序分子的交叉纳米器件。