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11. 发明授权

US08686109B2 Methods and materials for removing metals in block copolymers 有权
标题翻译：用于去除嵌段共聚物中金属的方法和材料
公开(公告)号：US08686109B2
公开(公告)日：2014-04-01
申请号：US13416669
申请日：2012-03-09
申请人： Jian Yin , Hengpeng Wu , Muthiah Thiyagarajan , SungEun Hong , Mark Neisser , Yi Cao
发明人： Jian Yin , Hengpeng Wu , Muthiah Thiyagarajan , SungEun Hong , Mark Neisser , Yi Cao
IPC分类号： C08F6/00 , C08G63/02
CPC分类号： B05D5/00 , B01D15/361 , B01J39/05 , B01J41/07 , B01J45/00 , B05D1/005 , B05D3/00 , C08F6/02 , C08J3/00 , C08L53/00
摘要： The present invention relates to a method for treating a block copolymer solution, wherein the method comprises: providing a solution comprising a block copolymer in a non aqueous solvent; and, treating the solution to remove metals using an ion exchange resin. The invention also relates to a method of forming patterns using the treated block copolymer.
摘要翻译：本发明涉及一种处理嵌段共聚物溶液的方法，其中该方法包括：在非水溶剂中提供包含嵌段共聚物的溶液; 并使用离子交换树脂处理该溶液以除去金属。本发明还涉及使用经处理的嵌段共聚物形成图案的方法。

12. 发明授权

US08329387B2 Antireflective coating compositions 有权
标题翻译：防反射涂料组合物
公开(公告)号：US08329387B2
公开(公告)日：2012-12-11
申请号：US12133567
申请日：2008-07-08
申请人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Jian Yin , Hengpeng Wu , Mark Neisser , Ralph Dammel
发明人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Jian Yin , Hengpeng Wu , Mark Neisser , Ralph Dammel
IPC分类号： G03F7/11 , G03F7/38 , G03F7/40 , C08G73/06 , C08G73/10 , C08G18/71
CPC分类号： G03F7/091 , C08G63/6854 , C08G73/0273 , C08G73/06 , C08G73/0638 , C08G73/0644 , C08G73/0677 , C08L79/04 , C09D167/00 , C09D179/04
摘要： The present invention relates to an antireflective coating composition comprising a novel polymer without an aromatic chromophore, where the polymer comprises a structural unit derived from an aminoplast and a structural unit derived from a diol, triol, dithiol, trithiol, other polyols, diacid, triacid, other polyacids, diimide or mixture thereof, where the diol, dithiol, triol, trithiol, diacid, triacid, diimide, diamide or imide-amide optionally contain one or more nitrogen and/or sulfur atoms or contain one or more alkene groups. The invention also relates to the novel polymer and a process for using the novel antireflective coating composition in a lithographic process.
摘要翻译：本发明涉及一种抗反射涂料组合物，其包含没有芳族发色团的新型聚合物，其中聚合物包含衍生自氨基塑料的结构单元和衍生自二醇，三醇，二硫醇，三硫醇，其它多元醇，二酸，三酸的结构单元，其它多元酸，二酰亚胺或其混合物，其中二醇，二硫醇，三醇，三硫醇，二酸，三酸，二酰亚胺，二酰胺或酰亚胺 - 酰胺任选地含有一个或多个氮和/或硫原子或含有一个或多个烯烃基团。本发明还涉及新型聚合物和在光刻工艺中使用新型抗反射涂料组合物的方法。

13. 发明申请

US20090035704A1 Underlayer Coating Composition Based on a Crosslinkable Polymer 审中-公开
标题翻译：基于可交联聚合物的底层涂料组合物
公开(公告)号：US20090035704A1
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：US11833361
申请日：2007-08-03
申请人： Hong Zhuang , Huirong Yao , Hengpeng Wu , Mark Neisser , Weihong Liu , Jianhui Shan , Zhong Xiang
发明人： Hong Zhuang , Huirong Yao , Hengpeng Wu , Mark Neisser , Weihong Liu , Jianhui Shan , Zhong Xiang
IPC分类号： G03C1/00 , G03C5/00
CPC分类号： C09D163/00 , C09D133/06 , C09D167/00 , G03F7/091
摘要： The present invention relates to an underlayer coating composition capable of being crosslinked comprising a polymer, a compound capable of generating a strong acid, and optionally a crosslinker, where the polymer comprises at least one absorbing chromophore and at least one moiety selected from an epoxy group, an aliphatic hydroxy group and mixtures thereof.The invention further relates to a process of imaging the underlayer coating compositions.
摘要翻译：本发明涉及能够交联的底层涂料组合物，其包含聚合物，能够产生强酸的化合物和任选的交联剂，其中聚合物包含至少一个吸收发色团和至少一个选自环氧基的部分，脂族羟基及其混合物。本发明还涉及对下层涂料组合物进行成像的方法。

14. 发明授权

US08026040B2 Silicone coating composition 有权
标题翻译：硅胶涂料组合物
公开(公告)号：US08026040B2
公开(公告)日：2011-09-27
申请号：US11676673
申请日：2007-02-20
申请人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
发明人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
IPC分类号： G03F7/40 , G03F7/075 , G03F7/11
CPC分类号： C09D183/04 , C08G77/06
摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.
摘要翻译：本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。

15. 发明申请

US20100009297A1 Antireflective Coating Compositions 有权
标题翻译：防反射涂料组合物
公开(公告)号：US20100009297A1
公开(公告)日：2010-01-14
申请号：US12133567
申请日：2008-07-08
申请人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Jian Yin , Hengpeng Wu , Mark Neisser , Ralph Dammel
发明人： Huirong Yao , Guanyang Lin , Jian Yin , Hengpeng Wu , Mark Neisser , Ralph Dammel
IPC分类号： G03F7/20 , C08G75/04 , C08G69/08 , C08G75/00 , C08G73/00 , B05D5/06 , C08G73/06 , C08G18/71 , C08G16/00
CPC分类号： G03F7/091 , C08G63/6854 , C08G73/0273 , C08G73/06 , C08G73/0638 , C08G73/0644 , C08G73/0677 , C08L79/04 , C09D167/00 , C09D179/04
摘要： Antireflective coatings and related polymers are disclosed.
摘要翻译：公开了抗反射涂层和相关聚合物。

16. 发明申请

US20080196626A1 SILICONE COATING COMPOSITION 有权
标题翻译：硅胶涂料组合物
公开(公告)号：US20080196626A1
公开(公告)日：2008-08-21
申请号：US11676673
申请日：2007-02-20
申请人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
发明人： Hengpeng Wu , WooKyu Kim , Hong Zhuang , PingHung Lu , Mark Neisser , David Abdallah , Ruzhi Zhang
IPC分类号： G03C1/46 , C04B28/26 , G03C8/00 , C08G77/20
CPC分类号： C09D183/04 , C08G77/06
摘要： The present invention relates to a composition comprising: (a) a polymer having at least one repeating unit of formula where R1 is a non-hydrolysable group and n is an integer ranging from 1 to 3; and (b) a crosslinking catalyst. The composition is useful in forming low k dielectric constant materials and as well as hard mask and underlayer materials with anti-reflective properties for the photolithography industry.
摘要翻译：本发明涉及一种组合物，其包含：（a）具有至少一个下式的重复单元的聚合物，其中R 1是不可水解基团，n是1至3的整数; 和（b）交联催化剂。该组合物可用于形成低k介电常数材料，以及具有用于光刻工业的抗反射特性的硬掩模和底层材料。

17. 发明申请

US20100248137A1 Antireflective Coating Compositons 有权
标题翻译：防反射涂料组合物
公开(公告)号：US20100248137A1
公开(公告)日：2010-09-30
申请号：US12797949
申请日：2010-06-10
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , C08L67/00 , C08L63/00
CPC分类号： C08L81/06 , C08G75/20 , C09D165/00 , C09D181/06 , Y10S438/952
摘要： The present invention discloses novel bottom anti-reflective coating compositions where a coating from the composition has an etch rate that can be regulated by the etch plate temperature.
摘要翻译：本发明公开了新型底部抗反射涂层组合物，其中来自组合物的涂层具有可通过蚀刻板温度调节的蚀刻速率。

18. 发明申请

US20060228645A1 Nanocomposite photosensitive composition and use thereof 有权
标题翻译：纳米复合光敏组合物及其用途
公开(公告)号：US20060228645A1
公开(公告)日：2006-10-12
申请号：US11103134
申请日：2005-04-11
申请人： Chunwei Chen , Ping-Hung Lu , Hong Zhuang , Mark Neisser
发明人： Chunwei Chen , Ping-Hung Lu , Hong Zhuang , Mark Neisser
IPC分类号： G03C1/00
CPC分类号： G03F7/0047 , G03F7/027 , G03F7/0382 , Y10S430/106
摘要： The present invention relates to a photoresist composition suitable for image-wise exposure and development as a negative photoresist comprising a negative photoresist composition and an inorganic particle material having an average particle size equal or greater than 10 nanometers, wherein the thickness of the photoresist coating film is greater than 5 microns. The negative photoresist composition is selected from (1) a composition comprising (i) a resin binder, (ii) a photoacid generator, and (iii) a cross-linking agent; or (2) a composition comprising (i) a resin binder, (ii) optionally, addition-polymerizeable, ethylenically unsaturated compound(s) and (iii) a photoinitiator; or (3) a composition comprising (i) a photopolymerizable compound containing at least two pendant unsaturated groups; (ii) ethylenically unsaturated photopolymerizable polyalkylene oxide hydrophilic compound(s); and (iii) a photoinitiator
摘要翻译：本发明涉及一种光刻胶组合物，其适用于作为负性光致抗蚀剂的成像曝光和显影，其包含负性光致抗蚀剂组合物和平均粒度等于或大于10纳米的无机颗粒材料，其中光致抗蚀剂涂膜的厚度大于5微米。负光致抗蚀剂组合物选自（1）包含（i）树脂粘合剂，（ii）光致酸产生剂和（iii）交联剂）的组合物; 或（2）组合物，其包含（i）树脂粘合剂，（ii）任选的可加成聚合的烯属不饱和化合物和（iii）光引发剂; 或（3）包含（i）含有至少两个侧链不饱和基团的光聚合化合物的组合物; （ii）烯属不饱和光聚合聚环氧烷亲水化合物; 和（iii）光引发剂

19. 发明授权

US08211621B2 Antireflective coating compositions 有权
标题翻译：防反射涂料组合物
公开(公告)号：US08211621B2
公开(公告)日：2012-07-03
申请号：US12797949
申请日：2010-06-10
申请人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
发明人： David Abdallah , Francis Houlihan , Mark Neisser
IPC分类号： G03F7/30 , G03F7/11 , C08L63/00 , C08L67/00
CPC分类号： C08L81/06 , C08G75/20 , C09D165/00 , C09D181/06 , Y10S438/952
摘要： The present invention discloses novel bottom anti-reflective coating compositions where a coating from the composition has an etch rate that can be regulated by the etch plate temperature.
摘要翻译：本发明公开了新型底部抗反射涂层组合物，其中来自组合物的涂层具有可通过蚀刻板温度调节的蚀刻速率。

20. 发明申请

US20110300488A1 Antireflective Coating Composition and Process Thereof 有权
标题翻译：防反射涂料组合物及其工艺
公开(公告)号：US20110300488A1
公开(公告)日：2011-12-08
申请号：US12792994
申请日：2010-06-03
申请人： Huirong Yao , Jain Yin , Guanyang Lin , Mark Neisser , David Abdallah
发明人： Huirong Yao , Jain Yin , Guanyang Lin , Mark Neisser , David Abdallah
IPC分类号： G03F7/20 , F21V9/06
CPC分类号： G03F7/091 , G02B1/04 , G02B1/111 , G03F7/0046 , C08L33/16 , C08L33/24 , C08L33/066 , C08L61/20 , C08L79/08
摘要： The invention related to an antireflective coating comprising a mixture of a first polymer and a second polymer, and a thermal acid generator, where the first polymer comprises at least one fluoroalcohol moiety, at least one aliphatic hydroxyl moiety, and at least one acid moiety other than fluoroalcohol with a pKa in the range of about 8 to about 11; where the second polymer is a reaction product of an aminoplast compound with a compound comprising at least one hydroxyl and/or at least one acid group. The invention further relates to a process for using the novel composition to form an image.
摘要翻译：本发明涉及包含第一聚合物和第二聚合物和热酸产生剂的混合物的抗反射涂层，其中第一聚合物包含至少一个氟代醇部分，至少一个脂族羟基部分和至少一个酸部分其它而pKa在约8至约11的范围内的氟代醇; 其中第二聚合物是氨基塑料化合物与包含至少一个羟基和/或至少一个酸基团的化合物的反应产物。本发明还涉及使用该组合物形成图像的方法。

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