专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

TWI395656B 壓印微影方法及裝置有权
简体标题：压印微影方法及设备
公开(公告)号：TWI395656B
公开(公告)日：2013-05-11
申请号：TW098143713
申请日：2009-12-18
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：威斯特珊德弗瑞德瑞克 , WUISTER, SANDER FREDERIK , 迪卡蔓喬漢夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK , 可路特史坦曼伊娃溫迪拉 , KRUIJT-STEGEMAN, YVONNE WENDELA , 藍姆司賈諾哈曼 , LAMMERS, JEROEN HERMAN , 凡德坦斐爾林德特 , VAN DER TEMPEL, LEENDERT
IPC分类号： B29C59/02
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00

12. 发明专利

TW201313073A 輻射源、用於微影裝置之方法及元件製造方法审中-公开
简体标题：辐射源、用于微影设备之方法及组件制造方法
公开(公告)号：TW201313073A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101126374
申请日：2012-07-20
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陸普斯特愛瑞克羅伊洛夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 迪卡蔓喬漢夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/003 , B05B1/086 , B05B1/24 , B05B17/0607 , H05G2/005 , H05G2/006
摘要：一種用於藉由LPP(雷射產生電漿)或(雙雷射電漿)自一熔融燃料小滴串流產生EUV之輻射源，其具有：一燃料小滴產生器，其經配置以提供一燃料小滴串流；及至少一雷射，其經組態以汽化該等燃料小滴中至少一些，藉以產生輻射。該燃料小滴產生器具有噴嘴、饋送腔室及儲集器，其中一抽汲元件經配置以將呈熔融狀態之一燃料流自該儲集器供應通過該饋送腔室且離開該噴嘴以作為一小滴串流。該饋送腔室具有接觸經填充有一液體之一驅動空腔之一外面，且該液體受到一振動器驅動以振盪，其中該振盪可自該饋送腔室之該外面通過該液體而傳輸至該饋送腔室中之該熔融燃料。該配置准許一噴嘴饋送腔室之振盪驅動控制燃料串流成為小滴之破裂，而無需一振動器與該燃料噴嘴饋送腔室之間的直接接觸。此情形可縮減經由接觸破壞而造成自振動器至饋送腔室之傳輸損失的風險，且可允許該振動器在一經冷卻部位處之遠端定位以達成有效率操作。
简体摘要：一种用于借由LPP(激光产生等离子)或(双激光等离子)自一熔融燃料小滴串流产生EUV之辐射源，其具有：一燃料小滴产生器，其经配置以提供一燃料小滴串流；及至少一激光，其经组态以汽化该等燃料小滴中至少一些，借以产生辐射。该燃料小滴产生器具有喷嘴、馈送腔室及储集器，其中一抽汲组件经配置以将呈熔融状态之一燃料流自该储集器供应通过该馈送腔室且离开该喷嘴以作为一小滴串流。该馈送腔室具有接触经填充有一液体之一驱动空腔之一外面，且该液体受到一振动器驱动以振荡，其中该振荡可自该馈送腔室之该外面通过该液体而传输至该馈送腔室中之该熔融燃料。该配置准许一喷嘴馈送腔室之振荡驱动控制燃料串流成为小滴之破裂，而无需一振动器与该燃料喷嘴馈送腔室之间的直接接触。此情形可缩减经由接触破坏而造成自振动器至馈送腔室之传输损失的风险，且可允许该振动器在一经冷却部位处之远程定位以达成有效率操作。

13. 发明专利

TWI584697B 輻射源與微影裝置有权
简体标题：辐射源与微影设备
公开(公告)号：TWI584697B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102101865
申请日：2013-01-17
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：迪卡蔓喬漢夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK , 哈爾特曼斯羅蘭德強納斯 , HULTERMANS, RONALD JOHANNES , 坎班丹東尼斯帝朵勒懷慕斯 , KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS , 巴帝瑞敏 , BADIE, RAMIN
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/006 , G03F7/70033 , G03F7/70908 , G03F7/70916 , H05G2/005

14. 发明专利

TWI576014B 輻射源、微影裝置、燃料小滴產生器及用於製造一幅射之方法有权
简体标题：辐射源、微影设备、燃料小滴产生器及用于制造一幅射之方法
公开(公告)号：TWI576014B
公开(公告)日：2017-03-21
申请号：TW101126374
申请日：2012-07-20
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：陸普斯特愛瑞克羅伊洛夫 , LOOPSTRA, ERIK ROELOF , 迪卡蔓喬漢夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK
IPC分类号： H05G2/00 , G03F7/20
CPC分类号： H05G2/003 , B05B1/086 , B05B1/24 , B05B17/0607 , H05G2/005 , H05G2/006

15. 发明专利

TWI486705B 使用自組聚合物之微影技術有权
简体标题：使用自组聚合物之微影技术
公开(公告)号：TWI486705B
公开(公告)日：2015-06-01
申请号：TW100127615
申请日：2011-08-03
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：庫爾羅伊洛夫 , KOOLE, ROELOF , 迪卡蔓喬漢夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK , 威斯特山達佛芮得瑞克 , WUISTER, SANDER FREDERIK , 彼得斯愛蜜麗 , PEETERS, EMIEL
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/26 , H01L21/027
CPC分类号： B44C1/227 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B81C2201/0198 , G03F7/0002 , H01L21/0337

16. 发明专利

TWI428710B 壓印微影術有权
简体标题：压印微影术
公开(公告)号：TWI428710B
公开(公告)日：2014-03-01
申请号：TW100123219
申请日：2006-12-19
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：威斯特珊德弗瑞德瑞克 , WUISTER, SANDER FREDERIK , 狄克曼喬哈弗瑞德瑞克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK , 可路特史坦曼伊娃溫迪拉 , KRUIJT-STEGEMAN, YVONNE WENDELA
IPC分类号： G03F7/20 , B29C59/02
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/11 , G03F7/201

17. 发明专利

TW201337474A 輻射源與微影裝置审中-公开
简体标题：辐射源与微影设备
公开(公告)号：TW201337474A
公开(公告)日：2013-09-16
申请号：TW102107072
申请日：2013-02-27
申请人： ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B. V.
发明人：坎班丹東尼斯帝朵勒懷慕斯 , KEMPEN, ANTONIUS THEODORUS WILHELMUS , 迪卡蔓喬漢夫德克 , DIJKSMAN, JOHAN FREDERIK , 梅斯特羅姆威爾柏杰恩 , MESTROM, WILBERT JAN
IPC分类号： G03F7/20 , H05G2/00
CPC分类号： H05G2/006 , B05B17/0653 , G03F7/70033 , G03F7/70058 , G03F7/7085 , G03F7/709 , G03F7/70916
摘要：本發明提供一種監視一輻射源燃料小滴串流產生器之操作之方法，該輻射源燃料小滴串流產生器包含一含燃料毛細管及一壓電致動器。該方法包含分析包含該含燃料毛細管及該壓電致動器之一系統之諧振頻譜，尤其以尋找聲學系統之諧振頻率之改變，該等改變可指示需要調查的該系統之屬性之一改變。
简体摘要：本发明提供一种监视一辐射源燃料小滴串流产生器之操作之方法，该辐射源燃料小滴串流产生器包含一含燃料毛细管及一压电致动器。该方法包含分析包含该含燃料毛细管及该压电致动器之一系统之谐振频谱，尤其以寻找声学系统之谐振频率之改变，该等改变可指示需要调查的该系统之属性之一改变。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式