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11. 发明专利

JP2011199302A Apparatus for inspecting object, especially mask in microlithography 审中-公开
标题翻译：用于检查对象的设备，特别是在微型计算机中的屏蔽
公开(公告)号：JP2011199302A
公开(公告)日：2011-10-06
申请号：JP2011114920
申请日：2011-05-23
申请人： Carl Zeiss Sms Gmbh , カールツァイスエスエムエスゲーエムベーハー
发明人： DOBSCHAL HANS-JUERGEN , HARNISCH WOLFGANG , SCHERUEBL THOMAS , ROSENKRANZ NORBERT , SEMMLER RALPH
IPC分类号： H01L21/027 , G01N21/956 , G03F1/00
CPC分类号： B82Y10/00 , B82Y40/00 , G01N21/956 , G03F1/24 , G03F1/84
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an apparatus for inspecting an object such as a mask for microlithography.SOLUTION: The apparatus for inspecting an object OF such as, especially, a mask for microlithography that is present in a vacuum chamber includes a converter for converting illuminating light emitted from the object into a light ray of a further large wavelength, and a sensor for recording an image, wherein the sensor is disposed outside the vacuum chamber and arranged as an optical interface from the vacuum chamber to the sensor of the converter or at least one part of an image-forming objective lens O is arranged as a window in the vacuum chamber.
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于检查诸如用于微光刻的掩模的物体的装置。解决方案：用于检查诸如特别是存在于真空室中的用于微光刻的掩模的物体的装置包括用于转换的转换器将从物体发射的光照射成更大波长的光线，以及用于记录图像的传感器，其中传感器设置在真空室外部并且被布置为从真空室到转换器的传感器的光学界面，图像形成物镜O的至少一部分被设置在真空室中作为窗口。

12. 发明专利

JP2006023303A Image-forming system for emulating large-diameter scanner system 审中-公开
标题翻译：用于模拟大直径扫描仪系统的图像形成系统
公开(公告)号：JP2006023303A
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：JP2005196588
申请日：2005-07-05
申请人： Carl Zeiss Sms Gmbh , カールツアイスエスエムエスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
发明人： GREIF-WUESTENBECKER JOERN , TOTZECK MICHAEL , STROESSNER ULRICH
IPC分类号： G01N21/956 , G03F1/08
CPC分类号： G03F7/70566 , G02B21/002 , G02B27/286 , G03F7/70666
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an optical image-forming system for test microscopes in which a lithography mask can inspect defects by the help of an inspection microscope having a large magnification although the lithography mask is in a structure that continues to shrink and at an image formation side NA of an image-forming system that continues to expand, and the real image of the scanner system can test errors by the emulation of especially a large-diameter scanner system for creating emulation having an appearing vector effect. SOLUTION: The image-forming system for emulating the large-diameter scanner system comprises an image-forming optical system, a detector, and an evaluation unit. An optical component having at least one polarization effect is arranged according to a selection for picking out diversified polarization components x, y, z for image formation radiation in an image formation optical path. The optical components having an intensity attenuation function can be brought into the image formation optical path. An image is captured by a detector for radiation components in which mask and/or sample images are polarized diversely for further guiding for further processing to the evaluation unit. COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：为了提供用于测试显微镜的光学成像系统，其中光刻掩模可以借助具有大放大率的检查显微镜来检测缺陷，尽管光刻掩模处于继续收缩的结构并且在图像形成系统的图像形成侧NA继续扩展，并且扫描仪系统的真实图像可以通过特别是用于创建具有出现的矢量效应的仿真的大直径扫描器系统的仿真来测试误差。解决方案：用于模拟大直径扫描器系统的图像形成系统包括成像光学系统，检测器和评估单元。具有至少一种偏振效应的光学部件根据用于选择图像形成光路中的图像形成用射线的多种偏振分量x，y，z的选择来配置。具有强度衰减功能的光学部件可以被带入图像形成光路。由用于辐射成分的检测器捕获图像，其中掩模和/或样品图像被不同地偏振，以进一步引导以进一步处理到评估单元。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

13. 发明专利

JP2016146491A ガリウムで汚染された層の電子ビーム誘起エッチング方法审中-公开
标题翻译：电子束诱导用GALLIUM污染的层的蚀刻方法
公开(公告)号：JP2016146491A
公开(公告)日：2016-08-12
申请号：JP2016032382
申请日：2016-02-23
申请人：カールツァイスエスエムエスゲーエムベーハー , Carl Zeiss SMS GmbH
发明人：ニコールオウス , ペトラシュピース , ライナーベッカー , トルステンホフマン , クラウスエーディンガー
IPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/66 , H01L21/302
CPC分类号： H01L21/3065 , H01J37/3056 , H01L21/31116 , H01L21/32136
摘要：【課題】ガリウムで汚染された層の電子ビーム誘起エッチング方法を提供する。【解決手段】エッチングガスとして、少なくとも1種類の第1ハロゲン化合物を、電子ビームが層90に衝突する位置に供給する方法ステップ、および、ガリウムを同位置において除去する前駆体ガスとして、少なくとも1種類の第2ハロゲン化合物を供給する方法ステップ、を含む。【選択図】図1
摘要翻译：要解决的问题：提供一种电子束感应蚀刻由镓污染的层的方法。解决方案：电子束诱导蚀刻层的方法包括以下步骤：将至少一种第一卤素化合物作为蚀刻气体供应到电子束撞击层90的位置; 并提供至少一种第二卤素化合物作为用于去除位置上的镓的前体气体。选择的图示：图1

14. 发明专利

JP5925491B2 電子ビーム誘起エッチング方法有权
标题翻译：电子束诱导的蚀刻方法
公开(公告)号：JP5925491B2
公开(公告)日：2016-05-25
申请号：JP2011522438
申请日：2009-08-13
申请人：カールツァイスエスエムエスゲーエムベーハー , Carl Zeiss SMS GmbH
发明人：ニコールオウス , ペトラシュピース , ライナーベッカー , トルステンホフマン , クラウスエーディンガー
IPC分类号： G03F1/72 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/244 , H01J37/305 , H01L21/302
CPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/31116 , H01L21/32136

15. 发明专利

JP2006023307A Microscope focusing system, and method especially for inspecting mask for emulating high-aperture focusing system 有权
标题翻译：微观聚焦系统，特别是用于检测面罩模拟高光聚焦系统的方法
公开(公告)号：JP2006023307A
公开(公告)日：2006-01-26
申请号：JP2005199482
申请日：2005-07-08
申请人： Carl Zeiss Sms Gmbh , カールツアイスエスエムエスゲゼルシャフトミットベシュレンクテルハフツング
发明人： HARNISCH WOLFGANG , SCHERUEBL THOMAS , ROSENKRANZ NORBERT , SCHUSTER KARL-HEINZ , GREIF-WUESTENBECKER JOERN , TOTZECK MICHAEL , STROESSNER ULRICH , GRUNER TORALF , FELDMANN HEIKO
IPC分类号： G01N21/956 , G02B21/36
CPC分类号： G03F7/70566 , G02B5/3025 , G02B21/0016 , G03F7/70666 , Y10S359/90
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for especially inspecting a mask for emulating a microscope focusing system and a high-aperture focusing system, and to provide an optical focusing system for inspecting the defects of a lithography mask especially by the emulation of the high-aperture scanner system.
SOLUTION: The optical focusing system comprises a focusing optical system, a detector, and an evaluation unit. A polarization optical component is arranged in a focusing optical path for selecting diversified polarization components in focusing rays in the optical path for generating a diversified polarization state in illumination light, can be installed in the focusing optical path of an optical element having A polarization-dependent intensity attenuation function, and is recorded for each polarization ray component in which the focusing of masks or samples differs for each detector for sending to the evaluation unit. The defects of the lithography mask can be inspected, by utilizing an inspection microscope based on a proposed solution method. The actual image of the scanner system can be formed by emulating a vector effect that manifests itself.
COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI
摘要翻译：要解决的问题：提供一种用于特别检查用于模拟显微镜聚焦系统和高孔径聚焦系统的掩模的方法，并且提供用于检查光刻掩模的缺陷的光学聚焦系统，特别是通过仿真的高光圈扫描仪系统。解决方案：光学聚焦系统包括聚焦光学系统，检测器和评估单元。偏振光学部件被布置在聚焦光路中，用于选择用于在照明光中产生多种偏振状态的光路中的聚焦光线中的多种偏振分量，可以安装在具有偏振相关性的光学元件的聚焦光路中强度衰减功能，并且针对每个用于发送给评估单元的每个检测器的掩模或样本的聚焦不同的每个偏振光分量被记录。可以通过使用基于提出的解决方法的检查显微镜来检查光刻掩模的缺陷。扫描仪系统的实际图像可以通过模拟自身显示的矢量效果来形成。版权所有（C）2006，JPO＆NCIPI

16. 发明专利

JP2011530822A Electron-beam-induced etching method 有权
公开(公告)号：JP2011530822A
公开(公告)日：2011-12-22
申请号：JP2011522438
申请日：2009-08-13
申请人：カールツァイスエスエムエスゲーエムベーハーCarl Zeiss SMS GmbH
发明人：エーディンガークラウス , ホフマントルステン , オウスニコール , シュピースペトラ , ベッカーライナー
IPC分类号： H01L21/302 , G03F1/16 , H01J37/16 , H01J37/18 , H01J37/244 , H01J37/305
CPC分类号： H01L21/3065 , H01L21/31116 , H01L21/32136
摘要： In a semiconductor etching process an etching gas is directed at a layer of silicon at the same time as an electron beam, together with a passivation gas that slows or prevents the spontaneous etching process. The etching gas is Xenon-difluoride and the passivation gas is ammonia.

17. 发明专利

TWI529386B 決定微影光罩之性能的方法有权
简体标题：决定微影光罩之性能的方法
公开(公告)号：TWI529386B
公开(公告)日：2016-04-11
申请号：TW100119555
申请日：2011-06-03
申请人：卡爾塞斯半導體計量系統有限公司 , CARL ZEISS SMS GMBH
发明人：魏布林根馬庫斯 , WAIBLINGER, MARKUS , 布達施麥可 , BUDACH, MICHAEL , 史凱路伯爾湯瑪士 , 拜爾德克 , BEYER, DIRK
IPC分类号： G01N21/88 , G03F1/00
CPC分类号： H01J37/28 , G01N23/2208 , G01N23/2251 , G01N2223/072 , G01N2223/079 , G03F1/24 , G03F1/86

18. 发明专利

TWI501049B 對於分區曝光之物體而測量其中一區之相對局部位置誤差之方法與裝置有权
简体标题：对于分区曝光之物体而测量其中一区之相对局部位置误差之方法与设备
公开(公告)号：TWI501049B
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW098140295
申请日：2009-11-26
申请人：卡爾塞斯半導體計量系統有限公司 , CARL ZEISS SMS GMBH
发明人：拜爾德克 , BEYER, DIRK , 哈尼區渥夫剛 , HARNISCH, WOLFGANG , 史凱路伯爾湯瑪士 , 安茲麥可 , ARNZ, MICHAEL
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70633 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F1/84 , G03F7/70616 , H01J37/3174

19. 发明专利

TW201438060A 使用粒子束在製程中保護基板的方法及裝置审中-公开
简体标题：使用粒子束在制程中保护基板的方法及设备
公开(公告)号：TW201438060A
公开(公告)日：2014-10-01
申请号：TW103107166
申请日：2014-03-04
申请人：卡爾塞斯半導體計量系統有限公司 , CARL ZEISS SMS GMBH
发明人：霍夫曼松斯頓 , HOFMANN, THORSTEN , 布瑞特崔斯坦 , BRET, TRISTAN , 史派斯派翠 , SPIES, PETRA , 奧斯妮可 , AUTH, NICOLE , 布達施麥可 , BUDACH, MICHAEL , 庫加斯達加納 , CUJAS, DAJANA
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F1/72
摘要：本發明說明揭露使用至少一粒子束在製程中保護基板的方法及裝置。該方法包含以下步驟：(a)在該基板上施加局部受限的保護層；(b)使用該至少一粒子束及至少一氣體蝕刻該基板及/或配置於該基板上的層；及/或(c)使用該至少一粒子束及至少一前驅物氣體沉積材料至該基板上；以及(d)從該基板去除該局部受限的保護層。
简体摘要：本发明说明揭露使用至少一粒子束在制程中保护基板的方法及设备。该方法包含以下步骤：(a)在该基板上施加局部受限的保护层；(b)使用该至少一粒子束及至少一气体蚀刻该基板及/或配置于该基板上的层；及/或(c)使用该至少一粒子束及至少一前驱物气体沉积材料至该基板上；以及(d)从该基板去除该局部受限的保护层。

20. 发明专利

TW200839465A 光罩量測裝置及光罩測量方法 MASK METROLOGY APPARATUS AND MEASURING METHOD FOR A MASK 审中-公开
简体标题：光罩量测设备及光罩测量方法 MASK METROLOGY APPARATUS AND MEASURING METHOD FOR A MASK
公开(公告)号：TW200839465A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：TW096143840
申请日：2007-11-20
申请人：卡爾蔡斯半導體度量系統公司 CARL ZEISS SMS GMBH
发明人：郭永邦 YIM-BUN PATRICK KWAN , 史帝芬贊爾特 STEFAN XALTER
IPC分类号： G03F , G01B
CPC分类号： G03F7/70825 , G03F1/84 , G03F7/707 , G03F7/70741 , G03F7/70775 , G03F7/70783 , G03F9/7003 , G03F9/7084
摘要：提供一種光罩量測裝置(1),其包含:一光罩固持器(2),用於固持一個光罩(3),而該光罩則具有一個具有複數個標記(4)的物體平面;一光罩定位裝置(5),用於將該光罩固持器定位於預定位置中;測量光學器件(6),用於測量由該光罩固持器(2)所固持的光罩(3)之該等標記(4)之位置,其中,該光罩固持器(2)以實質上平行於重力方向的物體平面來固持該光罩(3),且以一相抵於重力的均勻分布力而沿著該光罩(3)之水平邊緣(13、35)來支撐該光罩(3)。
简体摘要：提供一种光罩量测设备(1),其包含:一光罩固持器(2),用于固持一个光罩(3),而该光罩则具有一个具有复数个标记(4)的物体平面;一光罩定位设备(5),用于将该光罩固持器定位于预定位置中;测量光学器件(6),用于测量由该光罩固持器(2)所固持的光罩(3)之该等标记(4)之位置,其中,该光罩固持器(2)以实质上平行于重力方向的物体平面来固持该光罩(3),且以一相抵于重力的均匀分布力而沿着该光罩(3)之水平边缘(13、35)来支撑该光罩(3)。

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