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    • 18. 发明专利
    • PROCEDE DE PROTECTION TOPIQUE CONTRE DES MOLECULES POLLUANTES ATMOSPHERIQUES ET/OU DES RADICAUX LIBRES FORMES PAR UNE EXPOSITION A UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET
    • FR3081711B1
    • 2020-10-16
    • FR1854745
    • 2018-05-31
    • BIONUCLEI
    • ATHALIN HANTHOREL JEAN-NOEL
    • A61K8/73A61K8/72A61K8/81A61Q19/00
    • Procédé de protection topique, avantageusement sur la peau et/ou muqueuse et/ou phanères, vis-à-vis des molécules polluantes atmosphériques et du rayonnement ultraviolet (UV), comprenant les étapes de : a) former sur la peau et/ou les muqueuses et/ou les phanères une matrice polymérique répulsive et anti-adhésive vis-à-vis des molécules polluantes atmosphériques, au moyen d'un premier polymère biocompatible (PB1) ; b) dégrader par photocatalyse sous l'effet du rayonnement UV les molécules polluantes ayant pénétré dans la matrice polymérique au moyen de premiers colloïdes semi-conducteurs greffés (Col-1) de manière covalente avec un second polymère biocompatible (PB2) différent du premier polymère biocompatible (PB1), entrainant de fait, la formation de radicaux libres ; c) neutraliser lesdits radicaux libres au moyen d'au moins 2 antioxydants respectivement : - un premier antioxydant se présentant sous la forme de seconds colloïdes semi-conducteurs (Col-2) greffés de manière covanlente avec ledit premier antioxydant (AntiOx-1) ; les seconds colloïdes (Col-2) greffés s'auto régénérant sous l'action des rayonnements UV par le mécanisme suivant : • régénération du premier antioxydant AntiOx-1) par transfert d'électrons depuis les seconds colloïdes (Col-2) vers ledit premier antioxydant (AntiOx-1), • régénération des seconds colloïdes (Col-2) par exposition à un rayonnement UV, - un second agent antioxydant (AntiOx-2) ne se présentant pas sous la forme de colloïdes greffés avec un antioxydant ; d) stabiliser la matrice polymérique au moyen du second agent antioxydant (AntiOx-2).
    • 19. 发明专利
    • PROCEDE DE PROTECTION TOPIQUE CONTRE DES MOLECULES POLLUANTES ATMOSPHERIQUES ET/OU DES RADICAUX LIBRES FORMES PAR UNE EXPOSITION A UN RAYONNEMENT ULTRAVIOLET
    • FR3081711A1
    • 2019-12-06
    • FR1854745
    • 2018-05-31
    • BIONUCLEI
    • ATHALIN HANTHOREL JEAN-NOEL
    • A61K8/73A61K8/72A61K8/81A61Q19/00
    • Procédé de protection topique, avantageusement sur la peau et/ou muqueuse et/ou phanères, vis-à-vis des molécules polluantes atmosphériques et du rayonnement ultraviolet (UV), comprenant les étapes de : a) former sur la peau et/ou les muqueuses et/ou les phanères une matrice polymérique répulsive et anti-adhésive vis-à-vis des molécules polluantes atmosphériques, au moyen d'un premier polymère biocompatible (PB1) ; b) dégrader par photocatalyse sous l'effet du rayonnement UV les molécules polluantes ayant pénétré dans la matrice polymérique au moyen de premiers colloïdes semi-conducteurs greffés (Col-1) de manière covalente avec un second polymère biocompatible (PB2) différent du premier polymère biocompatible (PB1), entrainant de fait, la formation de radicaux libres ; c) neutraliser lesdits radicaux libres au moyen d'au moins 2 antioxydants respectivement : - un premier antioxydant se présentant sous la forme de seconds colloïdes semi-conducteurs (Col-2) greffés de manière covanlente avec ledit premier antioxydant (AntiOx-1) ; les seconds colloïdes (Col-2) greffés s'auto régénérant sous l'action des rayonnements UV par le mécanisme suivant : • régénération du premier antioxydant AntiOx-1) par transfert d'électrons depuis les seconds colloïdes (Col-2) vers ledit premier antioxydant (AntiOx-1), • régénération des seconds colloïdes (Col-2) par exposition à un rayonnement UV, - un second agent antioxydant (AntiOx-2) ne se présentant pas sous la forme de colloïdes greffés avec un antioxydant ; d) stabiliser la matrice polymérique au moyen du second agent antioxydant (AntiOx-2).