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11. 发明专利

TWI693228B 化學穩定之烷基鋁溶液、烷基鋁水解組合物溶液、鋁氧化物膜塗布形成用組合物、具有鋁氧化物膜之物品、其製造方法、氧化鋁薄膜之製造方法、鈍化膜之製造方法、鈍化膜、使用其之太陽電池元件有权
简体标题：化学稳定之烷基铝溶液、烷基铝水解组合物溶液、铝氧化物膜涂布形成用组合物、具有铝氧化物膜之物品、其制造方法、氧化铝薄膜之制造方法、钝化膜之制造方法、钝化膜、使用其之太阳电池组件
公开(公告)号：TWI693228B
公开(公告)日：2020-05-11
申请号：TW104127392
申请日：2015-08-21
申请人：日商東曹精細化學股份有限公司 , TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人：豊田浩司 , TOYOTA, KOJI , 稲葉孝一郎 , INABA, KOICHIRO , 富安靜夫 , TOMIYASU, SHIZUO , 中俊雄 , NAKA, TOSHIO , 羽賀健一 , HAGA, KENICHI , 宮島晋介 , MIYAJIMA, SHINSUKE
IPC分类号： C07F5/06 , C01F7/02 , B05D3/10 , B32B9/00 , H01L21/316 , H01L31/042

12. 发明专利

TW201829431A 包含鋁合金之組合物及其製造方法、以及三烷基鋁之製造方法审中-公开
简体标题：包含铝合金之组合物及其制造方法、以及三烷基铝之制造方法
公开(公告)号：TW201829431A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106136080
申请日：2017-10-20
申请人：日商東曹精細化學股份有限公司 , TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人：松尾啟史 , MATSUO, HIROSHI , 竹元裕仁 , TAKEMOTO, YUJIN , 迫田孝太郎 , SAKODA, KOTARO , 中俊雄 , NAKA, TOSHIO
IPC分类号： C07F5/06 , C22C21/00 , B22F9/04
摘要：本發明係關於一種包括將鋁合金於烴系溶劑中於有機鋁化合物之存在下進行粉碎之步驟的粒子狀鋁合金及含有該鋁合金之組合物之製造方法；三烷基鋁之製造方法；包括於含氮有機化合物之存在下，使鋁-鎂合金與鹵代烷發生反應而獲得包含三烷基鋁之反應生成物之步驟的三烷基鋁之製造方法。本發明提供一種含有粒子狀鋁合金之高活性低黏度之組合物、及含有該粒子狀鋁合金之組合物之製造方法；使鋁-鎂合金與鹵代烷反應之三烷基鋁之簡便之製造方法。
简体摘要：本发明系关于一种包括将铝合金于烃系溶剂中于有机铝化合物之存在下进行粉碎之步骤的粒子状铝合金及含有该铝合金之组合物之制造方法；三烷基铝之制造方法；包括于含氮有机化合物之存在下，使铝-镁合金与卤代烷发生反应而获得包含三烷基铝之反应生成物之步骤的三烷基铝之制造方法。本发明提供一种含有粒子状铝合金之高活性低黏度之组合物、及含有该粒子状铝合金之组合物之制造方法；使铝-镁合金与卤代烷反应之三烷基铝之简便之制造方法。

13. 发明专利

TW201806868A 氧化鋁形成用組合物及其製造方法、與含有氧化鋅粒子或氧化鋁粒子之聚烯烴系高分子奈米複合物及其製造方法审中-公开
简体标题：氧化铝形成用组合物及其制造方法、与含有氧化锌粒子或氧化铝粒子之聚烯烃系高分子奈米复合物及其制造方法
公开(公告)号：TW201806868A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106116086
申请日：2017-05-16
申请人：東曹精細化學股份有限公司 , TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人：稲葉孝一郎 , INABA, KOICHIRO , 豊田浩司 , TOYOTA, KOUJI , 羽賀健一 , HAGA, KENICHI , 中俊雄 , NAKA, TOSHIO , 谷池俊明 , TANIIKE, TOSHIAKI
IPC分类号： C01F7/02 , C23C18/16 , C08K3/22 , C08L23/00 , C08J3/20 , C08J3/22
CPC分类号： B05D7/04 , C01F7/02 , C01G9/02 , C07F5/06 , C08L23/00 , C23C18/12 , C23C26/00
摘要：第一層面：使用如下氧化鋁形成劑而製造氧化鋁，該氧化鋁形成劑含有包含三烷基鋁或其等之混合物之烷基鋁化合物之部分水解物(以相對於烷基鋁化合物中之鋁而莫耳比為0.5～1.4之範圍之水進行水解而成者)及溶劑(非極性溶劑或非極性溶劑之混合物)。於對極性溶劑無耐性之基材上、基材中亦可製造氧化鋁薄膜、氧化鋁粒子。第二層面：一種聚烯烴系高分子奈米複合物之製造方法，該聚烯烴系高分子奈米複合物含有氧化鋅粒子或氧化鋁粒子，該製造方法使用含有烷基鋅部分水解物之溶液、或含有烷基鋁部分水解物之溶液。一種聚烯烴系高分子奈米複合物，其含有聚烯烴基材及氧化鋅粒子或氧化鋁粒子，不含分散劑，且氧化鋅粒子或氧化鋁粒子之平均粒徑未達100 nm。
简体摘要：第一层面：使用如下氧化铝形成剂而制造氧化铝，该氧化铝形成剂含有包含三烷基铝或其等之混合物之烷基铝化合物之部分水解物(以相对于烷基铝化合物中之铝而莫耳比为0.5～1.4之范围之水进行水解而成者)及溶剂(非极性溶剂或非极性溶剂之混合物)。于对极性溶剂无耐性之基材上、基材中亦可制造氧化铝薄膜、氧化铝粒子。第二层面：一种聚烯烃系高分子奈米复合物之制造方法，该聚烯烃系高分子奈米复合物含有氧化锌粒子或氧化铝粒子，该制造方法使用含有烷基锌部分水解物之溶液、或含有烷基铝部分水解物之溶液。一种聚烯烃系高分子奈米复合物，其含有聚烯烃基材及氧化锌粒子或氧化铝粒子，不含分散剂，且氧化锌粒子或氧化铝粒子之平均粒径未达100 nm。

14. 发明专利

TWI583628B 複合氧化物薄膜製造用組合物及使用該組合物之薄膜之製造方法、與複合氧化物薄膜有权
简体标题：复合氧化物薄膜制造用组合物及使用该组合物之薄膜之制造方法、与复合氧化物薄膜
公开(公告)号：TWI583628B
公开(公告)日：2017-05-21
申请号：TW102114874
申请日：2013-04-25
申请人：東曹精細化學股份有限公司 , TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人：竹元裕仁 , TAKEMOTO, YUJIN , 羽賀健一 , HAGA, KENICHI , 稻葉孝一郎 , INABA, KOICHIRO , 豐田浩司 , TOYOTA, KOUJI , 德留功一 , TOKUDOME, KOUICHI , 吉野賢二 , YOSHINO, KENJI , 小島稔 , OSHIMA, MINORU
IPC分类号： C01G9/02 , H01L21/28 , H01L21/36
CPC分类号： H01L21/02628 , C23C18/1216 , C23C18/1275 , C23C18/1291 , H01L21/02554 , H01L21/02565

15. 发明专利

TW201612185A 化學穩定之烷基鋁溶液、烷基鋁水解組合物溶液、鋁氧化物膜塗布形成用組合物、具有鋁氧化物膜之物品、其製造方法、氧化鋁薄膜之製造方法、鈍化膜之製造方法、鈍化膜、使用其之太陽電池元件审中-公开
简体标题：化学稳定之烷基铝溶液、烷基铝水解组合物溶液、铝氧化物膜涂布形成用组合物、具有铝氧化物膜之物品、其制造方法、氧化铝薄膜之制造方法、钝化膜之制造方法、钝化膜、使用其之太阳电池组件
公开(公告)号：TW201612185A
公开(公告)日：2016-04-01
申请号：TW104127392
申请日：2015-08-21
申请人：東曹精細化學股份有限公司 , TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人：豊田浩司 , TOYOTA, KOJI , 稲葉孝一郎 , INABA, KOICHIRO , 富安靜夫 , TOMIYASU, SHIZUO , 中俊雄 , NAKA, TOSHIO , 羽賀健一 , HAGA, KENICHI , 宮島晋介 , MIYAJIMA, SHINSUKE
IPC分类号： C07F5/06 , C01F7/02 , B05D3/10 , B32B9/00 , H01L21/316 , H01L31/042
CPC分类号： B05D3/02 , B05D7/24 , C01F7/02 , C01F7/30 , Y02E10/50
摘要：本發明揭示一種氧化鋁薄膜之製造方法。 (1)含有烷基鋁化合物或其部分水解物及通式(4)之環狀醯胺化合物之溶液。 (2)將含有通式(6)所表示之有機鋁化合物之部分水解物之組合物於惰性氣體環境下塗佈於基材表面並進行加熱之方法。 (3)將上述通式(6)所示之有機鋁化合物或其部分水解物之有機溶劑溶液進行噴霧塗佈而形成塗佈膜，並進行加熱而形成鋁氧化物膜之方法。 (4)將含有烷基鋁化合物及具有供電子性且不含有活性氫原子之有機溶劑之溶液塗佈於基材，並對所形成之塗膜進行加熱而獲得氧化鋁薄膜之方法。 (5)包含上述溶液之鈍化膜形成劑、使用其之具有鈍化膜之矽基材之製造方法。具有鈍化膜之矽基板及太陽電池元件。
简体摘要：本发明揭示一种氧化铝薄膜之制造方法。 (1)含有烷基铝化合物或其部分水解物及通式(4)之环状酰胺化合物之溶液。 (2)将含有通式(6)所表示之有机铝化合物之部分水解物之组合物于惰性气体环境下涂布于基材表面并进行加热之方法。 (3)将上述通式(6)所示之有机铝化合物或其部分水解物之有机溶剂溶液进行喷雾涂布而形成涂布膜，并进行加热而形成铝氧化物膜之方法。 (4)将含有烷基铝化合物及具有供电子性且不含有活性氢原子之有机溶剂之溶液涂布于基材，并对所形成之涂膜进行加热而获得氧化铝薄膜之方法。 (5)包含上述溶液之钝化膜形成剂、使用其之具有钝化膜之硅基材之制造方法。具有钝化膜之硅基板及太阳电池组件。

16. 发明专利

TWI490222B 二乙基鋅組成物、熱安定化方法及熱安定化用化合物有权
简体标题：二乙基锌组成物、热安定化方法及热安定化用化合物
公开(公告)号：TWI490222B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW099129692
申请日：2010-09-02
申请人：東曹精細化學股份有限公司 , TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人：羽賀健一 , HAGA, KENICHI , 富安靜夫 , TOMIYASU, SHIZUO , 德留功一 , TOKUDOME, KOHICHI
IPC分类号： C07F3/06
CPC分类号： C07F3/06 , C08F4/50 , C08F2410/01

17. 发明专利

TW201402470A 複合氧化物薄膜製造用組合物及使用該組合物之薄膜之製造方法、與複合氧化物薄膜审中-公开
简体标题：复合氧化物薄膜制造用组合物及使用该组合物之薄膜之制造方法、与复合氧化物薄膜
公开(公告)号：TW201402470A
公开(公告)日：2014-01-16
申请号：TW102114874
申请日：2013-04-25
申请人：東曹精細化學股份有限公司 , TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人：竹元裕仁 , TAKEMOTO, YUJIN , 羽賀健一 , HAGA, KENICHI , 稻葉孝一郎 , INABA, KOICHIRO , 豐田浩司 , TOYOTA, KOUJI , 德留功一 , TOKUDOME, KOUICHI , 吉野賢二 , YOSHINO, KENJI , 小島稔 , OSHIMA, MINORU
IPC分类号： C01G9/02 , H01L21/28 , H01L21/36
CPC分类号： H01L21/02628 , C23C18/1216 , C23C18/1275 , C23C18/1291 , H01L21/02554 , H01L21/02565
摘要：本發明提供一種可利用噴霧熱分解法等成膜可應用於氧化物半導體膜等之複合氧化物薄膜之組合物及使用該組合物成膜複合氧化物薄膜之方法。本發明係關於一種複合氧化物製造用組合物，其含有選自由鋅元素及3B族元素所組成之群中之至少1種元素、與選自由4A族元素及4B族元素所組成之群中之至少1種元素。本發明之組合物含有選自由含有鋅元素之化合物及含有3B族元素之化合物所組成之群中之至少1種化合物、上述化合物之利用水產生之部分水解物或上述化合物及上述部分水解物、與選自由含有4A族元素之化合物及含有4B族元素之化合物所組成之群中之至少1種化合物、上述化合物之利用水產生之部分水解物或上述化合物及上述部分水解物。本發明係關於一種複合氧化物薄膜之製造方法，該複合氧化物薄膜對可見光線具有80%以上之平均透過率，該製造方法包括進行至少1次將上述組合物於惰性氣體環境下塗佈於基板表面，繼而對所獲得之塗佈膜進行加熱之操作。
简体摘要：本发明提供一种可利用喷雾热分解法等成膜可应用于氧化物半导体膜等之复合氧化物薄膜之组合物及使用该组合物成膜复合氧化物薄膜之方法。本发明系关于一种复合氧化物制造用组合物，其含有选自由锌元素及3B族元素所组成之群中之至少1种元素、与选自由4A族元素及4B族元素所组成之群中之至少1种元素。本发明之组合物含有选自由含有锌元素之化合物及含有3B族元素之化合物所组成之群中之至少1种化合物、上述化合物之利用水产生之部分水解物或上述化合物及上述部分水解物、与选自由含有4A族元素之化合物及含有4B族元素之化合物所组成之群中之至少1种化合物、上述化合物之利用水产生之部分水解物或上述化合物及上述部分水解物。本发明系关于一种复合氧化物薄膜之制造方法，该复合氧化物薄膜对可见光线具有80%以上之平均透过率，该制造方法包括进行至少1次将上述组合物于惰性气体环境下涂布于基板表面，继而对所获得之涂布膜进行加热之操作。

18. 发明专利

TW200507074A 固體有機金屬化合物用填充容器及其填充方法审中-公开
简体标题：固体有机金属化合物用填充容器及其填充方法
公开(公告)号：TW200507074A
公开(公告)日：2005-02-16
申请号：TW093119937
申请日：2004-07-01
申请人：東曹精細化學股份有限公司 TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人：富安靜夫 TOMIYASU, SHIZUO , 德留功一 TOKUDOME, KOHICHI , 羽賀健一 HAGA, KENICHI
IPC分类号： H01L
摘要：發明課題：提供一種能夠長期間以一定濃度穩定地對MOCVD(有機金屬化學汽相澱積)裝置等汽相外延生長用裝置供給固體有機金屬化合物的新式填充容器。課題解決手段：一種固體有機金屬化合物用填充容器，其是具有運載氣體導入口(2)及運載氣體排出口(3)的固體有機金屬化合物用填充容器，其特徵為是具有：可將填充容器內部區隔成複數縱型空間，使從運載氣體導入口(2)導入的運載氣體流通在各縱型空間，然後從運載氣體排出口(3)排出的構造。
简体摘要：发明课题：提供一种能够长期间以一定浓度稳定地对MOCVD(有机金属化学汽相淀积)设备等汽相外延生长用设备供给固体有机金属化合物的新式填充容器。课题解决手段：一种固体有机金属化合物用填充容器，其是具有运载气体导入口(2)及运载气体排出口(3)的固体有机金属化合物用填充容器，其特征为是具有：可将填充容器内部区隔成复数纵型空间，使从运载气体导入口(2)导入的运载气体流通在各纵型空间，然后从运载气体排出口(3)排出的构造。

19. 发明授权

US11767308B2 Method of stabilizing perfluorodioxolane compound, perfluorodioxolane compound-containing composition and method of producing perfluorodioxolane compound polymer 有权
公开(公告)号：US11767308B2
公开(公告)日：2023-09-26
申请号：US17788901
申请日：2020-12-25
申请人： TOSOH CORPORATION , TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人： Daisuke Inoue , Yusuke Sesoko , Hiroshi Matsuo , Hiroki Takamiya , Hideyuki Mimura , Tomoya Shimono , Tomonari Nagai
IPC分类号： C07D317/42 , C07C50/04 , C07C50/12
CPC分类号： C07D317/42 , C07C50/04 , C07C50/12
摘要： Provided is a method of stabilizing a perfluorodioxolane compound, which includes having a quinone compound present in a composition containing a perfluorodioxolane compound, wherein the perfluorodioxolane compound is one or more perfluorodioxolane compounds selected from the group consisting of a perfluorodioxolane compound denoted by general formula (1) and a perfluorodioxolane compound denoted by general formula (2).

20. 发明申请

US20230068345A1 METHOD OF STABILIZING PERFLUORODIOXOLANE COMPOUND, PERFLUORODIOXOLANE COMPOUND-CONTAINING COMPOSITION AND METHOD OF PRODUCING PERFLUORODIOXOLANE COMPOUND POLYMER 有权
公开(公告)号：US20230068345A1
公开(公告)日：2023-03-02
申请号：US17788901
申请日：2020-12-25
申请人： TOSOH CORPORATION , TOSOH FINECHEM CORPORATION
发明人： Daisuke INOUE , Yusuke SESOKO , Hiroshi MATSUO , Hiroki TAKAMIYA , Hideyuki MIMURA , Tomoya SHIMONO , Tomonari NAGAI
IPC分类号： C07D317/42 , C07C50/04 , C07C50/12
摘要： Provided is a method of stabilizing a perfluorodioxolane compound, which includes having a quinone compound present in a composition containing a perfluorodioxolane compound, wherein the perfluorodioxolane compound is one or more perfluorodioxolane compounds selected from the group consisting of a perfluorodioxolane compound denoted by general formula (1) and a perfluorodioxolane compound denoted by general formula (2).

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