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131. 发明授权

KR100918691B1 패드 보호막 형성용 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용하는이미지 센서의 제조 방법 有权
标题翻译：用于防尘层的照片可固化树脂组合物及使用其制造图像传感器的方法
公开(公告)号：KR100918691B1
公开(公告)日：2009-09-22
申请号：KR1020070127078
申请日：2007-12-07
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 이길성 , 김재현 , 이창민 , 정의준 , 한권우 , 권오범 , 최정식 , 김종섭 , 장두원 , 조정현 , 정슬영
IPC分类号： G03F7/004 , H01L27/146
CPC分类号： G03F7/033
摘要： 본 발명은 (A) 알칼리 가용성 수지, (B) 반응성 불포화 화합물, (C) 광개시제, 및 (D) 용제를 포함하며, 상기 (A) 알칼리 가용성 수지는 하기 화학식 1로 표시되는 구성 단위를 5 내지 50 중량%, 화학식 2로 표시되는 구성 단위를 1 내지 25 중량%, 및 화학식 3으로 표시되는 구성 단위를 45 내지 90 중량%로 포함하는 공중합체인 것인 패드(pad) 보호막 형성용 감광성 수지 조성물, 및 이를 이용하는 이미지 센서(image sensor)의 제조 방법을 제공한다.
[화학식 1]

[화학식 2]

[화학식 3]

상기 R
11 내지 R
13 , R
21 내지 R
24 , 및 R
31 내지 R
33 에 대한 정의는 명세서의 상세한 설명에 기재된 바와 같다. 상기 패드 보호막 형성용 감광성 수지 조성물은 패턴성, 에칭성, 및 내화학성이 우수하여, 하부 오버코팅막 없이도 이미지 센서를 제조할 수 있도록 한다.
이미지센서, 감광성수지조성물, 패드, 패드보호막, 오버코팅막, 알칼리가용성수지

132. 发明授权

KR100909384B1 레지스트 하층막용 하드마스크 조성물 및 이를 이용한반도체 집적회로 디바이스의 제조방법 有权
标题翻译： 레지스트하층막용하드마스크조성물및이를이용한체도체집적회로디바이스의제조방
公开(公告)号：KR100909384B1
公开(公告)日：2009-07-24
申请号：KR1020060057559
申请日：2006-06-26
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 김상균 , 김종섭 , 어동선 , 오창일 , 임상학 , 윤희찬
IPC分类号： G03F7/075
摘要： A hardmask composition for an underlying layer of photoresist is provided to be superior in film characteristics, storage stability, and hardmask characteristics, and to transfer a good pattern to a material layer. A hardmask composition for an underlying layer of photoresist comprises: an organosilane-based polymer produced from compounds represented by the formula 1 of [RO]3Si-[CH2]nPh, the formula 2 of [RO]3Si-H, and the formula 3 of [RO]3Si-CH3 in the presence of an acid catalyst; an organic base or a derivative thereof; and a solvent. In the formula 1, Ph is phenyl, n is 0-2, and R is methyl or ethyl. In the formula 2, R is methyl or ethyl. In the formula 3, R is methyl or ethyl.
摘要翻译：提供用于光致抗蚀剂下层的硬掩模组合物，以在膜特性，储存稳定性和硬掩模特性方面优异，并且将良好图案转移到材料层。用于光刻胶下层的硬掩模组合物包含：由[RO] 3 Si- [CH 2] n Ph的式1表示的化合物，[RO] 3 Si -H的式2和式3表示的化合物制备的基于有机硅烷的聚合物 [RO] 3 Si-CH 3在酸催化剂存在下的反应; 有机碱或其衍生物; 和溶剂。在式1中，Ph是苯基，n是0-2，并且R是甲基或乙基。在式2中，R是甲基或乙基。在式3中，R是甲基或乙基。

133. 发明公开

KR1020090077618A 실리콘계 하드마스크 조성물 및 이를 이용한 반도체집적회로 디바이스의 제조방법 有权
标题翻译：基于硅的硬质合金组合物（SI-SOH;基于SI的旋转硬质合金）以及使用其制造半导体集成电路装置的方法
公开(公告)号：KR1020090077618A
公开(公告)日：2009-07-15
申请号：KR1020080003676
申请日：2008-01-11
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 김상균 , 조현모 , 고상란 , 김미영 , 윤희찬 , 정용진 , 김종섭
IPC分类号： G03F7/11
CPC分类号： H01L21/31144 , C08G77/16 , C08G77/50 , C08G77/52 , C08G77/70 , H01L21/02126 , H01L21/02216 , H01L21/02282 , H01L21/0332 , H01L21/3081 , H01L21/3122 , H01L21/32139
摘要： A silicone-based hard mask composition, and the hard mask formed by using the composition are provided to improve the etching to a O2 plasma gas. A silicone-based hard mask composition comprises an organosilane-based polymer represented by (SiO1.5-Y-SiO1.5)x(R3SiO1.5)y(XSiO1.5)z(OH)e(OR6)f, and a solvent, wherein 0.05
摘要翻译：提供硅酮类硬掩模组合物和通过使用该组合物形成的硬掩模，以改善对O 2等离子体气体的蚀刻。硅氧烷类硬掩模组合物包含由（SiO 1.5-Y-SiO 1.5）x（R 3 SiO 1.5）y（XSiO 1.5）z（OH）e（OR 6）f表示的有机硅烷类聚合物，和溶剂，其中0.05 <= x，y <= 0.9,0 <= z <= 0.9，x + y + z = 1，0.03 <= e <= 0.2,0.03 = = = X是含有取代或未取代的芳环的碳数6〜30的官能团; R3独立地为碳数1〜6的烷基; R6为碳数1〜6的烷基。

134. 发明公开

KR1020090066075A 컬러필터용 녹색 안료 조성물 失效
标题翻译：绿色颜料组合物用于彩色滤光片
公开(公告)号：KR1020090066075A
公开(公告)日：2009-06-23
申请号：KR1020070133686
申请日：2007-12-18
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 엄성용 , 형경희 , 곽동학 , 이유진 , 이길성 , 김종섭
IPC分类号： G03F7/004 , B82B3/00
CPC分类号： G03F7/0007 , G03F7/0045 , G03F7/0047
摘要： A green pigment composition containing metal oxides and dispersants and a color filter using the same are provided to manufacture the color filter with excellent dispersion stability and high optical transmissivity. A green pigment composition for a color filter comprises: 100 parts of pigment; 1-50 parts of binder resin; 10-80 parts of dispersant; 0.1-10 parts of metal oxides whose mean size is 10-50% as much as the mean size(D50) of pigments; and 10-1000 parts of solvent. The metal oxides are selected from the group consisting of silicone oxide, titanium oxide, zinc oxide, magnesium oxide and their mixture. The specific surface area of the metal oxides is 10~100m/g.
摘要翻译：提供含有金属氧化物和分散剂的绿色颜料组合物和使用其的滤色器，以制造具有优异的分散稳定性和高透光率的滤色器。用于滤色器的绿色颜料组合物包括：100份颜料; 1-50份粘合剂树脂; 10-80份分散剂; 平均粒径为颜料平均粒径（D50）的10-50％的金属氧化物0.1-10份; 和10-1000份溶剂。金属氧化物选自氧化硅，氧化钛，氧化锌，氧化镁及其混合物。金属氧化物的比表面积为10〜100m / g。

135. 发明授权

KR100898284B1 리튬 이차 전지 失效
标题翻译：锂二次电池
公开(公告)号：KR100898284B1
公开(公告)日：2009-05-18
申请号：KR1020020056488
申请日：2002-09-17
申请人： 삼성에스디아이 주식회사 , 제일모직주식회사
发明人： 김진성 , 강준원 , 김학수 , 김종섭
IPC分类号： H01M10/05
CPC分类号： H01M10/0525 , H01M4/131 , H01M4/133 , H01M4/505 , H01M4/525 , H01M10/0567 , H01M10/0569 , H01M10/058 , H01M10/446 , H01M2300/0025 , H01M2300/0042 , Y10T29/49108
摘要： 본 발명은 양극 활물질로서 리티에이티드 인터칼레이션 화합물을 포함하는 양극; 리튬, 리튬-함유 합금, 리튬-탄소 복합체 및 탄소재 물질로 이루어진 군에서 선택되는 음극 활물질을 포함하는 음극; 및 리튬염, 카보네이트계 유기 용매 및 하기 화학식 1의 이속사졸 화합물을 포함하는 전해질로 이루어지는 리튬 이차 전지를 제공한다.
(1)
상기 이속사졸은 초기 충전시 카보네이트계 유기 용매보다 먼저 분해되어 SEI 피막을 형성함으로써 카보네이트계 유기 용매가 분해되는 것을 억제한다.
리튬이차전지, 전지의두께변화, 카보네이트계용매, 이속사졸
摘要翻译：锂二次电池包括包含锂盐的电解质，由至少一种碳酸酯类有机溶剂和任选的至少一种芳烃溶剂组成的溶剂和异恶唑化合物。锂二次电池包括：正极（5），其包括能够可逆地插入/脱嵌作为正极活性物质的锂离子的材料; 负极（6），其包括能够可逆地插入/脱嵌锂离子作为负极活性物质的材料; 和包含锂盐的电解质，由至少一种碳酸酯基有机溶剂和任选的至少一种芳烃溶剂组成的溶剂和式（1）的异恶唑化合物。还包括锂二次电池的制备中的独立权利要求，其包括：（a）提供包括能够作为正极活性物质的锂离子可逆插入/脱嵌的材料的正极; （b）提供负极，其包括能够将作为负极活性物质的锂离子可逆插入/脱嵌的材料; （c）制备包含正极和负极的电极组件; （d）将电极组件放入电池盒中; 和（e）注入包含锂盐的电解质，由至少一种碳酸酯基有机溶剂和任选的至少一种芳族烃溶剂组成的溶剂; 和异恶唑化合物进入电池壳体以制造锂二次电池。

136. 发明公开

KR1020090008730A 액정 배향제 및 이를 이용하여 제조된 액정 배향막 无效
标题翻译：使用其的液晶的液晶和对准膜的对准
公开(公告)号：KR1020090008730A
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：KR1020070071912
申请日：2007-07-18
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 정지영 , 김종섭 , 오재민 , 양재덕 , 강정훈 , 곽태형 , 동원석 , 유순녀
IPC分类号： C09K19/04
摘要： A liquid crystal alignment agent is provided to ensure excellent stickiness with substrate and printability and to form a liquid crystal alignment layer having excellent film uniformity. A liquid crystal alignment agent comprises a polyamic acid, polyimide polymer or their mixture, solvent and fluorinated surfactant. The polyamic acid has a repeating unit indicated as the chemical formula 1 and has the average molecular weight (Mw) of 5,000~300,000. The polyimide polymer has a repeating unit indicated as the chemical formula 2 obtained by imidizing a polyamic acid and has the average molecular weight (Mw) of 2,000~500,000.
摘要翻译：提供液晶取向剂以确保与基材和印刷性的优异粘合性，并形成具有优异的膜均匀性的液晶取向层。液晶取向剂包括聚酰胺酸，聚酰亚胺聚合物或其混合物，溶剂和氟化表面活性剂。聚酰胺酸具有如化学式1所示的重复单元，其平均分子量（Mw）为5,000〜300,000。聚酰亚胺聚合物具有通过酰亚胺化聚酰胺酸获得的化学式2所示的重均单元，其平均分子量（Mw）为2,000〜500,000。

137. 发明公开

KR1020080062963A 카본 함량이 개선된 고 내에칭성 반사방지 하드마스크조성물, 이를 이용한 패턴화된 재료 형상의　제조방법 有权
标题翻译：具有改善碳含量的抗反射性能的高耐蚀硬质合金组合物及其使用生产图案材料的方法
公开(公告)号：KR1020080062963A
公开(公告)日：2008-07-03
申请号：KR1020060139169
申请日：2006-12-30
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 윤경호 , 김종섭 , 어동선 , 오창일 , 형경희 , 김민수 , 이진국
IPC分类号： C08G61/10 , C08G61/00 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/091 , C08G61/02 , C08G61/10 , G03F7/11 , Y10S438/952
摘要： A copolymer containing an aromatic ring, an antireflective hard mask composition containing the copolymer, and a method for preparing a material shape patterned on a substrate by using the composition are provided to minimize the reflection between a resist and a back layer and to improve etching selectivity. A copolymer containing any one aromatic ring represented by the formula 1, 2 or 3, wherein 1
摘要翻译：含有芳环的共聚物，含有该共聚物的抗反射硬掩模组合物以及通过使用该组合物制备在基板上图案化的材料形状的方法被提供以使抗蚀剂和背层之间的反射最小化并提高蚀刻选择性。含有由式1,2或3表示的任何一个芳环的共聚物，其中1≤m≤750; 1 <= N <= 750; R1是-CH2-，-CH2-Ph-CH2-，-CH2-Ph-Ph-CH2-或-CH（-OH-取代的Ph） - 或-CH（-Ph） - ; R2是C1-C7的-O-或-CnH2nO-; 并且R 3至R 7独立地为H，羟基，C 1 -C 10烷基，C 6 -C 10芳基，烯丙基或卤素原子。抗反射硬掩模组合物包含含有芳环的共聚物; 发起者和有机溶剂。

138. 发明授权

KR100792045B1 레지스트 하층막용 하드마스크 조성물 및 이를 이용한반도체 집적회로 디바이스의 제조방법 有权
标题翻译：在光电器下涂覆的HARDMASK组合物及其制造集成电路器件的方法
公开(公告)号：KR100792045B1
公开(公告)日：2008-01-04
申请号：KR1020060075842
申请日：2006-08-10
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 김상균 , 임상학 , 김미영 , 고상란 , 윤희찬 , 김도현 , 어동선 , 김종섭
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/32
CPC分类号： H01L21/31144 , C08G77/04 , C09D183/04 , H01L21/0276 , G03F7/11 , G03F7/092 , G03F7/115 , H01L21/0271 , H01L21/0273
摘要： A hard mask composition under a resist layer is provided to control the quantity of an alkoxy group of a final polycondensation material by adjusting the quantity of introduced water in a hydrolysis process of a compound. An organic silane-based polymerization material has an alkoxy group generated from a compound designated by the following chemical formula 1 or an alkoxy group generated from compounds designated by the following chemical formulas 1 and 2. A hard mask composition includes the organic silane-based polymerization material and a solvent. The organic silane-based polymerization material is a polycondensation material of a hydrolytic material designated by the following chemical formula 3 that is obtained from the compound designated by the following chemical formula 1, or a polycondensation material of a hydrolytic material designated by the following chemical formulas 3 and 4 that are respectively obtained from the compounds designated by the following chemical formulas 1 and 2. Chemical formula 1 is [RO]3Si-R' wherein R is methyl or ethyl and R' is substitution or non-substitution alkyl of a ring or non-ring shape. Chemical formula 2 is [RO]3Si-Ar wherein R is methyl or ethyl and Ar is a functional group including an aromatic ring. Chemical formula 3 is R'Si[OR]n[OH]3-n wherein R is methyl or ethyl, R' is substitution or non-substitution alkyl of a ring or non-ring shape, and n is 0-3. Chemical formula 4 is ArSi[OR]n[OH]3-n wherein R is methyl or ethyl, Ar is a functional group including an aromatic ring, and n is 0-3.
摘要翻译：提供抗蚀剂层下的硬掩模组合物，以通过在化合物的水解过程中调节引入的水量来控制最终缩聚材料的烷氧基的量。有机硅烷类聚合材料具有由以下化学式1表示的化合物或由下列化学式1和2表示的化合物产生的烷氧基产生的烷氧基。硬掩模组合物包括有机硅烷基聚合材料和溶剂。有机硅烷类聚合材料是由以下化学式1表示的化合物得到的由以下化学式3表示的水解物质的缩聚物或由以下化学式表示的水解物质的缩聚物化学式1是[RO] 3 Si-R'，其中R是甲基或乙基，R'是环的取代或非取代烷基或非环形。化学式2是[RO] 3 Si-Ar，其中R是甲基或乙基，Ar是包括芳香环的官能团。化学式3是R'Si [OR] n [OH] 3-n，其中R是甲基或乙基，R'是环或非环形的取代或非取代烷基，n是0-3。化学式4是ArSi [OR] n [OH] 3-n，其中R是甲基或乙基，Ar是包括芳环的官能团，n是0-3。

139. 发明授权

KR100760522B1 레지스트 하층막용 하드마스크 조성물 및 이를 이용한반도체 집적회로 디바이스의 제조방법 有权
标题翻译：在光电器下涂覆的HARDMASK组合物及其制造集成电路器件的方法
公开(公告)号：KR100760522B1
公开(公告)日：2007-10-04
申请号：KR1020060094967
申请日：2006-09-28
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 김상균 , 김종섭 , 어동선 , 오창일 , 임상학 , 윤희찬
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/11 , G03F1/00
CPC分类号： G03F7/11 , C08G77/04 , G03F7/0752 , G03F7/091 , G03F7/0757
摘要： An organosilane-based polymer, a hard mask composition for a resist under layer containing the polymer, a method for preparing a semiconductor integrated circuit device by using the composition, and a semiconductor integrated circuit device prepared by the method are provided to improve storage stability without the deterioration of etching resistance, etch selectivity, etch profile and optical properties. An organosilane-based polymer is prepared by reacting the product by the polycondensation of the hydrolyzates generated from the compounds represented by [RO]3Si-Ar, [RO]3Si-H and [RO]3Si-R' in the presence of an acid catalyst, and a compound represented by CH2CHOCH2CH3, wherein R is a methyl group or an ethyl group; Ar is a functional group containing an aromatic group; and R' is a substituted or unsubstituted cyclic or acyclic alkyl group. Preferably the product prepared by polycondensation is a compound represented by the formula 8, wherein Ar is a functional group containing an aromatic group; R' is a substituted or unsubstituted cyclic or acyclic alkyl group; x+y+z=4; 0.04
摘要翻译：有机硅烷类聚合物，含有聚合物的抗蚀剂下层的硬掩模组合物，通过使用该组合物制备半导体集成电路器件的方法以及通过该方法制备的半导体集成电路器件被提供以提高存储稳定性，而不会蚀刻电阻的劣化，蚀刻选择性，蚀刻轮廓和光学性质。通过使由[RO] 3 Si-Ar，[RO] 3 Si-H和[RO] 3 Si-R'表示的化合物生成的水解产物在酸存在下缩聚制备有机硅烷系聚合物催化剂和由CH 2 CHOCH 2 CH 3表示的化合物，其中R是甲基或乙基; Ar是含有芳基的官能团; 且R'为取代或未取代的环状或非环状烷基。优选通过缩聚制备的产物是由式8表示的化合物，其中Ar是含有芳基的官能团; R'是取代或未取代的环状或非环状烷基; X + Y + Z = 4; 0.04 <= X <= 0.80; 0 <= Y <= 1.40; 1.80 <= Z <= 3.96; 3 <= N <= 500。

140. 发明授权

KR100713237B1 저장 안정성이 우수한 레지스트 하층막용 하드마스크조성물 失效
标题翻译：用于抗蚀剂下层膜的硬掩模组合物具有优异的储存稳定性
公开(公告)号：KR100713237B1
公开(公告)日：2007-05-02
申请号：KR1020050130017
申请日：2005-12-26
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 어동선 , 오창일 , 김도현 , 윤희찬 , 이진국 , 남이리나 , 김종섭
IPC分类号： G03F7/075 , G03F7/004

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