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    • 127. 发明专利
    • 單軸致動器
    • 单轴致动器
    • TW201405023A
    • 2014-02-01
    • TW102110279
    • 2013-03-22
    • 日本精工股份有限公司NSK LTD.
    • 下村裕哉SHIMOMURA, YUYA
    • F16C31/06F16H25/22
    • F16H25/2219F16C29/0609F16C29/0611F16C29/063F16C2322/39F16H25/2214F16H2025/2034F16H2025/204Y10T74/18576
    • 本發明的單軸致動器與使用循環管形成單軸致動器的滾珠回流路徑的單軸致動器比較,螺桿軸外圍圓的直徑相同的場合與滑塊的螺桿軸長方向垂直的剖面形狀較小,滑塊的螺桿軸長方向的尺寸相同的場合則會增大負載容量。使滾珠螺桿機構的滾珠(4)從軌道的終點回到起點的滾珠回流路徑是由滑塊(2)沿著螺桿軸(3)的長方向貫穿的貫穿孔(24)及終端轉向器(6)所構成。終端轉向器(6)具有與貫穿孔(24)連接的轉向道。終端轉向器(6)的主體(61)被嵌合於形成在滑塊主體(2A)的螺桿軸(3)的長方向兩端部的缺口部(26)。
    • 本发明的单轴致动器与使用循环管形成单轴致动器的滚珠回流路径的单轴致动器比较,螺杆轴外围圆的直径相同的场合与滑块的螺杆轴长方向垂直的剖面形状较小,滑块的螺杆轴长方向的尺寸相同的场合则会增大负载容量。使滚珠螺杆机构的滚珠(4)从轨道的终点回到起点的滚珠回流路径是由滑块(2)沿着螺杆轴(3)的长方向贯穿的贯穿孔(24)及终端转向器(6)所构成。终端转向器(6)具有与贯穿孔(24)连接的转向道。终端转向器(6)的主体(61)被嵌合于形成在滑块主体(2A)的螺杆轴(3)的长方向两端部的缺口部(26)。
    • 129. 发明专利
    • 線性導引裝置及滾動元件收容帶 LINEAR GUIDE APPARATUS AND ROLLING ELEMENTS ACCOMMODATION BELT
    • 线性导引设备及滚动组件收容带 LINEAR GUIDE APPARATUS AND ROLLING ELEMENTS ACCOMMODATION BELT
    • TW200916668A
    • 2009-04-16
    • TW097105488
    • 2008-02-15
    • 日本精工股份有限公司 NSK LTD.
    • 水村美典 MIZUMURA, YOSHINORI除煒 XU, WEI
    • F16C
    • F16C29/0647F16C33/3825
    • 本發明係關於一種線性導引裝置,其包括:複數個滾動元件,該等滾動元件以預定間隔在一滾動元件循環路徑內循環;複數個間隔件,其設置於滾動元件各自之間;及一滾動元件收容帶,其收容滾動元件、連接該等間隔件之每一者且具有其端部。至少一滾動元件設置於該滾動元件收容帶之該等端部之間,一懸臂狀彈性可變形伸出部分提供於該間隔件位於滾動元件收容帶之端部處之一端面上,該伸出部分自該滾動元件循環路徑之內圓周側朝向外圓周側伸出,且該伸出部分相對於該間隔件在該滾動元件收容帶之端部處之一外部端面而傾斜。
    • 本发明系关于一种线性导引设备,其包括:复数个滚动组件,该等滚动组件以预定间隔在一滚动组件循环路径内循环;复数个间隔件,其设置于滚动组件各自之间;及一滚动组件收容带,其收容滚动组件、连接该等间隔件之每一者且具有其端部。至少一滚动组件设置于该滚动组件收容带之该等端部之间,一悬臂状弹性可变形伸出部分提供于该间隔件位于滚动组件收容带之端部处之一端面上,该伸出部分自该滚动组件循环路径之内圆周侧朝向外圆周侧伸出,且该伸出部分相对于该间隔件在该滚动组件收容带之端部处之一外部端面而倾斜。
    • 130. 发明专利
    • 近接曝光裝置及近接曝光方法
    • 近接曝光设备及近接曝光方法
    • TW200813648A
    • 2008-03-16
    • TW096119777
    • 2007-06-01
    • 日本精工股份有限公司 NSK LTD.
    • 湯口悟
    • G03FH01L
    • G03F7/7035G03F7/70141
    • 一種近接曝光裝置PE,其具備保持作為被曝光材之基板W之基板保持部21,保持具有曝光圖案之光罩M之光罩保持部12,及將圖案曝光用之光經由光罩M向前述基板W照射之照明光學系40;且在保持特定間隙g而使光罩M與基板W相互近接配置之狀態下,將光罩M之光罩圖案藉由照明光學系40曝光轉印於基板W上。照明光學系40係具有準直鏡47及照射角度變更機構71,該照射角度變更機構71係藉由使準直鏡47變形或移動,以變更藉由準直鏡47所反射之圖案曝光用光之照射角度���d者。
    • 一种近接曝光设备PE,其具备保持作为被曝光材之基板W之基板保持部21,保持具有曝光图案之光罩M之光罩保持部12,及将图案曝光用之光经由光罩M向前述基板W照射之照明光学系40;且在保持特定间隙g而使光罩M与基板W相互近接配置之状态下,将光罩M之光罩图案借由照明光学系40曝光转印于基板W上。照明光学系40系具有准直镜47及照射角度变更机构71,该照射角度变更机构71系借由使准直镜47变形或移动,以变更借由准直镜47所反射之图案曝光用光之照射角度���d者。