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101. 发明授权

EP1719586B1 Presser device. 有权
标题翻译：压力光束
公开(公告)号：EP1719586B1
公开(公告)日：2008-04-23
申请号：EP06112850.0
申请日：2006-04-20
申请人： SCM GROUP S.p.A.
发明人： MAIOLI, Fabio , FERRARI, Adriano
IPC分类号： B24B21/08 , B24B49/08
CPC分类号： B24B21/08 , B24B49/08

102. 发明申请

WO0204887A9 METHODS AND APPARATUS FOR PROCESSING MICROELECTRONIC WORKPIECES USING METROLOGY 审中-公开
标题翻译：使用计量处理微电子工件的方法和装置
公开(公告)号：WO0204887A9
公开(公告)日：2003-04-03
申请号：PCT/US0121800
申请日：2001-07-09
申请人： SEMITOOL INC , RITZDORF THOMAS L , EUDY STEVE L , WILSON GREGORY J , MCHUGH PAUL R , WEAVER ROBERT A , AEGERTER BRIAN , DUNDAS CURT , PEACE STEVEN L
发明人： RITZDORF THOMAS L , EUDY STEVE L , WILSON GREGORY J , MCHUGH PAUL R , WEAVER ROBERT A , AEGERTER BRIAN , DUNDAS CURT , PEACE STEVEN L
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/677 , G01B11/06 , B24B49/08 , G01N21/86 , G01R31/00
CPC分类号： H01L21/67173 , H01L21/67103 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67219 , H01L21/6723 , H01L21/67751
摘要： A method and apparatus for processing a microelectronic workpiece using metrology. The apparatus can include one or more processing transport units, a metrology unit (228), and a control unit (270) coupled to the metrology unit and at least one of the processing or transport unites. The control unit can modify a process recipe or a process sequence of the processing unit based on a feed forward or a feed back signal from the metrology unit. The processing unit can include, a seed layer disposition unit, a process layer electrochemical disposition unit, a seed layer enhancement layer(232), a chemical mechanical polishing unit, and/or an annealing chamber arranged for sequential processing of a workpiece. The processing units can be controlled as an integrated system using one or more metrology units, or a separate metrology unit can provide input to the processing unit.
摘要翻译：一种用计量学处理微电子工件的方法和装置。该装置可以包括一个或多个处理传送单元，测量单元（228）和耦合到测量单元和处理或传输单元中的至少一个的控制单元（270）。控制单元可以基于来自计量单元的前馈信号或反馈信号来修改处理单元的处理配方或处理顺序。处理单元可以包括种子层配置单元，处理层电化学配置单元，种子层增强层（232），化学机械抛光单元和/或退火室，用于对工件进行顺序处理。处理单元可以作为使用一个或多个计量单元的集成系统来控制，或者单独的计量单元可以向处理单元提供输入。

103. 发明申请

WO02004887A1 METHODS AND APPARATUS FOR PROCESSING MICROELECTRONIC WORKPIECES USING METROLOGY 审中-公开
标题翻译：使用计量处理微电子工件的方法和装置
公开(公告)号：WO02004887A1
公开(公告)日：2002-01-17
申请号：PCT/US2001/021800
申请日：2001-07-09
IPC分类号： H01L21/00 , H01L21/677 , G01B11/06 , B24B49/08 , G01N21/86 , G01R31/00
CPC分类号： H01L21/67173 , H01L21/67103 , H01L21/67178 , H01L21/6719 , H01L21/67219 , H01L21/6723 , H01L21/67751
摘要： A method and apparatus for processing a microelectronic workpiece using metrology. The apparatus can include one or more processing transport units, a metrology unit (228), and a control unit (270) coupled to the metrology unit and at least one of the processing or transport unites. The control unit can modify a process recipe or a process sequence of the processing unit based on a feed forward or a feed back signal from the metrology unit. The processing unit can include, a seed layer disposition unit, a process layer electrochemical disposition unit, a seed layer enhancement layer(232), a chemical mechanical polishing unit, and/or an annealing chamber arranged for sequential processing of a workpiece. The processing units can be controlled as an integrated system using one or more metrology units, or a separate metrology unit can provide input to the processing unit.
摘要翻译：一种用计量学处理微电子工件的方法和装置。该装置可以包括一个或多个处理传送单元，测量单元（228）和耦合到测量单元和处理或传输单元中的至少一个的控制单元（270）。控制单元可以基于来自计量单元的前馈信号或反馈信号来修改处理单元的处理配方或处理顺序。处理单元可以包括种子层配置单元，处理层电化学配置单元，种子层增强层（232），化学机械抛光单元和/或退火室，用于对工件进行顺序处理。处理单元可以作为使用一个或多个计量单元的集成系统来控制，或者单独的计量单元可以向处理单元提供输入。

104. 实用新型

CN218856632U 销轴认面机有权
公开(公告)号：CN218856632U
公开(公告)日：2023-04-14
申请号：CN202223179956.1
申请日：2022-11-29
申请人：无锡安尔曼自动化设备有限公司
发明人：徐文权
IPC分类号： B24B49/08 , B24B49/12 , B24B41/00 , B24B27/02
摘要：本实用新型涉及销轴认面技术领域，具体涉及销轴认面机，包括外壳、上料机构和认面机构，所述外壳内开设有工作腔；所述上料机构包括振动盘以及收集有销轴的下料管；所述认面机构包括下料通道、用于确定是否有所述销轴的产品检测组件、用于检测所述销轴端面的气压检测组件、用于确保使所述销轴逐个下料的限位组件、用于使所述销轴规整圆面进入磨床的翻面组件以及出料管，本实用新型通过上料机构和认面、翻面机构的设计，使得最终进入出料管内的销轴都是圆面朝下，实现了对销轴的认面操作，对磨床上的砂轮起到保护作用。

105. 实用新型

CN210360659U 一种汽车生产用钣金打磨装置失效
公开(公告)号：CN210360659U
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：CN201920354360.X
申请日：2019-03-20
申请人：新昌县羽林街道信长轴承厂
发明人：钟伟琴
IPC分类号： B24B9/04 , B24B41/06 , B24B47/04 , B24B47/22 , B24B55/06 , B24B49/08 , B24B51/00
摘要：本实用新型公开了一种汽车生产用钣金打磨装置，包括水箱，所述水箱顶部左端固定连接有第一支撑板，所述水箱顶部的右端固定连接有第二支撑板，所述第二支撑板左侧的下部固定安装有第二电动伸缩杆，所述第二电动伸缩杆的左端与第一支撑板右侧的下部均固定安装有固定夹，所述两个固定夹处于同一水平面，所述第一支撑板和第二支撑板的顶部均固定连接有顶板。本实用新型通过水箱、固定夹、第一支撑板、打磨盘、电机、第一电动伸缩杆、电动滑台、电动导轨、顶板、第二支撑板、第二电动伸缩杆、控制器、注水口、长管、风机、短管、吸尘罩和凹槽相互配合，解决了现在的汽车生产用钣金打磨装置功能单一，不便于人们使用的问题。

106. 实用新型

CN208214992U 一种工件外圆磨非接触式监测装置失效
公开(公告)号：CN208214992U
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：CN201820597370.1
申请日：2018-04-25
申请人：三门峡中测量仪有限公司
发明人：蔡章春 , 刘宏灿 , 刘荣斌
IPC分类号： B24B5/22 , B24B5/35 , B24B49/08
摘要：本实用新型公开了工件外圆磨非接触式监测装置，属于无心磨床加工技术领域，包括竖直设置的支撑柱，在支撑柱的顶部上下并排设有两个横导向杆，所述两个横导向杆与支撑柱左右滑动连接，在两个横导向杆右端之间固定有支撑底座，在支撑底座上固定有活塞杆竖直向上设置的驱动油缸，在活塞杆的顶部固定有连接架，在连接架的右端固定有竖杆，在竖杆的底端固定有第一气动量仪气测头；在支撑柱上滑动连接有横支撑杆，在横支撑杆的右端固定有用于校准砂轮位置的第二气动量仪气测头；提高了修整砂轮后位置的一致性，保证外圆测量的准确度，提高了工件外圆的加工质量。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

107. 实用新型

CN206140218U 一种高效双端面磨床有权转让
公开(公告)号：CN206140218U
公开(公告)日：2017-05-03
申请号：CN201621242784.X
申请日：2016-11-15
申请人：佛山泰冈数控精密机床有限公司
发明人：严金榜 , 张耀峰 , 王荣生 , 宋鸿斌
IPC分类号： B24B7/17 , B24B41/00 , B24B47/20 , B24B41/02 , B24B53/06 , B24B27/00 , B24B41/06 , B24B7/02 , B24B49/08
摘要：本实用新型涉及一种高效双端面磨床，包括床身、进刀装置、接触式测量装置和送料装置，所述进刀装置包括主轴、砂轮、主轴电机和进刀电机，所述主轴电机驱动所述主轴带动所述砂轮进行旋转运动，所述进刀电机驱动所述主轴进行左右移动；所述接触式测量装置包括测量头上下移动气缸和接触式测量头，所述测量头上下移动气缸驱动所述接触式测量头进行上下移动；所述送料装置包括磁力往复工作台和送料电机；本实用新型的双端面磨床采用了五轴控制系统，实现了双端面自动磨削、自动补偿和自动测量，能对陶瓷模芯在一次装夹中，高效率地完成模芯周边粗、精加工及自动测量，提高其生产效率、精度和光洁度。

108. 实用新型

CN204725322U 一种板料尺寸检测机失效
公开(公告)号：CN204725322U
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201520392992.7
申请日：2015-06-09
申请人：湖南三星玻璃机械有限公司
发明人：刘泽华 , 谢明星
IPC分类号： B24B49/08 , B24B49/12
摘要：本实用新型提供了一种板料尺寸检测机，涉及玻璃加工技术领域，包括输送板料的检测台，所述检测台的其中一个内侧壁为基准面，板料与所述基准面贴合且能够沿所述基准面移动；所述检测台上安装有厚度测量装置和宽度测量装置；所述宽度测量装置包括检测板料远离所述基准面的边缘的第一传感器、驱动所述第一传感器垂直于板料输送方向移动的第一驱动机构以及检测所述第一传感器运动距离的位移检测装置。本实用新型的板料尺寸检测机可以自动测量板料的厚度和宽度，无需人工测量板料尺寸，提高了生产效率。

109. 实用新型

CN202878117U 气囊抛光头几何形态实时检测系统失效
公开(公告)号：CN202878117U
公开(公告)日：2013-04-17
申请号：CN201220496494.3
申请日：2012-09-26
申请人：浙江工业大学
发明人：计时鸣 , 张鹤腾 , 金明生 , 蔡姚杰 , 蒋鑫鑫 , 厉志安 , 李笑
IPC分类号： B24B49/08 , G01B7/16 , G01B7/28
摘要：气囊抛光头几何形态实时检测系统，包括抛光柔性气囊头、无线位移传感器、计算机，所述的无线位移传感器包括一组分布式的距离传感装置、无线发射电路、无线接收电路；所述的距离传感装置安装在靠近气囊的内表面的抛光柔性气囊头内部；所述的无线发射电路安装在所述的距离传感装置内；所述的计算机内安装的实时处理软件通过计算机的硬件接口与所述的无线接收电路相连。本实用新型的有益效果是：传感器结构简单、安装占用空间小；能够快速反应，适应高速旋转和变化的气囊内表面变形的检测；传感器与气囊内表面无接触，不对气囊的切削力产生影响，因此也不会影响加工后的表面粗糙度；为进一步的在线轨迹规划方法的研究奠定基础。

110. 实用新型

CN201998044U 珩磨机主轴往复随动控制装置失效
公开(公告)号：CN201998044U
公开(公告)日：2011-10-05
申请号：CN201120077811.3
申请日：2011-03-23
申请人：宁夏银川大河数控机床有限公司 , 北京机械工业自动化研究所
发明人：郑金传 , 张宏军 , 徐建华
IPC分类号： B24B33/10 , B24B47/16 , B24B49/08 , B24B49/10
摘要：本实用新型涉及一种珩磨机床，特别是珩磨机主轴往复随动控制装置，该装置包括床身、安装在床身上的珩磨机主轴机构、液压换向驱动系统和控制系统，其特征在于珩磨机的液压换向驱动系统包括主轴液压缸和控制主轴液压缸往复移动的机械液压伺服阀，机械液压伺服阀中的阀体通过连接机构与主轴液压缸中的活塞杆相连，连接件的一端与机械液压伺服阀中的阀芯相连，另一端与转换机构相连，转换机构通过伺服驱动控制系统进行控制。本实用新型采用数控机械位置闭环和线性机械液压伺服阀组成的液压位置闭环，实现珩磨机主轴液压缸的速度、位置、换向的数控，是一种具有结构简单、控制可靠、价格低廉、便于调整、操作和维护的珩磨机主轴往复随动控制装置。

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