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101. 发明公开

EP1398296A2 A method for making three-dimensional structures having nanometric and micrometric dimensions 有权
标题翻译： Verfahren zur Herstellung von dreidimensionalen Nanostrukturen und Mikrostrukturen
公开(公告)号：EP1398296A2
公开(公告)日：2004-03-17
申请号：EP03016349.7
申请日：2003-07-18
申请人： C.R.F. Società Consortile per Azioni
发明人： Lambertini, Vito , Repetto, Piermario , Perlo, Piero
IPC分类号： B81B1/00
CPC分类号： B81C99/0095 , B81B2203/0361 , B81C1/00126 , B81C1/00492 , Y10T428/24355
摘要： A method for making three-dimensional structures of nanometric or micrometric dimensions comprises the following steps:

obtaining of a photopolymeric or UV mixture (M) including nanoparticles orientable in space;
deposition of a layer of the mixture (M) on a respective substrate (30);
exposure of the layer (M) to UV-radiation (F1) and control of the polymerization of the mixture by means of variation of its index of refraction;
application of a magnetic and/or electrical field for producing a desired positioning of the nanoparticles, in order to induce the growth of surface projections (R) from the layer of mixture (M); and
polymerization of the mixture (M).
摘要翻译：将光聚合物/紫外线（UV）混合物颗粒层（M）暴露于UV辐射（F1，F2）并进行磁/电场以产生所需的纳米颗粒取向或定位，以诱导表面突起（R ）从层。使用二元掩模或半色调掩模，将光聚合物/紫外线混合物颗粒层选择性地暴露于其中形成表面突起的区域中的UV辐射。光敏聚合物/紫外线混合物颗粒层在没有施加磁/电场的情况下通过暴露于UV辐射而聚合。还包括以下独立权利要求：（1）具有纳米/微米尺寸的三维表面结构的固体组分。固体组分根据确定的几何形状具有高达500微米的突起R; 和（2）用于形成具有纳米/微米尺寸的三维结构的装置。

102. 发明授权

EP0766090B1 Mikroelektronischer, integrierter Sensor und Verfahren zur Herstellung des Sensors 失效
标题翻译：微电子，集成传感器和方法，用于制造传感器
公开(公告)号：EP0766090B1
公开(公告)日：2001-04-11
申请号：EP96114618.0
申请日：1996-09-11
申请人： Infineon Technologies AG
发明人： Müller, Karlheinz, Ing. , Kolb, Stefan, Dipl.-Ing. (FH)
IPC分类号： G01P15/08
CPC分类号： G01P15/0802 , B81B3/0051 , B81B3/0072 , B81B2201/0235 , B81B2203/0118 , B81B2203/0361 , B81B2203/051 , B81B2203/053 , G01P15/125

103. 发明公开

KR1020160100049A 나노투과막상의 하이드로젤 마이크로 구조체와 이의 제조방법 및 이를 이용한 세포 부유 배양 장치 有权
标题翻译：纳米膜上的水凝胶微图案，其制造方法和使用其的细胞浮动培养装置
公开(公告)号：KR1020160100049A
公开(公告)日：2016-08-23
申请号：KR1020150022526
申请日：2015-02-13
申请人： 강원대학교산학협력단
发明人： 이광호 , 간석주 , 이윤경
IPC分类号： B81C1/00 , B81B1/00 , C12M3/00
CPC分类号： B81C1/00031 , B81B1/00 , B81B2203/0361 , B81B2203/0376 , B81C1/00103 , B81C1/00111 , B81C2201/0156 , C12M3/00
摘要： 본발명은하이드로젤마이크로구조체가패터닝된나노투과막, 이나노투과막의제조방법, 및상기나노투과막을포함한세포배양장치에관한것이다. 본발명에의하면 3차원구조를갖는나노투과막상에선택적인위치에서하이드로젤마이크로패터닝이가능하다. 또한, 3차원구조를갖는나노투과막상에세포와생리활성물질을함께또는분리하여캡슐화된하이드로젤마이크로패터닝을제공할수 있다. 또한, 본발명의하이드로젤마이크로패터닝된나노투과막및 이를포함하는 3차원세포배양장치는인체모방이가능한 3차원미세환경을제공하므로조직공학, 세포분화, 세포를기초로한 진단기술및 약물스크리닝분야에적용할수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种纳米多孔膜，其中水凝胶微结构被图案化，其制造方法以及包括纳米多孔膜的细胞漂浮培养装置。根据本发明，水凝胶微图形能够被应用于具有三维结构的纳米多孔膜上的选择性位置。此外，在具有三维结构的纳米多孔膜上进行细胞和生物活性物质被封装的细胞和细胞和生物活性物质通过彼此分离而被包封的水凝胶微图案化。此外，应用了水凝胶微图案化的纳米多孔膜和包括其的三维细胞培养装置能够应用于组织工程，细胞分化，基于细胞的诊断技术和药物筛选领域，通过提供一个三维细微的环境，使人体模仿。根据本发明的一个方面，在纳米多孔膜上构图水凝胶微结构的方法包括：（a）制备具有凹面的模具的步骤; （b）用光聚合物填充模具的凹面的步骤; （c）用纳米多孔膜覆盖在凹面上填充有光聚合物的模具的步骤; （d）将光照射到由纳米多孔膜覆盖的模具上的步骤; 和（e）去除模具的步骤。

104. 发明授权

KR101409387B1 경사 형태의 구리 나노 로드 제작방법 有权
标题翻译：用于制备南极铜纳米结构的方法
公开(公告)号：KR101409387B1
公开(公告)日：2014-06-20
申请号：KR1020130005075
申请日：2013-01-16
申请人： 아주대학교산학협력단
发明人： 조성운 , 김창구
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： B81C1/00031 , B81B2203/0361 , G02B1/005 , H01J37/32403 , H01J37/32422 , H01J37/32623 , H01J37/32651 , H01L21/288 , H01L21/3212 , H01L21/32134 , H01L21/32137
摘要： The present invention relates to a method for fabricating a slanted copper nanorod. The method for fabricating a slanted copper nanorod includes the following steps: fabricating a sample having a structure including an etch stop layer on a wafer; etching the sample by positioning the sample in a slanted form; forming a copper film on the slanted sample by plating; removing an excessively plated part of the copper film; and removing a poly silicon except for copper from a surface of the sample. According to the present invention, the slanted copper nanorod can be fabricated in a larger size as compared with an existing method so that a nanostructure having superior processing yield and a uniform array can be formed. An angle and a diameter of a copper nanorod can be freely controlled so that applicability of the copper nanorod is very high. The present invention is applicable to a process of manufacturing various devices such as semiconductor devices, micro electro mechanical systems (MEMS), optical devices, gas detectors, and display devices.
摘要翻译：本发明涉及一种制造倾斜铜纳米棒的方法。制造倾斜铜纳米棒的方法包括以下步骤：在晶片上制造具有包括蚀刻停止层的结构的样品; 通过将样品定位为倾斜形式来蚀刻样品; 通过电镀在倾斜样品上形成铜膜; 去除铜膜过电镀部分; 以及从所述样品的表面除去除了铜之外的多晶硅。根据本发明，与现有方法相比，可以制造更大尺寸的倾斜铜纳米棒，从而可以形成具有优异加工成品率和均匀阵列的纳米结构。可以自由地控制铜纳米棒的角度和直径，使得铜纳米棒的适用性非常高。本发明可应用于制造诸如半导体器件，微机电系统（MEMS），光学器件，气体检测器和显示器件的各种器件的工艺。

105. 发明授权

KR101203136B1 나노 와이어 제조 방법 失效
标题翻译：制造纳米线的方法
公开(公告)号：KR101203136B1
公开(公告)日：2012-11-20
申请号：KR1020100025399
申请日：2010-03-22
申请人： 울산과학기술원 산학협력단
发明人： 박수진 , 조재필 , 송현곤 , 방병만
IPC分类号： C08F297/00 , C08F293/00 , B82B3/00
CPC分类号： C08F293/00 , B81B2203/0361 , B81C1/00031 , B81C2201/0149 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , C08F297/00
摘要： 나노 와이어 제조 방법에 관한 것으로, (a) 나노 와이어 제조용 기재를 준비하는 단계; (b) 나노 와이어 제조용 블록공중합체를 준비하는 단계; (c) 상기 (b) 단계에서 준비된 블록공중합체를 용매에 혼합하여, 상기 (a) 단계에서 준비된 기재 상에 도포하여 블록공중합체층을 형성하는 단계; (d) 상기 도포된 블록공중합체층을 에칭하여 패턴을 형성하는 단계; (e) 상기 (d) 단계에서 패턴이 형성된 상기 기재 상에 금속 코팅층을 형성하는 단계; 및 (f) 산(acid) 및 과산화물을 포함하는 용액과 상기 (e) 단계의 금속 코팅층을 반응시키는 단계;를 포함하고, 상기 블록공중합체는 하기 화학식 1로 표시되는 것인 나노 와이어 제조 방법을 제공하여 지름이 30nm 이하인 나노 와이어를 제조할 수 있고, 또한 상기 지름 범위이며 지름이 10nm 이하의 구멍을 가지는 다공성 나노 와이어도 제조할 수 있다.
[화학식 1]
A-block-B
상기 A 및 B의 정의는 본 명세서 상에 존재한다.

106. 发明授权

KR101161060B1 나노입자를 기둥형태로 조직화시키기 위한 배열장치 및 그 배열방법 有权
标题翻译：纳米颗粒的柱状结构的布置装置及其布置方法
公开(公告)号：KR101161060B1
公开(公告)日：2012-06-29
申请号：KR1020090117179
申请日：2009-11-30
申请人： 서강대학교산학협력단
发明人： 윤경병 , 손필국
IPC分类号： B82B3/00
CPC分类号： B81C1/00111 , B81B2203/0361 , B82B3/0076
摘要： 본 발명은 다수의 나노입자를 나노홈 어레이가 새겨진 기판의 각 나노홈에 동시에 넣어 나노입자들을 기둥형태로 배열하는 나노입자의 배열장치 및 그 배열방법에 관한 것이다. 본 발명의 나노입자의 배열장치는, 나노입자들이 부착될 상부 기판을 포함하는 나노입자 수송판; 상기 상부 기판과 마주하여 대응되고 상기 상부 기판에 부착된 나노입자들이 분리되어 위치될 하부 기판을 포함하는 나노입자 수용판; 상기 하부 기판상에 형성되고 상기 나노입자들이 소정의 위치에 배열되도록 유도하는 다수의 나노홈; 및 상기 상부 기판 및 하부 기판 사이의 거리와, 상기 나노입자들 및 상기 나노홈의 위치를 측정하는 센서를 포함한다.
나노입자, 배열

107. 发明公开

KR1020100121708A 섬유상 기둥형상 구조체 집합체 및 그것을 이용한 점착 부재 有权
标题翻译：纤维状柱状结构聚集体和使用其的粘合剂构件
公开(公告)号：KR1020100121708A
公开(公告)日：2010-11-18
申请号：KR1020107024477
申请日：2009-03-31
申请人： 닛토덴코 가부시키가이샤
发明人： 마에노요우헤이 , 나카야마요시카즈 , 히라하라가오리
IPC分类号： C01B31/02 , F16B11/00 , D01F9/12
CPC分类号： B81B1/00 , B81B2203/0361 , B81C1/00206 , C09J7/00 , C09J2201/626 , Y10S977/742 , Y10S977/752 , Y10T428/249921 , Y10T428/26 , Y10T428/2913 , Y10T428/2918 , Y10T428/2973 , Y10T428/2975 , Y10T428/298 , C01B32/158 , C01B2202/06 , C01B2202/26 , C01B2202/34
摘要： 우수한 기계적 특성, 높은 비표면적, 우수한 점착 특성을 가지는 섬유상 기둥형상 구조체 집합체를 제공한다. 우수한 내열성, 높은 비표면적, 실온에서 고온까지의 온도 조건 하에서의 우수한 점착 특성을 가지는 섬유상 기둥형상 구조체 집합체를 제공한다. 높은 비표면적, 표면 자유에너지가 상이한 피착체에 대한 접착력이 변화하지 않는(피착체 선택성이 없다) 점착 특성을 가지는 섬유상 기둥형상 구조체 집합체를 제공한다. 이들과 같은 섬유상 기둥형상 구조체 집합체를 이용한 점착 부재를 제공한다.
본 발명의 섬유상 기둥형상 구조체 집합체(1)는, 복수의 직경을 가지는 섬유상 기둥형상 구조체를 구비하고, 그 복수의 직경을 가지는 섬유상 기둥형상 구조체의 직경 분포의 분포폭이 10nm 이상이며, 그 직경 분포의 최빈값의 상대 빈도가 30% 이하이다.
摘要翻译：提供具有优异的机械性能，高比表面积和优异的粘合性的纤维状柱状结构体集合体。本发明提供一种纤维状柱状结构体集合体，其具有优异的耐热性，高比表面积和在从室温至高温的温度条件下优异的粘附性。提供一种具有粘附性的纤维状柱状结构体集合体，其中对具有高比表面积和表面自由能的被粘物的粘附力不变（不具有粘附体选择性）。以及使用如上所述的这种纤维状柱状结构体集合体的粘合部件。

108. 发明公开

KR1020100002597A 고종횡비 미세 구조물 및 그 제조방법과 고종횡비 미세구조물 어레이 및 그 제조방법 有权
标题翻译：高比例微结构及其制备方法和高比例微结构阵列及其制备方法
公开(公告)号：KR1020100002597A
公开(公告)日：2010-01-07
申请号：KR1020080062547
申请日：2008-06-30
申请人： 한국과학기술원
发明人： 이승섭 , 이석우 , 이정아
IPC分类号： B82B3/00 , G03F7/20 , B82Y40/00
CPC分类号： G03F7/00 , B81B2203/0361 , B81B2207/056 , B81C1/00111 , B81C2201/0159 , G03F7/2014
摘要： PURPOSE: A method for producing high aspect ratio micro structure is provided to concentrate light intensity to the center of pattern groove formed at a photomask. CONSTITUTION: A method for producing high aspect ratio micro structure comprises: a step of attaching the photomask having a pattern groove(11a) on the surface of transparent substrate(10); a step of attaching negative photoresist on the surface of the photomask; a step of irradiating light at an opposite side of photomask-attached site to solidifying partial negative photoresist; and a step of removing a site where the negative photomask is not exprosed.
摘要翻译：目的：提供一种制造高纵横比微结构的方法，用于将光强度集中在形成在光掩模上的图形凹槽的中心。构成：用于制造高纵横比微结构的方法包括：在透明基板（10）的表面上附着具有图案槽（11a）的光掩模的步骤; 在光掩模的表面上附着负性光致抗蚀剂的步骤; 在光掩模附着部位的相对侧照射光以固化部分负性光致抗蚀剂的步骤; 以及去除负光掩模未被展开的部位的步骤。

109. 发明授权

KR100532796B1 디바이스의 형상 패턴화 방법 및 상기 방법에 의해 제조된 MEMS 디바이스 失效
标题翻译：用于器件的地形图案和制造的MEMS器件的方法
公开(公告)号：KR100532796B1
公开(公告)日：2005-12-02
申请号：KR1020037000506
申请日：2001-07-13
申请人： 시게이트 테크놀로지 엘엘씨
发明人： 보우타고우,진,에딘
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： B81C1/00103 , B81B2203/0346 , B81B2203/0361 , B81B2203/0376 , B81C1/00404 , B81C1/00547 , B81C1/00626 , B81C2201/0133 , C04B41/009 , C04B41/5346 , C04B41/91 , G11B5/4813 , C04B35/00
摘要： The device of the present invention facilitates engaging mating elements, such as actuators used in disc drives, with a pattern on the device. The improved device includes arcuate edges between at least one of the sidewalls in the pattern and the surface of the device. The arcuate edges minimize some of the fracturing of the device that typically occurs when a mating element is inserted on or into the device. The present invention also relates to a method of fabricating a device. The method comprises positioning a mask in the form of a pattern relative to the device, and then etching the pattern into a surface on the device to form at least one sidewall and an arcuate edge such that the arcuate edge extends between the surface on the device and one of the sidewalls.

110. 发明公开

EP3334682A1 FABRICATION OF NANOSTRUCTURED SUBSTRATES COMPRISING A PLURALITY OF NANOSTRUCTURE GRADIENTS ON A SINGLE SUBSTRATE 有权
公开(公告)号：EP3334682A1
公开(公告)日：2018-06-20
申请号：EP16751476.9
申请日：2016-08-12
申请人： Max-Planck-Gesellschaft zur Förderung der Wissenschaften e.V.
发明人： DIAO, Zhaolu , DIRKS, Jan-Henning , SPATZ, Joachim P.
IPC分类号： B81C1/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G02B1/118 , H01L21/3065 , H01L21/308
CPC分类号： B81C1/00031 , B81B2203/0361 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G02B1/118 , G02B2207/101 , H01L31/00
摘要： The invention relates to a method for producing a nanostructured substrate comprising an array of protruding nanostructures, which method comprises at least the following steps: a) providing a primary substrate; b) depositing at least one layer of a material capable to be removed by means of reactive ion etching (RIE) onto said primary substrate which layer comprises a predetermined gradient of its thickness; c) depositing a nanostructured etching mask onto the graded layer deposited in step b); d) generating protruding structures, in particular nanopillars, in the graded layer deposited in step b) by means of reactive ion etching (RIE), wherein simultaneously at least 2, preferably 3, predetermined continuous gradients of geometric parameters of the protruding structures are generated on the same substrate. More specifically, the geometric parameters are selected from the group comprising the height, diameter and spacing of the protruding nanostructures. A further aspect of the invention relates to a nanostructured substrate comprising an array of protruding nanostructures obtainable by the method as outlined above. In a preferred embodiment of said nanostructured substrate, each of the protruding nanostructures simultaneously represents an element of 3 continuous gradients of the height, diameter and spacing of said protruding nanostructures.

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