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91. 发明专利

JPS59205782A Silent discharge excitation type gas laser device 失效
标题翻译：静电排放型气体激光装置
公开(公告)号：JPS59205782A
公开(公告)日：1984-11-21
申请号：JP6953083
申请日：1983-04-20
申请人： Mitsubishi Electric Corp
发明人： FUKUSHIMA TSUKASA , KANEHARA YOSHIHIDE
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/0971 , H01S3/223
CPC分类号： H01S3/038 , H01S3/09713
摘要： PURPOSE:To prevent the generation of a poisonous gas, to inhibit the lowering of a laser output and to obtain the laser output stable for a prolonged term by coating the surface of a discharge limiting material with an inorganic insulator, which does not change a composition on the mixing of a laser medium gas. CONSTITUTION:When high-frequency high voltage is applied to a pair of dielectric electrodes 11, an intense silent discharge is generated from a discharge limiting material 16, fillers 17 and the surfaces of the electrodes 11 not coated with an inorganic insulator 19, and the surface of the insulator 19 in the vicinity of the electrodes 11 is exposed to the silent discharge. Consequently, the titled gas laser device is constituted so that each surface of the limiting material 16 and the fillers 17 as the generating sources of a poisonous gas is coated with the inorganic insulator 19, which does not generate the poisonous gas even when it is exposed to silent discharge. As a result, no poisonous gas is generated because the limiting material 16 and the fillers 17 are protected from the heat of silent discharge and an electron bombardment, thus preventing the change of a composition on the mixing of a laser medium gas. Accordingly, a laser output does not lower, and the stable laser output is obtained.
摘要翻译：目的：为了防止产生有毒气体，通过用无机绝缘体涂覆排放限制材料的表面来抑制激光输出的降低并获得长期稳定的激光输出，其不改变组成关于激光介质气体的混合。构成：当对一对电介质电极11施加高频高电压时，从放电限制材料16，填料17和未涂覆有无机绝缘体19的电极11的表面产生强烈的静音放电，在电极11附近的绝缘体19的表面暴露于静音放电。因此，标称的气体激光装置构成为使得限制材料16的每个表面和作为有毒气体的发生源的填充物17涂覆无机绝缘体19，即使在暴露时也不产生有毒气体静音放电。结果，由于限制材料16和填料17被保护免于静音放电的热量和电子轰击，所以不会产生有毒气体，从而防止组合物在激光介质气体混合时的变化。因此，激光输出不降低，获得稳定的激光输出。

92. 发明专利

JPS59500591A JPS59500591A - 失效
公开(公告)号：JPS59500591A
公开(公告)日：1984-04-05
申请号：JP50134483
申请日：1983-04-19
IPC分类号： H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/0977 , H01S3/22
CPC分类号： H01S3/09713

93. 发明专利

JP2014205172A 消費電力の削減制御を行うレーザ加工装置有权
标题翻译：执行功耗降低控制的激光加工设备
公开(公告)号：JP2014205172A
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：JP2013084688
申请日：2013-04-15
申请人：ファナック株式会社 , Fanuc Ltd
发明人： MIYATA RYUSUKE
IPC分类号： B23K26/00 , B23K26/02 , B23K26/066 , B23K26/14
CPC分类号： H01S3/032 , B23K26/00 , B23K26/0626 , B23K26/1435 , B23K26/70 , H01S3/09702 , H01S3/09713 , H01S3/104
摘要：【課題】レーザ発振器の省エネモードから標準待機モードへの解除動作をタイミングよく行う。【解決手段】レーザ加工装置100の制御部3は、準備動作指令が出力されるとレーザ加工を行うための準備動作を開始するようにレーザ加工機を制御する準備動作部31と、レーザ加工を行う前の標準待機モードと標準待機モードよりも消費電力が少ない省エネモードとにレーザ発振器1の運転モードを切り替えるモード切替部32とを有する。モード切替部32は、準備動作指令が出力される前は運転モードを省エネモードに切り替え、準備動作指令が出力されると、省エネモードから標準待機モードへの運転モードの切替動作を開始するように放電管電圧を制御する。【選択図】図3
摘要翻译：要解决的问题：从激光振荡器的节能模式到标准等待模式的良好时机执行释放操作。解决方案：激光加工设备100的控制部分3包括：准备操作部分31，其控制激光加工机器，以便在输出准备操作命令时开始执行激光处理的准备操作;以及模式切换部分32，用于将激光振荡器1的操作模式切换到激光处理之前的标准等待模式，并将模式切换部分32切换到节能模式，比标准等待模式消耗更少的电力。模式切换部32控制放电管电压，以便在输出准备操作命令之前将操作模式切换到节能模式，并且开始将操作模式从节能模式切换到标准等待模式输出准备操作命令。

94. 发明专利

JP5590741B2 Prevention of damage due to the high output co2 of the slab laser mirror particles 有权
公开(公告)号：JP5590741B2
公开(公告)日：2014-09-17
申请号：JP2011545366
申请日：2009-12-22
申请人：コヒーレント・インク
发明人：ホア・ゴンシュエ
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/02
CPC分类号： H01S3/0346 , H01S3/0315 , H01S3/038 , H01S3/0401 , H01S3/09713 , H01S3/2232

95. 发明专利

JP2013507791A Co2 pre ionization method for a gas discharge laser 有权
公开(公告)号：JP2013507791A
公开(公告)日：2013-03-04
申请号：JP2012534240
申请日：2010-10-07
申请人：コヒレント, インコーポレイテッド
发明人：デイビッドジョンアリー， , ジョエルフォンタネラ，
IPC分类号： H01S3/097
CPC分类号： H01S3/09713 , H01S3/09702 , H01S3/1305 , H01S3/1306 , H01S3/2232
摘要：ＲＦ駆動のＣＯ
２ガス放電レーザは、複数の放電電極および電極間のレーザ用ガス混合物を含む。レーザ用ガス混合物は、ＲＦパワーが電極に印加されるとイオン化され、レーザ用ガス混合物中で放電を着火することに十分なほどの持続時間の間、ＲＦパワーが印加されるとレーザ作用が開始される。ガス混合物は、放電の着火が生じることが予測されない所定期間の間、電極にＲＦパワーを周期的に印加することによって、事前にイオン化される。電極から後方反射されるＲＦパワーが監視される。監視されるパワーが、所定の持続時間が経過する前に、レーザ作用の差し迫った発現を示す所定のレベルを下回ると、電極へのＲＦパワーの印加は、レーザ作用が生じないように終了される。

96. 发明专利

JP2012514868A Prevention of damage due to the high output co2 of the slab laser mirror particles 有权
公开(公告)号：JP2012514868A
公开(公告)日：2012-06-28
申请号：JP2011545366
申请日：2009-12-22
申请人：コヒーレント・インク
发明人：ホア・ゴンシュエ
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/02
CPC分类号： H01S3/0346 , H01S3/0315 , H01S3/038 , H01S3/0401 , H01S3/09713 , H01S3/2232
摘要：垂直方向に離間し電気的に絶縁され互いに平行な縦長の通電及び接地平板電極を備えるＣＯ
２ガス放電レーザーに関する。各電極はその両縁に沿って設けられたセラミックスペーサストリップで離間されている。補助電極が通電電極の両端部に長手方向に離間して通電電極と同一面内に設けられる。補助電極は接地電極から垂直方向に離間するが、電気的に接地電極に接続される。補助電極は、セラミックストリップの内縁間の離間距離より小さい距離だけ離間した２つの隆起部を有する。補助電極の隆起部は、レーザーを操作している際に共振器内に発生するレーザー光によるセラミックストリップの侵食を防止する。
【選択図】図２

97. 发明专利

JPS60196989A Exima gas laser 失效
标题翻译： EXIMA气体激光
公开(公告)号：JPS60196989A
公开(公告)日：1985-10-05
申请号：JP17053084
申请日：1984-08-17
申请人： Baanaado Bii Katsutsu
发明人： JIEFURII AI RABATSUTAA
IPC分类号： H01L31/04 , H01L21/20 , H01L21/268 , H01L31/18 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/104
CPC分类号： H01L21/268 , H01L31/1804 , H01L31/1864 , H01L31/1876 , H01S3/036 , H01S3/038 , H01S3/0384 , H01S3/09713 , Y02E10/547 , Y02P70/521 , Y10S117/904 , Y10S148/09 , Y10S148/092 , Y10S148/093

98. 发明专利

JPS5956992A Laser device 失效
标题翻译：激光装置
公开(公告)号：JPS5956992A
公开(公告)日：1984-04-02
申请号：JP16604382
申请日：1982-09-25
申请人： Toshiba Corp
发明人： ISHIKAWA KEN
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/097 , H01S3/0971 , H01S3/104 , H01S3/134
CPC分类号： H01S3/09713
摘要： PURPOSE:To simplify considerably the design of a driving power source required for control by constituting a titled device in such a way that the discharge power between main discharge electrodes can be controlled by the making power of an auxiliary AC power source. CONSTITUTION:Ionization is effected around main discharge electrodes 10a, 10b by the effect of an auxiliary electrode 14 and the larger current can be conducted even if the impressed voltage between the main electrodes is low when a voltage is impressed between the main discharge electrodes 10a, 10b and 11 from a DC power source 17 and an AC voltage is impressed on the auxiliary electrode 14. The discharge impedance between the main discharge electrodes decreases if the auxiliary AC power is applied in the above-mentioned way. The DC discharge power can be controlled with the AC power by subjecting the auxiliary AC power to an amplitude modulation. More specifically, the voltage drop between the main discharge electrodes decreases with an increase in the auxiliary AC discharge power, showing a tendency toward an increase in the max. discharge current of the DC discharge. Not only the impulsive or intermittent control of the DC main discharge by on-off control of the AC power but also the analogical variable control of the main discharge power by the analog amplitude modulation of the AC power are possible.
摘要翻译：目的：通过构成标题装置，可以通过辅助交流电源的供电来控制主放电电极之间的放电功率，从而大大简化了控制所需驱动电源的设计。构成：通过辅助电极14的作用在主放电电极10a，10b周围进行电离，即使当在主放电电极10a之间施加电压时，即使主电极之间的外加电压较低，也可以进行较大的电流，来自直流电源17的10b，11和AC电压施加在辅助电极14上。如果以上述方式施加辅助AC电力，则主放电电极之间的放电阻抗减小。通过对辅助AC电源进行幅度调制，可以通过AC电力来控制DC放电功率。更具体地，主放电电极之间的电压降随着辅助AC放电功率的增加而减小，显示出最大值的增加趋势。放电电流的直流放电。不仅可以通过交流电源的开关控制对直流主放电的脉冲或间歇控制，还可以通过AC电源的模拟幅度调制对主放电功率进行模拟可变控制。

99. 发明授权

KR101493807B1 단일 챔버 이중 전극 형태의 방전 챔버 및 엑시머 레이저 기기 有权
标题翻译：单室双电极放电室和准分子激光器
公开(公告)号：KR101493807B1
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：KR1020137020724
申请日：2012-03-26
申请人： 아카데미 오브 옵토-일렉트로닉스, 차이니즈 아카데미 오브 사이언시스
发明人： 왕,위 , 저우,이 , 딩,진빈 , 리우,빈 , 장,리자 , 자오,장산 , 사,펑페이
IPC分类号： H01S3/038 , H01S3/097
CPC分类号： H01S3/08 , H01S3/005 , H01S3/03 , H01S3/036 , H01S3/0384 , H01S3/0385 , H01S3/0388 , H01S3/076 , H01S3/08068 , H01S3/09713 , H01S3/10092 , H01S3/225 , H01S3/2333 , H01S3/235 , H01S3/2383
摘要： 본 발명은 레이저 기기 기술 분야에 관한 것으로, 구체적으로는 단일 챔버 이중 전극 형태의 방전 챔버 및 이 방전 챔버를 사용하는 엑시머 레이저 기기에 관한 것으로, 상기 단일 챔버 이중 전극 형태의 방전 챔버는 챔버체와 2 세트의 메인 방전 전극을 포함하고, 상기 챔버체는 좌,우 두개의 공간을 포함하여 대칭되는 이중 공간 구조 챔버 형상을 형성한다. 매개 공간의 단면 형상은 모두 위부분이 작고 아래 부분이 큰 “배” 형상을 이루며, 상기 좌,우 두개의 공간은 전체 방전 챔버의 대칭면 부분에서 인접하여 연통된다. 상기 2 세트의 메인 방전 전극은 각각 좌,우 두개의 공간의 상측에 위치한다. 본 발명은 하나의 단일 챔버 구조를 이용하여 MOPA, MOPO, MOPRA 구조의 이중 챔버 기능을 실현하였으며 시스템의 복잡성을 감소시킬 뿐만 아니라 방전 챔버의 방전 동기화도 확보한다.

100. 发明授权

KR101334614B1 가스 방전 레이저용의, 열팽창에 내성이 있는 예비이온화기전극 有权
标题翻译：用于气体放电激光器的预热器电极
公开(公告)号：KR101334614B1
公开(公告)日：2013-11-29
申请号：KR1020087009797
申请日：2006-09-25
申请人： 사이머 엘엘씨
发明人： 스티겔토마스디. , 유재즈도프스키,리차드씨.
IPC分类号： H01S3/097
CPC分类号： H01S3/09713 , H01S3/036 , H01S3/0384 , H01S3/0385 , H01S3/0388 , H01S3/225
摘要： 가스 방전 레이저용 코로나-방전 유형의, 예비이온화기 어셈블리가 개시된다. 상기 어셈블리는 튜브 내경을 형성하는 속이 빈 유전체 튜브와, 전극을 포함한다. 일 측면에서, 상기 전극은 상기 튜브의 내경에 배치되는 제 1 끝단을 가지는 제 1의 기다란 도전성 부재를 포함한다. 추가로, 상기 전극은 상기 내경에 배치되고 상기 제 1 도전성 부재의 제 1 끝단으로부터 공간을 두고 배치되는 제 1 끝단을 가지는 제 2의 기다란 도전성 부재를 포함한다. 상기 어셈블리에 대해, 상기 제 1 및 제 2 도전성 부재는 동일한 전압 퍼텐셜에서 유지된다.
튜브 내경, 유전체 튜브, 전극, 제 1 끝단, 제 1 부재, 제 2 끝단, 제 2 부재, 전압 퍼텐셜, 가스 방전 레이저, 예비이온화기 어셈블리, 로드, 구멍

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