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91. 发明公开

KR1020150133130A 노광 장치, 정렬 방법 및 디바이스 제조 방법 审中-实审
标题翻译：曝光装置，对准方法和装置制造方法
公开(公告)号：KR1020150133130A
公开(公告)日：2015-11-27
申请号：KR1020150065297
申请日：2015-05-11
申请人： 캐논 가부시끼가이샤
发明人： 오구라다카시
IPC分类号： G03F9/00 , G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F9/7007 , G03F7/70141
摘要： 노광장치는제1 검출기와, 제1 정렬유닛과, 제2 검출기와, 제2 정렬유닛과, 컨트롤러를포함하고, 상기컨트롤러는, 상기제1 정렬유닛에의해미리정해진정렬정밀도로상기기판의정렬이행해질수 있을때, 제1 시야에서의상기제2 검출기에의한상기마크의검출로부터의검출결과에기초하여상기기판의정렬이행해지도록상기제2 정렬유닛을제어하고, 상기제1 정렬유닛에의해상기미리정해진정렬정밀도로상기기판의정렬이행해질수 없을때, 상기제1 시야보다넓은제2 시야에서의상기제2 검출기에의한상기마크의검출로부터의검출결과에기초하여상기기판의정렬이행해지도록상기제2 정렬유닛을제어한다.
摘要翻译：根据本发明的曝光装置包括：第一检测器; 第一对准单元; 第二检测器; 第二对准单元; 和控制器。当可以执行由第一对准单元预定的对准精度的基板的对准时，控制器基于来自第二检测器的标记的检测的检测结果在第一视野处控制第二对准单元以对准基板并且当基于第一对准单元预定的对准精度的基板的取向不能时，基于来自第二检测器的标记的检测结果，在比第一视野宽的第二视场的情况下对准基板执行。

92. 发明公开

KR1020150117349A 위상 변환 마스크 및 이를 이용한 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：相位移屏蔽及其使用形状图案的方法
公开(公告)号：KR1020150117349A
公开(公告)日：2015-10-20
申请号：KR1020140042458
申请日：2014-04-09
申请人： 삼성디스플레이 주식회사
发明人： 이동언 , 강민 , 김봉연 , 손용 , 우준혁 , 이현주 , 주진호
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F1/30 , G03F1/26 , G03F7/2002 , G03F7/2008 , G03F7/70191 , G03F7/70283 , G03F9/7003 , G03F9/7007 , H01L21/0273
摘要： 본발명의일 실시예에따른위상변환마스크는제1 영역및 상기제1 영역의양측에구비되는복수의제2 영역들로구분되는마스크기판및 마스크기판상에제1 영역에대응하여구비되는위상변환층을포함한다. 위상변환층의투과율은 45% 이상이다. 위상변환마스크를이용하여패턴을형성하면, 하나의위상변환층에대응하는복수의포토레지스트패턴이형성되므로위상변환마스크의해상도보다높은해상도를갖는패턴을형성할 수있다.
摘要翻译：根据本发明的实施例，相位转换掩模包括：掩模基板，分为第一区域和第二区域两侧的多个第二区域; 以及响应于掩模基板上的第一区域的相位转换层。相变层的透射率为45％以上。通过使用相变掩模形成图案，形成与一相转换层对应的多个光致抗蚀剂图案，从而可以形成分辨率高于相变掩模的图案。

93. 发明申请

WO2016055259A1 OPTISCHES SYSTEM ZUR LITHOGRAFISCHEN STRUKTURERZEUGUNG 审中-公开
标题翻译：光学系统，用于光刻结构生产
公开(公告)号：WO2016055259A1
公开(公告)日：2016-04-14
申请号：PCT/EP2015/071709
申请日：2015-09-22
申请人： CARL ZEISS AG
发明人： HÜBNER, Philipp , KRAMPERT, Gerhard , RICHTER, Stefan , MAPPES, Timo
IPC分类号： G03F7/20 , G03F9/00
CPC分类号： G03F7/70383 , G03F7/70683 , G03F9/7007 , G03F9/7011
摘要： Ein optisches System (1) zur lithografischen Strukturerzeugung hat eine Projektionsoptik (8) zur Führung eines strukturerzeugenden Schreiblichtbündels in einen Schreibfokus (9) im Bereich einer Substrat-Oberfläche (10) in einer Substratebene (12). Eine Ablenkeinrichtung (5) dient zur Ablenkung des Schreibfokus (9) des Schreiblichtbündels innerhalb eines Schreib feldes (13) im Bereich der Substrat- Oberfläche (10). Eine Vorschauoptik (14) dient zur Abbildung eines Vorschaufeldes (15) im Bereich der Substrat-Oberfläche (10). Das Vorschaufeld (15) hat eine Fläche, die um mindestens einen Faktor 10 größer ist als eine Fläche des Schreibfeldes (13). Die Projektionsoptik (8) und die Vorschauoptik (14) werden von einem gemeinsamen Rahmen (16) getragen. Ein Substrathalter (18) ist in einer Ebene (xy) parallel zur Substrat-Oberfläche (10) in zwei Translationsfreiheitsgraden (x, y) verlagerbar. Weiterhin hat das System (1) eine Steuereinheit (27) mit einem Speicher (28), in dem Relativkoordinaten einer Lage des Schreibfeldes (13) relativ zur Lage des Vorschaufeldes (15) abgelegt sind. Es resultiert ein optisches System, bei dem eine Positionierung eines Substrats, welches bei der lithografischen Strukturerzeugung bearbeitet wird, mit guter Zielgenauigkeit erreicht wird.
摘要翻译：的光学系统（1），用于光刻制造具有投影光学系统（8），用于在一基板表面（10）的区域在基板平面（12）的结构产生写光束引导到写焦点（9）的结构。偏转器（5）用于在衬底表面（10）的区域中的写入场（13）内偏转的写入光束的写入焦点（9）。预览光学器件（14）用于在衬底表面（10）的区域进行成像的预览字段（15）。预览框（15）具有由至少一个比写入字段（13）的表面的10因子大的面积。投影光学系统（8）和缩略图光学器件（14）是由一个共同的框架（16）承载。甲衬底支架（18）是在平面（xy）平行于在两个平移自由度（X，Y）的衬底表面（10）的可位移。此外，该系统（1）包括具有存储器（28）的控制单元（27），在写入场的位置的相对坐标（13）相对于所述预览字段（15）的位置被存储。这导致在其中其在光刻图案生成处理的基板，的定位以良好的精度来实现的光学系统。

94. 发明申请

WO2016030227A1 METHOD FOR CONTROLLING A DISTANCE BETWEEN TWO OBJECTS, INSPECTION APPARATUS AND METHOD 审中-公开
标题翻译：用于控制两个对象之间的距离的方法，检查装置和方法
公开(公告)号：WO2016030227A1
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：PCT/EP2015/068925
申请日：2015-08-18
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： PANDEY, Nitesh
IPC分类号： G03F9/00 , G01B11/14
CPC分类号： G01B11/14 , G03F7/70625 , G03F7/70633 , G03F9/7007 , G03F9/703
摘要： A broadband spectroscopic analysis is used for controlling a distance (d) between a miniature solid immersion lens (SIL, 60) and a metrology target (30'). An objective lens arrangement (15, 60) including the SIL illuminates the metrology target with a beam of radiation with different wavelengths and collects a radiation (709) reflected or diffracted by the metrology target. A mounting (64) holds the SIL within a distance from the metrology target that is less than the coherence length of the illuminating radiation (703). A detection arrangement (812, 818) produces a spectrum of the radiation reflected or diffracted by the metrology target. The distance between the SIL and the metrology target or other target surface can be inferred from spectral shifts observed in the detected spectrum. Servo control of the distance is implemented based on these shifts, using an actuator (66).
摘要翻译：使用宽带光谱分析来控制微型固体浸没透镜（SIL，60）和测量目标（30'）之间的距离（d）。包括SIL的物镜布置（15,60）利用具有不同波长的辐射束照亮计量目标，并收集由计量目标反射或衍射的辐射（709）。安装件（64）将SIL保持在远离测量目标的距离小于照射辐射（703）的相干长度的距离处。检测装置（812,818）产生由计量目标反射或衍射的辐射的光谱。 SIL和测量目标或其他目标表面之间的距离可以从在检测到的光谱中观察到的光谱偏移推断出来。使用致动器（66），基于这些偏移来实现距离的伺服控制。

95. 发明申请

WO2015080782A3 ALIGNMENT SENSOR AND HEIGHT SENSOR 审中-公开
标题翻译：对准传感器和高度传感器
公开(公告)号：WO2015080782A3
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：PCT/US2014055242
申请日：2014-09-11
申请人： KLA TENCOR CORP
发明人： MCCORD MARK A , DI REGOLO JOSEPH
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G01B11/0608 , G01B11/27 , G03F9/7007 , G03F9/7034 , G03F9/7069 , H01J2237/2482 , H01J2237/30438 , H01J2237/31774
摘要： One embodiment relates to a device that senses alignment and height of a work piece. The device may include both an alignment sensor and a height sensor. The alignment sensor generates a first illumination beam that illuminates an alignment mark on the work piece so as to create a first reflected beam, and determines the alignment of the work piece using the first reflected beam. The height sensor generates a second illumination beam that is directed to a surface of the work piece at an oblique angle so as to form a second illumination spot and images the second illumination spot to determine the height of the work piece. Other embodiments, aspects and features are also disclosed.
摘要翻译：一个实施例涉及感测工件的对准和高度的装置。该装置可以包括对准传感器和高度传感器。对准传感器产生照亮工件上的对准标记的第一照明光束，以产生第一反射光束，并且使用第一反射光束确定工件的对准。所述高度传感器产生第二照明光束，所述第二照明光束以斜角指向所述工件的表面，以便形成第二照明光点并且对所述第二照明光斑进行成像以确定所述工件的高度。还公开了其它实施例，方面和特征。

96. 发明申请

WO2015080782A2 ALIGNMENT SENSOR AND HEIGHT SENSOR 审中-公开
标题翻译：校准传感器和高度传感器
公开(公告)号：WO2015080782A2
公开(公告)日：2015-06-04
申请号：PCT/US2014/055242
申请日：2014-09-11
申请人： KLA-TENCOR CORPORATION
发明人： MCCORD, Mark A. , DI REGOLO, Joseph
IPC分类号： H01L21/027 , H01L21/66
CPC分类号： G01B11/0608 , G01B11/27 , G03F9/7007 , G03F9/7034 , G03F9/7069 , H01J2237/2482 , H01J2237/30438 , H01J2237/31774
摘要： One embodiment relates to a device that senses alignment and height of a work piece. The device may include both an alignment sensor and a height sensor. The alignment sensor generates a first illumination beam that illuminates an alignment mark on the work piece so as to create a first reflected beam, and determines the alignment of the work piece using the first reflected beam. The height sensor generates a second illumination beam that is directed to a surface of the work piece at an oblique angle so as to form a second illumination spot and images the second illumination spot to determine the height of the work piece. Other embodiments, aspects and features are also disclosed.
摘要翻译：一个实施例涉及感测工件的对准和高度的装置。该装置可以包括对准传感器和高度传感器。对准传感器产生照射工件上的对准标记的第一照射束以产生第一反射光束，并使用第一反射光束确定工件的对准。高度传感器产生第二照明光束，该第二照明光束以倾斜角度被引导到工件的表面，以形成第二照射点并且成像第二照射点以确定工件的高度。其他实施例，方面和特征也被公开。

97. 发明申请

WO2012176473A1 ドットマーキングを有する半導体基板、およびその製造方法审中-公开
标题翻译：具有DOT标记的半导体衬底及其制造方法
公开(公告)号：WO2012176473A1
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：PCT/JP2012/004073
申请日：2012-06-22
申请人：パナソニック株式会社 , 臼井幸也
发明人：臼井　幸也
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/306 , H01L31/04
CPC分类号： H01L29/06 , G03F9/7007 , H01L21/30604 , H01L23/544 , H01L31/02 , H01L2223/54413 , H01L2223/5442 , H01L2223/54433 , H01L2223/54453 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要：　ドットマーキングを有する半導体基板を提供する。特に、読取り率が向上されたドットマーキングを有する半導体基板を提供する。逆錐台状の凹部からなる複数のドットマーキングを有する半導体基板であって、複数のドットマーキングは、０．２５～９ｍｍ２の矩形領域に配置された２次元コードを構成する。凹部の口径Ｗは２０μｍ～２００μｍであり、かつ前記凹部の底面の径ｗよりも大きいとともに、前記半導体基板の厚みよりも小さい。また凹部の側面は、４つ以上の台形状の平坦なテーパ面を有し、前記テーパ面のテーパ角度が前記半導体基板表面に対して、４４～６５°の範囲にある。
摘要翻译：提供具有点标记的半导体衬底。特别地，提供了具有点标记的半导体衬底，其提供了改进的读取速率。半导体衬底具有包括倒立的截头圆锥形状的凹陷部分的多个点标记，多个点标记构成设置在0.25-9mm2矩形区域中的二维码。凹部的孔径W比凹部的底面的直径w大，比半导体衬底的厚度小20μm〜200μm。凹陷部分的侧面具有四个或更多个梯形形状的平坦锥形面，锥形面相对于半导体衬底表面的锥角在44-65°的范围内。

98. 发明申请

WO99054785A1 METHOD FOR MEASURING THE POSITION OF STRUCTURES ON A SURFACE OF A MASK 审中-公开
标题翻译：法测量结构的位置在屏幕表面
公开(公告)号：WO99054785A1
公开(公告)日：1999-10-28
申请号：PCT/DE1999/000566
申请日：1999-03-03
IPC分类号： G03F1/08 , G01B11/03 , G03F7/20 , G03F9/00 , G06T7/60 , G03F1/00
CPC分类号： G03F9/7007 , G03F7/70716 , G06T7/60
摘要： The invention relates to a method for measuring structures on a surface of a mask in which the mask is mounted in an image evaluating coordinate measuring device on a measuring table. Said measuring table can be perpendicularly displaced in relation to the optical axis of an imaging measuring system in a manner which is interferometrically measurable. In addition, a mask coordinate system which is assigned to the mask is aligned in relation to a measuring device coordinate system by using alignment marks. The specified position of the structures is predetermined in the mask coordinate system. In addition to the actual position of the structures in the mask coordinate system, the position of at least two outer edges of the mask which are perpendicular to one another is also measured in the mask coordinate system.
摘要翻译：在用于在掩模表面结构的测量的方法，其中所述掩模存储在图像评价坐标测量机上的垂直干涉可测量换挡到成像的光轴测量系统测量台和掩模相关联的屏蔽坐标系对准标记相对于一个测量装置的坐标系并且其中，所述结构的所述目标位置在所述掩模是预定的坐标系也是除了被测量为所述结构在掩模坐标系统中的实际位置上的掩模的至少两个相互垂直的外边缘的在掩模坐标系中的位置。

99. 发明专利

JP5979626B2 像内の構造の位置を決定する方法及び該方法を実施するための位置測定装置有权
标题翻译：位置测量装置用于执行该过程和方法，用于确定图像中的结构的位置
公开(公告)号：JP5979626B2
公开(公告)日：2016-08-24
申请号：JP2011213393
申请日：2011-09-08
申请人：カールツァイスエスエムエスゲーエムベーハー
发明人：マリオレンクル
IPC分类号： H01L21/027 , G03F1/84 , G01B11/00
CPC分类号： G03F1/84 , G03F9/7007 , G03F9/7088 , G06T7/001 , G06T7/74 , G06T2207/30148

100. 发明专利

JP2016523379A フォトリソグラフィマスクの基板上のアラインメントマークの基準点の自動決定のための方法及びデバイス审中-公开
标题翻译：方法和装置用于光刻掩模的衬底上的自动确定的对准标记的基准点的
公开(公告)号：JP2016523379A
公开(公告)日：2016-08-08
申请号：JP2016520411
申请日：2014-06-16
申请人：カール・ツァイス・エスエムティー・ゲーエムベーハー
发明人：ミヒャエルブダッハ , ミヒャエルブダッハ , ラルフシェーンベルガー , ラルフシェーンベルガー , ミヒャエルヨースト , ミヒャエルヨースト
IPC分类号： G03F1/84 , G03F1/42 , G03F9/00
CPC分类号： G01B11/14 , G03F7/70141 , G03F9/7007 , G03F9/7088
摘要：本発明は、フォトリソグラフィマスクの基板上のアラインメントマークの基準点の自動決定のための方法に関し、本方法は、(a)アラインメントマークの第1の要素を位置付けるためにアラインメントマークが内部に配置された基板の開始領域内で基板の面上で第1の方向に第1の線走査を実行する段階と、(b)アラインメントマークの第2の要素を位置付けるために開始領域内で基板の面上で第1の方向と交差する少なくとも第2の方向に第2の線走査を実行する段階と、(c)アラインメントマークの位置付けられた第1の要素及び位置付けられた第2の要素からアラインメントマークの基準点を推定する段階と、(d)アラインメントマークの基準点を決定するためにアラインメントマークの推定基準点の周りのターゲット領域を結像する段階であって、結像が、段階(a)及び段階(b)における線走査の実行よりも高い分解能で行われる上記結像する段階とを含む。【選択図】図9
摘要翻译：本发明涉及一种用于自动确定的光刻掩模，该方法的基板上的对准标记的参考点的方法，所述对准标记设置在其中用于：（a）对准标记的第一元件定位并且为了在衬底的起始区域中的衬底的表面上在起始区域中的衬底的第二表面在第一方向执行第一行扫描，（b）中的对准标记的步骤来定位的元素执行第二线扫描到至少一个第二方向相交在所述第一元件的第一方向并定位在定位（c）中的对准标记的对准标记的第二元件的步骤估计的基准点，包括为了确定参考点（d）中的对准标记周围的对准标记的估计出的基准点成像目标区域的步骤中的一个步骤，成像在比在步骤线扫描（a）和步骤（b）包括成像的步骤的执行的更高的分辨率下进行。 9系统技术领域

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