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    • 92. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER VIELZAHL VON HALBLEITERLASERCHIPS UND HALBLEITERLASERCHIP
    • WO2023016912A1
    • 2023-02-16
    • PCT/EP2022/071947
    • 2022-08-04
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • VON MALM, NorwinBEHRINGER, Martin Rudolf
    • H01S5/02
    • Es wird ein Verfahren zur Herstellung einer Vielzahl von Halbleiterlaserchips (20), das Verfahren umfassend Aufwachsen einer Halbleiterschicht (21) mit einem aktiven Bereich (22), Bilden von einer Vielzahl von Laserchipbereichen (29), wobei jeder Laserchipbereich (29) einen Teil des aktiven Bereichs (22), einen Teil der Halbleiterschicht (21), einen ersten Spiegel (25) und einen zweiten Spiegel (28) aufweist, Aufbringen einer Opferschicht (27) auf die Laserchipbereiche (29), Formen mindestens eines Stützbereichs (30) pro Laserchipbereich (29) innerhalb der Opferschicht (27), Aufbringen eines Hilfsträgers (31) auf die Opferschicht (27), Vereinzeln der Laserchipbereiche (29) in Halbleiterlaserchips (20) auf dem Hilfsträger (31), wobei jeder Halbleiterlaserchip (20) einen ersten Bereich (23) der Halbleiterschicht (21) und einen zweiten Bereich (24) der Halbleiterschicht (21) aufweist, wobei der erste Bereich (23) und der zweite Bereich (24) parallel zur Haupterstreckungsebene der Halbleiterschicht (21) voneinander verschiedene Erstreckungen aufweisen und der erste Spiegel (25) und der zweite Spiegel (28) an den zweiten Bereich (24) angrenzen, Entfernen der Opferschicht (27), und gleichzeitiges Transferieren zumindest einiger der Halbleiterlaserchips (20) auf einen Träger (32). Außerdem wird ein Halbleiterlaserchip (20) angegeben.
    • 99. 发明申请
    • BAUELEMENT UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES BAUELEMENTS
    • COMPONENT和方法的用于制造部件
    • WO2016202794A1
    • 2016-12-22
    • PCT/EP2016/063622
    • 2016-06-14
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • VON MALM, NorwinSINGER, Frank
    • H01L33/62H01L33/48
    • H01L33/62G02B6/0073G02B6/0083H01L33/0095H01L33/382H01L33/486H01L33/60H01L2933/0066H01L2933/0091
    • Es wird ein Bauelement (100)mit einem Träger (1) und einem auf dem Träger angeordneten Halbleiterkörper (2) angegeben, wobei der Träger aus einem Formkörper (5) sowie einer Metallschicht (4) gebildet ist. Die Metallschicht weist zur elektrischen Kontaktierung des Halbleiterkörpers einen ersten Teilbereich (41) und einen zweiten Teilbereich (42) auf, wobei der erste Teilbereich von dem zweiten Teilbereich durch einen Zwischenraum (40) lateral beabstandet und dadurch elektrisch getrennt ist. Der Formkörper füllt den Zwischenraum auf und weist eine sich in lateralen Richtungen erstreckende Oberfläche auf, welche frei von den Teilbereichen der Metallschicht ist und die Rückseite des Trägers bildet. Der Träger weist eine Seitenfläche (10) auf, die bereichsweise durch eine sich in vertikalen Richtungen erstreckende Oberfläche des Formkörpers gebildet ist, wobei zumindest einerder Teilbereiche (41, 42) über die Seitenfläche elektrisch kontaktierbar ausgebildet ist. Des Weiteren wird ein Verfahren angegeben, das zur Herstellung eines solchen Bauelements besonders geeignet ist.
    • 据上述(1)和,布置在所述半导体主体(2),与载体,其中所述载体是成型体(5)和金属层(4)的部件(100)形成在所述载体上。 所述金属层具有对所述半导体主体的上的第一部分(41)和第二部分(42)电接触,其中,从所述第二部分通过一间隙(40),所述第一部分横向地且由此电隔离开。 的成型体填充间隙和在横向方向上表面,该表面从所述金属层的部分自由并形成穿着者的背部已延伸。 该载体具有一个侧表面(10)在其上部分地由所述成型体的垂直方向上的表面,延伸其特征在于所述的至少一个部分(41,42)形成在侧表面电接触地形成。 此外,提供了其特别适合于制造这种组件的方法。