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1. 发明申请

WO2009127794A1 SPECTROMETRE COMPACT A ECHANTILLONAGE BIDIMENSIONNEL 审中-公开
标题翻译：用于二维采样的精密光谱仪
公开(公告)号：WO2009127794A1
公开(公告)日：2009-10-22
申请号：PCT/FR2009/000279
申请日：2009-03-17
申请人： UNIVERSITÉ DE TECHNOLOGIE DE TROYES , HADJAR, Yassine , BLAIZE, Sylvain , BRUYANT, Aurélien , LERONDEL, Gilles , ROYER, Pascal
发明人： HADJAR, Yassine , BLAIZE, Sylvain , BRUYANT, Aurélien , LERONDEL, Gilles , ROYER, Pascal
IPC分类号： G01J3/02 , G01J3/453 , G01J3/28
CPC分类号： G01J3/0205 , G01J3/02 , G01J3/021 , G01J3/2803 , G01J3/45 , G01J3/453
摘要： La présente invention concerne un spectromètre comprenant un dioptre (11), des moyens de capture (15,18) au niveau dudit dioptre (11) d'un interférogramme (12) issu de deux faisceaux d'interférence (F1,F2) et formant des lignes d'interférence (13) suivant l'axe transversal (Ox) de l'interférogramme (12) appartenant au plan (xOy) du dioptre (11), lesdits moyens de capture (15,18) comprenant un réseau (18) d'éléments de détection (19) agencé pour détecter la répartition spatiale dudit interférogramme (12), caractérisé en ce que ledit réseau (18) d'éléments de détection (19) est bidimensionnel et en ce qu'au moins une partie desdits moyens de capture (15,18) et ledit interférogramme (12) sont inclinés l'un par rapport à l'autre suivant l'axe transversal (Ox) de l'interférogramme (12). La présente invention concerne également un dispositif d'imagerie spectroscopique comprenant des moyens d'émission de deux faisceaux d'interférence (F1,F2) et un tel spectromètre.
摘要翻译：本发明涉及一种包括屈光度（11）的光谱仪; 用于在所述屈光度计（11）处记录由两个干涉光束（F1，F2）形成并沿着干涉图的横轴（Ox）形成干涉线（13）的干涉图（12）的记录装置（15,18）（12）在所述屈光度计（11）的平面（xOy）中，所述记录装置（15,18）包括检测元件（19）的网络（18），以便检测所述干涉图（12）的空间分布。并且其特征在于，所述检测元件（19）的网络（18）是二维的，其中所述记录装置（15,18）和所述干涉图（12）的至少一部分沿着横轴成彼此成角度（Ox）的干涉图（12）。本发明还涉及一种分光成像装置，其包括用于发射两个干涉光束（F1，F2）的装置以及这种光谱仪。

2. 发明申请

WO2019016045A1 PROCÉDÉ DE LITHOGRAPHIE INTERFÉRENTIELLE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019016045A1
公开(公告)日：2019-01-24
申请号：PCT/EP2018/068793
申请日：2018-07-11
申请人： UNIVERSITÉ DE TECHNOLOGIE DE TROYES
发明人： LERONDEL, Gilles , TOURY, Timothée , IBRAHIM, Joyce , RUMYANTSEVA, Anna
IPC分类号： G03F7/20
摘要： L'invention concerne un procédé de fabrication de structures à symétrie limitée par lithographie interférentielle comprenant une étape d'insolation par lithographie interférentielle d'un matériau photosensible (18) disposé sur un substrat (20). L'étape d'insolation comprend au moins trois expositions interférentielles successives réalisées avec trois faisceaux lumineux coplanaires (12, 14, 16) issus d'un système optique et interférant sur une surface d'exposition du matériau photosensible; une première rotation relative étant réalisée entre ledit système optique et ledit substrat entre la première et la deuxième exposition interférentielle, puis une deuxième rotation entre la deuxième et la troisième exposition interférentielle. On présente également un ssystème optique adapté pour mettre en œuvre ce procédé et utilisant des moyens pour former le faisceau comprenant un prisme.

3. 发明申请

WO2015136165A1 PROCÉDÉ D'OPTIMISATION DE LA COLLECTION DE PHOTONS DANS DES CRISTAUX SCINTILLATEURS, CRISTAL ET UTILISATIONS ASSOCIÉS 审中-公开
标题翻译：用于优化扫描器晶体中的光子的收集方法以及相关晶体和用途
公开(公告)号：WO2015136165A1
公开(公告)日：2015-09-17
申请号：PCT/FR2015/000060
申请日：2015-03-13
申请人： UNIVERSITÉ DE TECHNOLOGIE DE TROYES , CERN, ORGANISATION EUROPÉENNE POUR LA RECHERCHE NUCLÉAIRE , SILSEF , LABORATOIRE CHIMIE DE LA MATIÈRE CONDENSÉE DE PARIS (LCMCP)
发明人： LERONDEL, Gilles , LE CUNFF, Loic , SALAS MONTIEL, Rafael , LECOQ, Paul , TUROVER, Daniel , GROSSO, David
IPC分类号： G01T1/20
CPC分类号： G01T1/2002
摘要： L'invention concerne un procédé d'optimisation de la gestion de photons dans des cristaux scintillateurs caractérisé par les étapes suivantes : - déposer un matériau (5) ayant un indice de réfraction "n" environ égal à l'indice de réfraction d'un cristal scintillateur (1) sur une face (2) dudit cristal scintillateur; - structurer ledit matériau (5) via un moyen de structuration; - créer des structures (6) de tailles sub-diffractives dans ledit matériau (5) afin de permettre une adaptation de l'indice de réfraction entre le cristal scintillateur (1) et le matériau (5) sur ladite face (2) et/ou créer des structures (6) à la limite de diffraction dans ledit matériau (5) sous forme d'un réseau de distribution blasé avec un seul ordre, en redirigeant directement des photons réfléchis sur des faces latérales (20) dudit cristal vers la face (2) dudit cristal, pour permettre une diminution de la distribution temporelle.. L'invention concerne encore les moyens de structuration du matériau (5) ainsi que le cristal scintillateur ainsi optimisé pour la gestion des photons. L'invention concerne en outre l'utilisation d'un cristal scintillateur optimisé selon le procédé ci-dessus dans des systèmes de détections de particules et/ou d'imagerie médicale et/ou des systèmes de sécurités et/ou pour la surveillance liée aux rayonnements.
摘要翻译：本发明涉及一种在闪烁晶体中优化光子管理的方法。所述方法的特征在于包括以下步骤：在所述闪烁晶体的一个表面（2）上沉积具有大约等于闪烁晶体（1）的折射率的折射率“n”的材料（5） ; 通过结构化装置构造所述材料（5）; 以及在所述材料（5）中产生亚衍射尺寸结构（6），以使折射率能够适应闪烁晶体（1）和所述表面（2）上的材料（5）和/或产生结构（6）以所述材料（5）中的衍射极限以单阶闪耀分布光栅的形式，通过将所述晶体的侧表面（20）上反射的光子直接转向所述晶体的表面（2），例如能够减少时间分布。本发明还涉及用于构造材料（5）的装置以及由此优化用于光子管理的闪烁晶体。本发明还涉及根据上述方法优化的闪烁晶体在颗粒检测系统和/或医学成像和/或安全系统中和/或辐射相关监测中的应用。

4. 发明公开

EP2486393A2 SYSTEME DE DETECTION OPTIQUE A SUBSTRAT ACTIF, PROCEDE DE FABRICATION D'UN TEL SYSTEME 审中-公开
标题翻译：根据上述制造这样的系统中的主动基板及方法光学检测系统
公开(公告)号：EP2486393A2
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：EP10781960.9
申请日：2010-10-08
申请人： Université de Technologie de Troyes
发明人： LERONDEL, Gilles , DIVAY, Laurent , LEBARNY, Pierre , SIMIC, Vesna , GALTIER, Pierre
IPC分类号： G01N21/64 , H01L33/00
CPC分类号： G01N21/645 , G01N21/6428
摘要： The present invention relates to an optical detection system (1) including a means for emitting a pump beam (5), as well as a substrate (2) on which is deposited a luminescent layer (4) capable of emitting photons by means of luminescence when exposed to said beam (5). Said system also includes a supporting layer (3) arranged between the substrate (2) and the luminescent layer (4), said supporting layer (3) being suitable for absorbing the beam (5), for confining said beam (5) or the photons emitted and for transmitting a part of the energy corresponding to said luminescent layer (4). The present invention also relates to a method for manufacturing such an optical detection system (1).

5. 发明授权

EP2875522B1 PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COUCHE MINCE DE NANORELIEFS DE SILICIUM ORDONNES 有权
公开(公告)号：EP2875522B1
公开(公告)日：2020-01-08
申请号：EP13744763.7
申请日：2013-07-17
申请人： Université de Technologie de Troyes , Université Pierre et Marie Curie (Paris 6)
发明人： LERONDEL, Gilles , GROSSO, David , BOISSIERE, Cédric
IPC分类号： H01L21/308 , B81C1/00 , B82Y40/00

6. 发明公开

EP2430220A1 PROCEDE DE NANOSTRUCTURATION D'UN FILM OU D'UNE GALETTE DE MATERIAU DU TYPE OXYDE METALLIQUE OU SEMI-CONDUCTEUR 审中-公开
标题翻译： NANO结构电影的方法或晶片OFF金属氧化物或半导体材料
公开(公告)号：EP2430220A1
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：EP10728759.1
申请日：2010-05-12
申请人： Université de Technologie de Troyes
发明人： LERONDEL, Gilles , DIVAY, Laurent
IPC分类号： C30B7/00 , C30B19/10 , C30B29/16 , C30B29/60 , C30B29/62 , G03F7/00
CPC分类号： C30B7/005 , C30B19/103 , C30B29/16 , C30B29/605 , C30B29/62 , G03H1/0244 , G03H2001/0268 , G03H2001/0413 , G03H2001/0432 , G03H2210/63 , H01L21/30604 , H01L21/465
摘要： The present invention relates to a method of nanostructuring a film (2) of material, comprising a step of immersing said film (2) of material in an aqueous solution (3) and, during this step, an interference pattern (6) comprising bright areas (6b) and dark areas (6a) is applied on at least one of the faces of the film (2). According to the method of the invention, said material is an oxide or semiconductor inorganic material which can be dissolved to form an aqueous solution under the effect of light absorption. The nanostructuring of the film (2) takes place, on its surface in contact with the aqueous solution (3), by photodissolution in the bright areas (6a) and by growth in the dark areas (6b) of the interference pattern (6). The present invention also relates to a nanostructured coating film (5) obtained by such a method of preparation and to a nanostructured 3D film.

8. 发明公开

EP2875522A1 PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE COUCHE MINCE DE NANORELIEFS DE SILICIUM ORDONNES 审中-公开
标题翻译：法生产薄膜在父硅纳米格局
公开(公告)号：EP2875522A1
公开(公告)日：2015-05-27
申请号：EP13744763.7
申请日：2013-07-17
申请人： Université de Technologie de Troyes , Université Pierre et Marie Curie (Paris 6)
发明人： LERONDEL, Gilles , GROSSO, David , BOISSIERE, Cédric
IPC分类号： H01L21/308 , B81C1/00 , B82Y40/00
摘要： The invention relates to a method for manufacturing a thin film of ordered silicon nanopatterns including the steps of: A) preparing a self-organised reactive nanomask (RNM) consisting of MxM'yOz, referred to as an initial RNM, using an inorganic nanomask INP; B) the liquid deposition of said initial RNM onto a silicon substrate; C) transferring said nanomask MxM'yOz to the silicon substrate by dry etching, by exposing said nanomask MxM'yOz to a fluorinated plasma gas for 0.5 to 4 minutes according to the constitution of said gas, transforming the MxM'yOz into a stable MF
2 component referred to as an intermediate nanomask, which enables either a nanoperforated thin film or an ordered lattice of silicon nanowires to be obtained, which have dimensions and a period linked to those of the initial RNM. The invention relates to nanoperforated thin films obtained by the method above, as well as to the use of ordered silicon nanowires for optical and photonic purposes.

9. 发明公开

EP3655821A1 PROCÉDÉ DE LITHOGRAPHIE INTERFÉRENTIELLE 有权
公开(公告)号：EP3655821A1
公开(公告)日：2020-05-27
申请号：EP18737918.5
申请日：2018-07-11
申请人： Université de Technologie de Troyes
发明人： LERONDEL, Gilles , TOURY, Timothée , IBRAHIM, Joyce , RUMYANTSEVA, Anna
IPC分类号： G03F7/20

10. 发明公开

EP3551788A1 PROCÉDÉ D'INTÉGRATION DE MATÉRIAUX 2D SUR UN SUBSTRAT NANOSTRUCTURE, FILM MINCE SUSPENDU DE MATÉRIAUX 2D ET UTILISATIONS ASSOCIES 审中-公开
公开(公告)号：EP3551788A1
公开(公告)日：2019-10-16
申请号：EP17832986.8
申请日：2017-12-09
申请人： Université de Technologie de Troyes
发明人： LERONDEL, Gilles , JEONG, Hyun , GOKARNA, Anisha
IPC分类号： C30B11/00 , C30B29/52 , C30B25/18 , C30B29/46 , C30B29/60 , C30B33/06

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