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    • 4. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM TRANSFER VON GRAPHEN-STÜCKEN AUF EIN SUBSTRAT
    • 将图形片转移到基片的方法
    • WO2017097279A1
    • 2017-06-15
    • PCT/DE2016/000400
    • 2016-11-16
    • FORSCHUNGSZENTRUM JÜLICH GMBH
    • KIREEV, DmitrySARIK, DarioWOLFRUM, BernhardOFFENHÄUSSER, Andreas
    • C01B32/194
    • C01B32/194
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Transfer von Graphen-Stücken auf ein Substrat, gekennzeichnet durch die Schritte: a) Es wird ein Substrat mit einer Mehrzahl an Platzhaltern für die Graphen- Stücke ausgewählt; b) Das Substrat wird auf einem Substrathalter in einer Kammer angeordnet und ausgerichtet; c) Es wird eine Transferschicht mit Öffnungen als Platzhalter für die Graphen- Stücke ausgewählt; d) Die Transferschicht wird auf dem Substrathalter über dem Substrat angeordnet und ausgerichtet, so dass die Öffnungen der Transferschicht über den Platzhaltern auf dem Substrat ausgerichtet werden; e) Es wird Flüssigkeit in die Kammer bis oberhalb der Transferschicht eingefüllt, und die Transferschicht auf der Flüssigkeitssäule angehoben; f) Es werden Graphen-Stücke auf den Flüssigkeitsfilm in den Öffnungen der Transferschicht eingebracht; g) Der Abstand zwischen Substrat und Graphen-Stücke wird verringert, bis die Graphen-Stücke auf den Platzhaltern des Substrats angeordnet werden. Ein auf diese Weise hergestelltes Substrat sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens sind offenbart.
    • 本发明涉及一种用于将石墨烯堆栈转移到衬底上的方法,其特征在于以下步骤:a)为衬底提供石墨烯灰泥的多个占位符 被选择的AUML; HLT; b)将衬底放置在室中的衬底支架上并对准; c)选择具有开口的转印层作为石墨烯片的占位符; d)将转印层放置在衬底上的衬底上并对齐,使得转印层的开口在衬底上的占位符上对齐; e)将液体引入转移层上方的室中,并且转移层在液柱上升高; f)将石墨烯片引入转印层开口中的液膜上; g)减少基底和石墨烯片之间的距离,直到将石墨烯堆放置在基底的占位符上。 公开了以这种方式制备的基材和用于实施该方法的设备。