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1. 发明申请

WO2009096728A3 포토 마스크의 수리장치 및 이를 이용한 수리방법 审中-公开
公开(公告)号：WO2009096728A3
公开(公告)日：2009-08-06
申请号：PCT/KR2009/000451
申请日：2009-01-30
申请人： 한국표준과학연구원 , (주)나노포커스 , 박병천 , 안상정 , 최진호 , 유준 , 홍재완 , 송원영 , 정기영
发明人： 박병천 , 안상정 , 최진호 , 유준 , 홍재완 , 송원영 , 정기영
IPC分类号： H01L21/027
摘要： 본 발명은 포토 마스크 수리방법을 개시한다. 수리용 원자현미경 탐침이 포토 마스크의 결함 부분에 위치하도록 하고, 상기 수리용 원자현미경 탐침을 왕복 동작시키는 것에 의하여 상기 포토 마스크의 결함 부분을 제거하고, 상기 수리용 원자현미경 탐침에 의한 상기 포토 마스크의 수리 과정을 전자현미경으로 관찰하고, 그리고 상기 수리용 원자현미경 탐침과는 다른 관측용 원자현미경 탐침을 사용하여 수리 후의 상기 포토 마스크의 형상을 인-시츄(in-situ)로 확인한다.

2. 发明申请

WO2010147296A1 에이에프엠 측정 방법 및 에이에프엠 측정 시스템 审中-公开
标题翻译： AFM测量方法及其系统
公开(公告)号：WO2010147296A1
公开(公告)日：2010-12-23
申请号：PCT/KR2010/002073
申请日：2010-04-05
申请人： (주)나노포커스 , 홍재완 , 송원영
发明人： 홍재완 , 송원영
IPC分类号： G01Q60/24 , G01J3/44 , G01N21/47
CPC分类号： G01Q30/02
摘要： AFM 측정 방법 및 AFM 측정 시스템을 제공한다. 광원으로부터 입사광이 조사되는 기판 상의 복수개의 지점들에 캔틸레버의 팁을 제공하고, 상기 입사광에 의해 상기 캔틸레버의 팁과 상기 기판 사이에서 발생한 산란광의 강도를 측정하고, 상기 산란광의 강도를 데이터처리부에 입력하여 상기 입사광의 강도가 최고인 지점을 찾는다. 상기 캔틸레버의 팁을 상기 입사광의 강도가 최고인 지점으로 이동시킨다.
摘要翻译：提供了一种AFM测量方法及其系统。将悬臂的尖端设置在基板上的多个点上，入射光从光源发射到该点上。通过入射光在悬臂的尖端和基板之间产生散射光，并测量散射光的强度。将测得的散射光的强度输入到数据处理单元，以便找到入射光强度最高的点。悬臂的尖端移动到入射光强度最高的点。

3. 发明申请

WO2010011037A2 고온 노출 이력 확인 표지물 审中-公开
标题翻译：用于指示高温暴露历史的标签
公开(公告)号：WO2010011037A2
公开(公告)日：2010-01-28
申请号：PCT/KR2009/003704
申请日：2009-07-07
申请人： (주)나노포커스 , 송원영 , 윤득규
发明人： 송원영 , 윤득규
IPC分类号： G09F7/00
CPC分类号： G09F3/0291
摘要： 본 발명은 제품이 적정 보존 온도 이상의 고온 환경에 노출된 상태로 유통되거나 사용되면 제품의 품질에 중대한 영향을 줄 수 있는 경우 소비자가 쉽게 품질 변화 가능성 여부를 확인할 수 있도록 제품 포장재에 부착할 수 있도록 고안된 고온 노출 이력 확인 표지물에 관한 발명이다. 본 발명의 고온 노출 이력 확인 표지물은 유색 또는 무색의 일정한 형태를 가진 물질(12)(이하 "내부 물질"이라 함)을 "내부 물질"과 다른 색상 또는 무색 물질(11)(이하 "외부 물질"이라 함)이 입체적으로 둘러 싸고 있는 형태로 구성되며 이를 다시 유출 방지를 위해 투명물질(13)로 밀봉한 형태로 구성된다. 따라서 본 발명의 온도 변화 이력 식별용 표지가 부착된 냉동 또는 냉장 제품이 보존 온도 이상의 고온 환경에 장시간 노출되면 일차적으로 "외부 물질"이 해동되어 액상으로 변하고 다음으로 "내부 물질"이 "외부 물질"과 자연적으로 혼합되게 되며, 이후 다시 보존 온도 이하의 환경에 도달하여도 "내부 물질"이 초기에 가지고 있던 형태가 훼손되어 소비자가 육안으로 쉽게 온도 변화 이력을 확인할 수 있게 되는 것이다.
摘要翻译：本发明涉及一种用于指示产品的高温暴露历史的标签，其中标签被设计成附着到产品包装材料上，以使消费者能够容易地检查产品的质量是否已经改变在高于正常保存温度的高温环境下，产品的循环或使用会严重影响产品的质量。根据本发明的用于指示高温暴露历史的标签被配置为使得具有预定形式的着色或无色物质（12）（以下称为“内部物质”）立体地被具有与内部物质不同的颜色或无色的物质（11）（以下称为“外部物质”），并且所得结构被用于防止泄漏的透明物质（13）密封。因此，如果将具有表示本发明的产品的高温暴露历史的标签的冷冻或冷藏物品暴露于高于其保存温度的高温环境，则“外部物质”为首先解冻成液相，随后将“内部物质”与“外部物质”自然混合。即使当环境温度变为低于保存温度的水平时，“内部物质”的初始形式仍然处于受损状态，从而使消费者能够用肉眼容易地检查温度变化历史。

4. 发明申请

WO2011126232A3 원자현미경 审中-公开
公开(公告)号：WO2011126232A3
公开(公告)日：2011-10-13
申请号：PCT/KR2011/002185
申请日：2011-03-30
申请人： (주)나노포커스 , 홍재완 , 송원영
发明人： 홍재완 , 송원영
IPC分类号： G01Q60/24 , G01B21/20 , H01L21/66
摘要： 본 발명은 대면적 기판을 고속으로 렌덤하게 스캐닝할 수 있는 원자현미경을 개시한다. 그의 현미경은, 기판을 지지하여 수평으로 이동시키는 기판 스테이지부와, 상기 기판 스테이지부에 대향되는 상기 기판의 상부를 탐침 및 캔틸레버로 스캐닝하는 스캔 헤드부와, 상기 스캔 헤드부를 지지하는 프레임과, 상기 프레임에 상기 스캔 헤드부를 탈부착시키고, 상기 스캔 헤드부에서 상기 탐침 및 상기 캔틸레버가 교체될 때 상기 기판에 수직하는 방향으로 상기 스캔 헤드부를 이동시키는 거동 스테이지부와, 상기 거동 스테이지부 및 상기 스캔 헤드부를 연결하고, 상기 스캔 헤드부의 스캐닝 시 상기 탐침을 상기 기판의 표면으로 접근시키고, 상기 기판 스테이지부에 의한 상기 기판의 수평 이동 시에 상기 기판의 표면으로부터 상기 탐침을 이격시키는 미동 스테이지부를 포함한다.

5. 发明授权

KR100873154B1 포토 마스크의 수리장치 및 이를 이용한 수리방법 有权
标题翻译：用于修复照相胶片的装置和方法
公开(公告)号：KR100873154B1
公开(公告)日：2008-12-10
申请号：KR1020080009662
申请日：2008-01-30
申请人： 한국표준과학연구원 , (주)나노포커스
发明人： 박병천 , 안상정 , 최진호 , 유준 , 홍재완 , 송원영 , 정기영
IPC分类号： H01L21/027
CPC分类号： G03F1/72 , H01L21/0274
摘要： The repair device of photomask and repair method using the same are provided to save the time and performs all the processes when checking and replacing the atomic force microscope probe. The photomask repair device comprises the atomic force microscope(112) for repair, the electron microscope(116), and the atomic force microscope for imaging. The atomic force microscope for repair repairs the defection portion of the photomask(101). The electron microscope guides the atomic force microscope for repair to be positioned in the defection portion of photomask. The electron microscope observes the repair process of photomask by the atomic force microscope for repair. The atomic force microscope for imaging images the shape of photomask after repair in the In-situ.
摘要翻译：提供光掩模修复装置及其修复方法，以便在检查和更换原子力显微镜探针时节省时间并执行所有过程。光掩模修复装置包括用于修复的原子力显微镜（112），电子显微镜（116）和用于成像的原子力显微镜。用于修理的原子力显微镜修复光掩模（101）的缺陷部分。电子显微镜引导原子力显微镜进行修复，定位在光掩模的缺陷部分。电子显微镜观察原子力显微镜修复光掩模的修复过程。用于在原位修复后对成像图像形成光原子的原子力显微镜。

6. 发明公开

KR1020100137596A 에이에프엠 측정 방법 및 에이에프엠 측정 시스템 有权
标题翻译： AFM扫描方法和AFM扫描系统
公开(公告)号：KR1020100137596A
公开(公告)日：2010-12-31
申请号：KR1020090053911
申请日：2009-06-17
申请人： (주)나노포커스
发明人： 홍재완 , 송원영
IPC分类号： G01Q60/24 , H01J37/28 , G01N37/00
CPC分类号： G01Q30/02
摘要： PURPOSE: An AFM scanning method and an AFM scanning system are provided to scan a target when a tip of a cantilever is fixed to the strongest intensity point of incident light, thereby precisely performing AFM(Atomic Force Microscope) scanning. CONSTITUTION: A system irradiates light to a tip of a cantilever(S1). The system measures intensities of changed wavelengths before/after scattering at several locations while moving the cantilever(S2). The system transmits data to a data processing unit(S3). The system finds the strongest intensity point of incident light(S4). The system moves the tip of the cantilever to the strongest intensity point of incident light(S5). The system scans a measured object(S6).
摘要翻译：目的：提供AFM扫描方法和AFM扫描系统，以便当悬臂尖端固定在入射光强度最强的点时扫描目标，从而精确地执行AFM（原子力显微镜）扫描。构成：系统将光照射到悬臂的尖端（S1）。该系统在移动悬臂时测量在几个位置散射之前/之后的变化波长的强度（S2）。系统将数据发送到数据处理单元（S3）。系统发现入射光强度最强（S4）。系统将悬臂的尖端移动到入射光的最强强度点（S5）。系统扫描被测对象（S6）。

7. 发明申请

WO2012176948A1 융합계측장치 审中-公开
标题翻译：熔断测量装置
公开(公告)号：WO2012176948A1
公开(公告)日：2012-12-27
申请号：PCT/KR2011/004639
申请日：2011-06-24
申请人： 한국표준과학연구원 , 박병천 , 이주엽 , 송운 , 최진호 , 안상정 , 유준 , 송원영 , 홍재완 , 백승헌
发明人： 박병천 , 이주엽 , 송운 , 최진호 , 안상정 , 유준 , 송원영 , 홍재완 , 백승헌
IPC分类号： G01Q60/24 , H01J37/26
CPC分类号： G01Q30/02 , B82Y35/00 , H01J37/28
摘要： 본 발명은 계측의 신뢰성을 증대 또는 극대화할 수 있는 융합계측장치를 개시한다. 그의 장치는 기판 표면을 원자레벨 수준으로 계측하는 원자현미경과, 상기 원자현미경 및 상기 기판을 계측하는 전자현미경과, 상기 전자현미경으로 상기 원자현미경 및 상기 기판을 모니터링 할 때, 원자현미경의 캔틸레버에 가려지는 기판 상의 이차전자의 경로를 왜곡하여 전자현미경의 전자 검출기로 진행시키는 적어도 하나의 전극을 포함한다.
摘要翻译：提供了一种增加或最大化测量可靠性的融合测量装置。该融合测量装置包括：用于以原子级测量衬底表面的原子显微镜; 用于测量原子显微镜和基底的电子显微镜; 以及至少一个电极，其使由原子显微镜的悬臂覆盖的基板上的二次电子的路径变形，使得二次电子进入电子显微镜的电子检测器。

8. 发明授权

KR101218177B1 원자현미경 有权
标题翻译：原子力显微镜
公开(公告)号：KR101218177B1
公开(公告)日：2013-01-18
申请号：KR1020100030726
申请日：2010-04-05
申请人： (주)나노포커스
发明人： 홍재완 , 송원영
IPC分类号： G01Q60/24 , G01B21/20 , H01L21/66
CPC分类号： G01Q10/04
摘要： 본 발명은 대면적 기판을 고속으로 렌덤하게 스캐닝할 수 있는 원자현미경을 개시한다. 그의 현미경은, 기판을 지지하여 수평으로 이동시키는 기판 스테이지부와, 상기 기판 스테이지부에 대향되는 상기 기판의 상부를 탐침 및 캔틸레버로 스캐닝하는 스캔 헤드부와, 상기 스캔 헤드부를 지지하는 프레임과, 상기 프레임에 상기 스캔 헤드부를 탈부착시키고, 상기 스캔 헤드부에서 상기 탐침 및 상기 캔틸레버가 교체될 때 상기 기판에 수직하는 방향으로 상기 스캔 헤드부를 이동시키는 거동 스테이지부와, 상기 거동 스테이지부 및 상기 스캔 헤드부를 연결하고, 상기 스캔 헤드부의 스캐닝 시 상기 탐침을 상기 기판의 표면으로 접근시키고, 상기 기판 스테이지부에 의한 상기 기판의 수평 이동 시에 상기 기판의 표면으로부터 상기 탐침을 이격시키는 미동 스테이지부를 포함한다.

9. 发明公开

KR1020110111581A 원자현미경 有权
公开(公告)号：KR1020110111581A
公开(公告)日：2011-10-12
申请号：KR1020100030726
申请日：2010-04-05
申请人： (주)나노포커스
发明人： 홍재완 , 송원영
IPC分类号： G01Q60/24 , G01B21/20 , H01L21/66
CPC分类号： G01Q10/04
摘要： The present invention relates to an atomic force microscope (AFM) capable of randomly scanning a substrate having a large surface area at a high speed. The microscope comprises: a substrate stage unit for supporting and horizontally transferring a substrate; a scan head unit for probing and scanning the top of the substrate facing the substrate stage unit using a cantilever; a frame for supporting the scan head unit; a movable stage unit for attaching and detaching the scan head unit to and from the frame, and moving the scan head unit perpendicularly with respect to the substrate when replacing the probe tip and the cantilever in the scan head unit; and a finely movable stage unit for connecting the movable stage unit and the scan head unit, contacting the probe tip with the surface of the substrate when the scan head unit performs scanning, and separating the probe tip from the surface of the substrate when the substrate is moved horizontally by the substrate stage unit.
摘要翻译：原子力显微镜（AFM）技术领域本发明涉及能够高速地随机扫描具有大表面积的基板的原子力显微镜（AFM）。该显微镜包括：衬底台单元，用于支撑和水平地转移衬底; 扫描头单元，用于利用悬臂探测和扫描面向衬底台单元的衬底的顶部; 用于支撑扫描头单元的框架; 移动台单元，用于将扫描头单元附接到框架和从框架分离，并且当更换扫描头单元中的探针尖端和悬臂时，使扫描头单元相对于基板垂直移动; 以及可移动台架单元，用于连接可移动台架单元和扫描头单元，当扫描头单元进行扫描时使探头顶端与基板的表面接触，并且当基板在基板表面上分离探头顶端和基板表面时由基板台单元水平移动。

10. 发明授权

KR101045059B1 에이에프엠 측정 방법 및 에이에프엠 측정 시스템 有权
标题翻译： AFM扫描方法和AFM扫描系统
公开(公告)号：KR101045059B1
公开(公告)日：2011-06-29
申请号：KR1020090053911
申请日：2009-06-17
申请人： (주)나노포커스
发明人： 홍재완 , 송원영
IPC分类号： G01Q60/24 , H01J37/28 , G01N37/00
CPC分类号： G01Q30/02
摘要： AFM 측정 방법 및 AFM 측정 시스템을 제공한다. 광원으로부터 입사광이 조사되는 기판 상의 복수개의 지점들에 캔틸레버의 팁을 제공하고, 상기 입사광에 의해 상기 캔틸레버의 팁과 상기 기판 사이에서 발생한 산란광의 강도를 측정하고, 상기 산란광의 강도를 데이터처리부에 입력하여 상기 입사광의 강도가 최고인 지점을 찾는다. 상기 캔틸레버의 팁을 상기 입사광의 강도가 최고인 지점으로 이동시킨다.
AFM, 라만 분광, TERS, 캔틸레버, 해상도

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