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1. 发明申请

WO2011052925A2 감광성 수지 조성물 审中-公开
标题翻译：光敏树脂组合物
公开(公告)号：WO2011052925A2
公开(公告)日：2011-05-05
申请号：PCT/KR2010/007220
申请日：2010-10-21
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 윤주표 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 여태훈 , 신홍대 , 이상훈 , 김동명 , 최수연 , 김진선 , 우창민 , 김홍석
发明人： 윤주표 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 여태훈 , 신홍대 , 이상훈 , 김동명 , 최수연 , 김진선 , 우창민 , 김홍석
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/022 , G02F1/13
CPC分类号： G03F7/0007 , G03F7/0233
摘要： 본 발명은 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 층간 유기절연막 형성을 위한 포지티브 감광성 수지 조성물에 있어서, a) UV 안정화제, b) 라디칼 스캐빈저, 및 c) 산화방지제로 이루어지는 군으로부터 1종 이상 선택되는 화합물을 포함하는 것을 특징으로 하는 감광성 수지 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 감광성 수지 조성물은 TFT-LCD의 층간 유기절연막으로 사용되어 광배향용 액정 공정에서 과노광 진행시 액정밀림현상을 개선할 수 있을 뿐만 아니라 패턴을 해상도 조절이 용이하며, 층간 유기 절연막의 평탄화막 형성에 특히 적합하다.
摘要翻译：
本发明涉及到用于本发明涉及一种感光性树脂组合物的正型感光性树脂组合物，特别是，形成有机绝缘膜，）UV稳定剂，b）一种自由基清除剂，以及c）一种抗氧化剂的层间并且选自至少一种选自由以下组成的组的化合物：本发明的感光性树脂组合物，以及仅可以被用作TFT-LCD的有机绝缘膜的层间为光学对准和正在进行曝光而不是用于分辨率调整图案，所述有机绝缘层的层间的平坦化液晶过程中，以提高液晶丛林现象它特别适合成膜。

2. 发明申请

WO2010068027A2 포지티브형 감광성 유-무기 하이브리드 절연막 조성물 审中-公开
标题翻译：阳性有机无机混合绝缘子组合物
公开(公告)号：WO2010068027A2
公开(公告)日：2010-06-17
申请号：PCT/KR2009/007337
申请日：2009-12-09
申请人： 주식회사 동진쎄미켐 , 김병욱 , 윤혁민 , 김동명 , 구기혁 , 여태훈 , 윤주표 , 신홍대 , 최수연 , 김진선 , 이상훈
发明人： 김병욱 , 윤혁민 , 김동명 , 구기혁 , 여태훈 , 윤주표 , 신홍대 , 최수연 , 김진선 , 이상훈
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0757 , G03F7/0233 , G03F7/40
摘要： 본 발명은 포지티브형 감광성 유-무기 하이브리드 절연막 조성물에 관한 것으로, i) 하기 화학식 1로 표시되는 1-3개의 페닐기를 포함하는 반응성 실란, 및 ii) 화학식 2로 표시되는 4관능 반응성 실란의 실란단량체를 촉매하에 가수분해 및 축합중합 하여 얻어진 폴리스티렌 환산중량평균분자량(Mw)이 1,000 내지 2,0000인 실록산 올리고머 화합물을 포함하는 포지티브형 감광성 유-무기 하이브리드 절연막 조성물에 관한 것이다. 본 발명에 따른 포지티브형 감광성 유-무기 하이브리드 절연막 조성물은 기존의 SiNx Passivation/아크릴계 감광성 유기절연막의 이중구조를 하나의 층(layer)으로 형성하여 공정단순화 및 생산비 절감을 가져올 수 있으며, 감도, 해상도, 공정마진, 투명성, 내열변색성 등의 성능이 우수할 뿐만 아니라, 특히 저 유전률 절연막을 가능하게 함으로써 소비전력을 낮출 수 있으며, 잔상 및 Crosstalk, 및 문턱 전압의 Shift현상을 없애 줄 수 있다. 또한, 뛰어난 내열성으로 인한 Low Outgassing을 가능하게 함으로써 우수한 Panel신뢰성을 확보할 수 있다. 이를 통해 다양한 디스플레이에서 Passivation 절연막, Gate 절연막 뿐만 아니라 평탄화막 등에도 유용하게 적용할 수 있다.
摘要翻译：本发明涉及一种正型光敏有机 - 无机复合绝缘体组合物，其包括：i）含有由化学式（1）表示的1-3个苯基的反应性硅烷; 和ii）通过在催化剂下由化学式（2）表示的四官能硅烷的硅烷单体的水解和缩聚而得到的平均分子量（换算为聚苯乙烯）为1,000-2的硅氧烷低聚物化合物，0000。根据本发明的正型感光性有机 - 无机混合绝缘体组合物通过将现有的SiN x钝化/丙烯酸类光敏有机绝缘体的双重结构形成为单层来简化工艺并降低成本，提高灵敏度，分辨率，工艺裕度，透明性和抗热变色性，通过获得具有低介电常数的绝缘体降低电力消耗，并消除阈值电压的残像，串扰和偏移现象。此外，组合物可以通过高耐热性实现低脱气来提高面板的可靠性。因此，可以将组合物施加到各种显示器中的钝化绝缘体，栅极绝缘体和板绝缘体。

3. 发明公开

KR1020100086238A 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성 방법 有权
标题翻译：光催化剂树脂组合物和使用它们形成图案的方法
公开(公告)号：KR1020100086238A
公开(公告)日：2010-07-30
申请号：KR1020090005502
申请日：2009-01-22
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤상현 , 박정인 , 이희국 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 여태훈 , 최수연 , 김진선
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/0047 , G03F7/027
摘要： PURPOSE: A photoresist resin composition and a method for forming a pattern using the composition are provided to enhance sensitivity when the composition is exposed to light and to easily control the profile of a photosensitive pattern. CONSTITUTION: A photoresist resin composition comprises 0.5-10 parts by weight of a photosensitive compound which is marked as a chemical formula 1, 1-10 parts by weight of a crosslinking agent, 10-50 parts by weight of alkali-soluble resin, and 10-90 parts by weight of a solvent. In the chemical formula 1, R1 and R2 are independently an alkyl group having a carbon number of 1-10. The composition more includes a compound which is marked as a chemical formula 2.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂树脂组合物和使用该组合物形成图案的方法，以在组合物曝光时提高灵敏度，并且容易控制感光图案的轮廓。构成：光致抗蚀剂树脂组合物包含0.5-10重量份标记为化学式1的光敏化合物，1-10重量份的交联剂，10-50重量份的碱溶性树脂和 10-90重量份溶剂。在化学式1中，R 1和R 2独立地为碳数为1-10的烷基。组合物更包括标记为化学式2的化合物。

4. 发明授权

KR101597767B1 감광성 수지 조성물 및 이를 이용한 패턴의 형성 방법 有权
标题翻译：光催化剂树脂组合物和使用它们形成图案的方法
公开(公告)号：KR101597767B1
公开(公告)日：2016-02-26
申请号：KR1020090005502
申请日：2009-01-22
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤상현 , 박정인 , 이희국 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 여태훈 , 최수연 , 김진선
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027
摘要： 본발명의한 실시예에따른감광성수지조성물은 (A) 하기화학식 1로표시되는감광성화합물, (B) 가교제, (C) 알칼리가용성수지, 그리고 (D) 용매를포함한다. 또한 (E) 하기화학식 2로표시되는화합물을더 포함할수 있다. 이에따라노광시감도를높이며, 감광막패턴의프로파일을용이하게조절할수 있다.

5. 发明公开

KR1020110129692A 포토레지스트 조성물 및 이를 이용한 포토레지스트 패턴의 형성 방법 无效
标题翻译：光刻胶组合物和使用其形成光刻胶图案的方法
公开(公告)号：KR1020110129692A
公开(公告)日：2011-12-02
申请号：KR1020100049211
申请日：2010-05-26
申请人： 삼성디스플레이 주식회사 , 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 전우석 , 박정민 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 최수연 , 김진선
IPC分类号： G03F7/022 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0007 , G02F1/13439 , G03F7/0236 , G03F7/0382 , G03F7/0223 , H01L21/0274
摘要： PURPOSE: A photo-resist composition and a method for forming a photo-resist pattern using the same are provided to prevent the generation of an under-cut phenomenon in the pattern and to improve the developing characteristic of the pattern according to thicknesses. CONSTITUTION: A photo-resist composition includes 10-45 parts by weight of an alkaline soluble binder resin, 0.1-5 parts by weight of a photo-acid generator, 1-5 parts by weight of a cross-linking agent, 0.3-3 parts by weight of a quinonediazide-based compound, and remaining parts by weight of a solvent. The alkaline soluble binder resin includes a hydroxyl group. The cross-linking agent forms the cross-linkage of the alkaline soluble binder resin. The photo-resist composition is applied on a target(10) to form a photo-resist film(20). The photo-resist film is exposed. The photo-resist film is partially eliminated to form a photo-resist pattern.
摘要翻译：目的：提供光致抗蚀剂组合物和使用其的光致抗蚀剂图案的形成方法，以防止图案中产生底切现象，并根据厚度改善图案的显影特性。构成：光致抗蚀剂组合物包含10-45重量份碱溶性粘合剂树脂，0.1-5重量份光酸发生剂，1-5重量份交联剂，0.3-3重量份重量份的基于醌二叠氮化物的化合物和剩余的重量份的溶剂。碱溶性粘合剂树脂包括羟基。交联剂形成碱溶性粘合剂树脂的交联。将光致抗蚀剂组合物施加到靶（10）上以形成光致抗蚀剂膜（20）。曝光光刻胶膜。部分地去除光致抗蚀剂膜以形成光致抗蚀剂图案。

6. 发明授权

KR101803957B1 감광성 수지 조성물 有权
公开(公告)号：KR101803957B1
公开(公告)日：2017-12-01
申请号：KR1020100017777
申请日：2010-02-26
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 김병욱 , 구기혁 , 여태훈 , 윤주표 , 신홍대 , 이상훈 , 김동명 , 최수연 , 김진선 , 우창민 , 김홍석
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027
CPC分类号： G03F7/031 , G02F1/133345
摘要： 본발명은감광성수지조성물에관한것으로, 특히 TFT-LCD용층간유기절연막형성을위한감광성수지조성물에있어서, UV 안정화제또는라디칼스캐빈저를 0.01 내지 20 중량% 포함하는것을특징으로하는감광성수지조성물에관한것이다. 본발명에따른감광성수지조성물은 TFT-LCD의층간유기절연막형성에사용되어광배향용액정공정에서과노광진행시액정밀림현상을개선할수 있을뿐만아니라패턴의해상도조절이용이하며, 층간유기절연막의평탄화막형성에특히적합하다.

7. 发明授权

KR101399281B1 유기박막 트랜지스터용 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：有机薄膜晶体管的光敏树脂化合物
公开(公告)号：KR101399281B1
公开(公告)日：2014-05-26
申请号：KR1020070065379
申请日：2007-06-29
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 최상각 , 김병욱 , 윤혁민 , 여태훈 , 최수연 , 이호진 , 정대중 , 구기혁 , 윤주표
IPC分类号： G03F7/022 , G03F7/004
摘要： 본 발명은 유기박막 트랜지스터용 감광성 수지 조성물에 관한 것으로, 특히 a) 유리전이온도(Tg) 또는 용융온도가 90 내지 140 ℃인 아크릴계 공중합체, 노볼락 수지 또는 폴리이미드 수지; b) 1,2-퀴논 디아지드 화합물; 및 c) 끓는점이 90 내지 150 ℃이고, 증발속도가 n-BA(노말 부틸아세테이트)를 1로 정하였을 때 0.3 내지 1.0인 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 유기박막 트랜지스터용 감광성 수지 조성물에 관한 것이다.
본 발명에 의한 유기박막 트랜지스터용 감광성 수지 조성물은 유기 박막 트랜지스터(Organic Thin Film Transistor, OTFT)나 이를 이용한 플렉시블 디스플레이 및 OLED와 같은 저온 경화 공정을 필요로 하는 Display의 층간 졀연막 및 보호막에 적용할 경우, 열처리 공정시 잔여 용매량을 최소화함과 동시에 높은 경화도를 통한 내열성 및 내화학적 안정성을 확보할 수 있다.
감광성 수지 조성물, 저온경화, 저비점, 고휘발, OLED

8. 发明公开

KR1020100062282A 전자종이 격벽형성용 조성물 审中-实审
标题翻译：电纸裱纸组合物
公开(公告)号：KR1020100062282A
公开(公告)日：2010-06-10
申请号：KR1020080120842
申请日：2008-12-02
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤주표 , 김병욱 , 윤혁민 , 구기혁 , 여태훈 , 신홍대 , 이상훈 , 김동명 , 최상각 , 최수연 , 김진선
IPC分类号： G02F1/1339 , H01B3/18
CPC分类号： G02F1/167 , G02F2001/1672
摘要： PURPOSE: A composition for a partition wall for improving insulating characteristic, chemical resistive characteristic, and adhesion is provided to form an electronic paper partition wall by realizing a vertical pattern formation. CONSTITUTION: A composite for electronic paper partition wall includes an alkali fusible novolak resin, a photo-acid generator, a cross linking agent, and solvent. The alkali solubility novolak resin is 100 weight. The photo-acid generator is 0.5-10 weight. The crosslinking agent is 1-20 weight. According to the rate of the photo-acid generator, the photo-acid generator has the big influence about the sensitivity. The heat-proof characteristic of the barrier pattern is improved.
摘要翻译：目的：提供一种用于提高绝缘特性，耐化学电阻特性和粘附性的隔墙用组合物，通过实现垂直图案形成形成电子纸分隔壁。构成：用于电子纸分隔壁的复合材料包括碱溶性酚醛清漆树脂，光酸发生剂，交联剂和溶剂。碱溶性酚醛清漆树脂为100重量份。光酸发生器为0.5-10重量。交联剂为1-20重量份。根据光酸发生器的比例，光酸发生器对灵敏度影响很大。阻挡图案的耐热特性得到改善。

9. 发明公开

KR1020080105746A 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020080105746A
公开(公告)日：2008-12-04
申请号：KR1020070053737
申请日：2007-06-01
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 여태훈 , 김병욱 , 윤혁민 , 최상각 , 최수연 , 구기혁 , 윤주표 , 김동명 , 이호진 , 신홍대 , 이동혁 , 김성탁 , 정대중
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0045 , G03F7/004 , G03F7/0047 , G03F7/027
摘要： A photosensitive resin composition, a method for forming a display pattern by using the composition, and a display using the composition are provided to improve the productivity by reducing the processing time and toenhance impact resistanceby increasing the flexibility of film. A photosensitive resin composition comprises 0.1-10 wt% of at least one compound selected from dioctyl phthalate, diisononyl phthalate, dioctyl adipate, tricresyl phosphate, and 2,2,4-trimethyl-1,3-pentanediol monoisobutyrate as a sensitizer. Preferably the composition comprises 10-30 wt% of an acrylic copolymer; 1-20 wt% of 1,2-quinonediazide 5-sulfonic acid ester compound; 0.1-10 wt% of the sensitizer; and the balance of a solvent.
摘要翻译：提供一种光敏树脂组合物，通过使用该组合物形成显示图案的方法和使用该组合物的显示器，以通过减少处理时间并通过增加膜的柔性来提高抗冲击性来提高生产率。感光性树脂组合物包含0.1-10重量％的至少一种选自邻苯二甲酸二辛酯，邻苯二甲酸二异壬酯，己二酸二辛酯，磷酸三甲苯酯和作为增感剂的2,2,4-三甲基-1,3-戊二醇单异丁酸酯的化合物。优选地，组合物包含10-30重量％的丙烯酸共聚物; 1-20重量％的1,2-醌二叠氮化物5-磺酸酯化合物; 0.1-10重量％的敏化剂; 和余量的溶剂。

10. 发明公开

KR1020080102838A 유기보호막 조성물 有权
标题翻译：有机钝化组合物
公开(公告)号：KR1020080102838A
公开(公告)日：2008-11-26
申请号：KR1020070049808
申请日：2007-05-22
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤혁민 , 구기혁 , 김동명 , 이동혁 , 여태훈 , 최상각 , 최수연 , 윤주표 , 신홍대 , 김성탁 , 이호진 , 정대중
IPC分类号： C09D123/00 , C09D133/08
CPC分类号： C09D133/04 , C09D5/00 , G02F1/13
摘要： An organic passivation composition is provided to ensure excellent adhesive force, insulating property and flatness at a low temperature curing step and to improve heat resistance and chemical resistance against solvent, acid or alkali in post-processing. An organic passivation composition comprises (a) 100 parts by weight of acrylic copolymer copolymerized with (i) 5 - 95 weight% of a compound and (ii) 5 or 95 weight% of olefin-based unsaturated compound capable of polymerizing with a compound of the chemical formula 1; (b) (i) 0.001-5 parts by weight of thermal initiator or (ii) 0.001-30 parts by weight of photoinitiator; (c) 1-80 parts by weight of acid anhydride compound; (d) 0.001-1 parts by weight of imidazole-based tertiary amine compound; and (e) an organic solvent to become 50 weight% of (a)~(d) based on an organic passivation composition. In the chemical formula 1, X is hydrogen or methyl radical.
摘要翻译：提供有机钝化组合物以确保在低温固化步骤中优异的粘合力，绝缘性能和平整度，并且在后处理中提高耐溶剂，酸或碱的耐热性和耐化学性。有机钝化组合物包含（a）100重量份与（i）5-95重量％的化合物共聚的丙烯酸共聚物和（ii）5或95重量％的能够与化合物化学式1; （b）（i）0.001-5重量份的热引发剂或（ii）0.001-30重量份的光引发剂; （c）1-80重量份的酸酐化合物; （d）0.001-1重量份的咪唑类叔胺化合物; 和（e）基于有机钝化组合物成为（a）〜（d）的50重量％的有机溶剂。在化学式1中，X是氢或甲基。

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