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1. 发明专利

TW201814769A 微影裝置及製造器件之方法审中-公开
简体标题：微影设备及制造器件之方法
公开(公告)号：TW201814769A
公开(公告)日：2018-04-16
申请号：TW106131326
申请日：2017-09-13
申请人：荷蘭商ASML荷蘭公司 , ASML NETHERLANDS B.V.
发明人：維拉莎拉斯喬治艾爾博多 , VIEYRA SALAS, JORGE ALBERTO , 賓奧克尤里安 , BEEN, AUKE JURIAAN , 布蘭科卡巴羅維特馬努兒 , BLANCO CARBALLO, VICTOR MANUEL
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725
摘要：一種浸潤微影裝置，其包含：一支撐台，其經組態以支撐具有至少一個目標部分之一物件；一投影系統，其經組態以將一經圖案化光束投影至該物件上；一定位器，其經組態以相對於該投影系統移動該支撐台；一液體限制結構，其經組態以將一液體侷限於該投影系統與該物件及/或該支撐台之一表面之間的一浸潤空間；以及一控制器，其經組態以控制該定位器從而遵循由一系列運動組成之一路線而移動該支撐台，該控制器經調適以：當在該路線之該系列運動中之至少一個運動期間該浸潤空間之一邊緣越過該物件之一邊緣時預測該浸潤空間之該邊緣相對於該物件之該邊緣之一速度；比較該速度與一預定參數且在該速度大於該預定參數之情況下預測在該至少一個運動期間自該浸潤空間之液體損耗；以及若預測到自該浸潤空間之液體損耗，則相應地修改在該至少一個運動期間該路線之一或多個參數。
简体摘要：一种浸润微影设备，其包含：一支撑台，其经组态以支撑具有至少一个目标部分之一对象；一投影系统，其经组态以将一经图案化光束投影至该对象上；一定位器，其经组态以相对于该投影系统移动该支撑台；一液体限制结构，其经组态以将一液体局限于该投影系统与该对象及/或该支撑台之一表面之间的一浸润空间；以及一控制器，其经组态以控制该定位器从而遵循由一系列运动组成之一路线而移动该支撑台，该控制器经调适以：当在该路线之该系列运动中之至少一个运动期间该浸润空间之一边缘越过该对象之一边缘时预测该浸润空间之该边缘相对于该对象之该边缘之一速度；比较该速度与一预定参数且在该速度大于该预定参数之情况下预测在该至少一个运动期间自该浸润空间之液体损耗；以及若预测到自该浸润空间之液体损耗，则相应地修改在该至少一个运动期间该路线之一或多个参数。

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