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1. 发明专利

JPWO2018190269A1 成膜装置及び成膜方法审中-公开
公开(公告)号：JPWO2018190269A1
公开(公告)日：2019-04-18
申请号：JP2018014736
申请日：2018-04-06
申请人：株式会社シンクロン
发明人：長江亦周 , 宮内充祐 , 大瀧芳幸 , 重田勇輝 , 佐守真悟
IPC分类号： C23C16/42 , C23C16/455
摘要：本発明は薄膜形成用の成膜装置及び成膜方法を開示している。成膜装置は、真空チャンバーと、真空チャンバーに接続し、排気する排気機構と、真空チャンバー内にて基板を保持する基板保持機構と、真空チャンバー内に配置する成膜機構と、真空チャンバーに接続され、成膜機構にて成膜中に真空チャンバー内に水酸基含有気体を導入可能な導入機構と、を含む。

2. 发明专利

JP5769857B2 成膜方法及び成膜装置有权
公开(公告)号：JP5769857B2
公开(公告)日：2015-08-26
申请号：JP2014194494
申请日：2014-09-24
申请人：株式会社シンクロン
发明人：林達也 , 姜友松 , 長江亦周 , 宮内充祐 , 佐守真悟
IPC分类号： C23C14/48 , C23C14/24 , C23C14/22

3. 发明专利

JP6288724B2 薄膜の成膜方法及び成膜装置有权
公开(公告)号：JP6288724B2
公开(公告)日：2018-03-07
申请号：JP2015540942
申请日：2015-04-24
申请人：株式会社シンクロン
发明人：佐守真悟 , 高瀬慎一 , 菅原聡 , 長江亦周 , 姜友松
IPC分类号： B05B16/00 , B05C9/10 , B05C15/00 , B05D3/12
CPC分类号： B05B17/04 , B05B9/04 , B05B13/0221 , B05B14/20 , B05B16/60 , B05D1/02 , B05D3/0493 , B05D5/083 , B05D2203/35 , C03C17/30 , C03C2217/76 , C03C2218/15

4. 发明专利

JP6021210B2 薄膜の成膜方法及び成膜装置有权
标题翻译：薄膜形成方法和薄膜的成膜装置
公开(公告)号：JP6021210B2
公开(公告)日：2016-11-09
申请号：JP2015540934
申请日：2014-05-23
申请人：株式会社シンクロン
发明人：佐守真悟 , 高瀬慎一 , 菅原聡 , 長江亦周 , 姜友松
IPC分类号： B05C5/00 , B05C11/10 , B05D1/02
CPC分类号： B05B15/1222 , B05B13/0221 , B05B9/04 , B05C9/10 , B05D1/02 , B05D3/00

5. 发明专利

JP5911160B1 薄膜の成膜方法及び成膜装置有权
标题翻译：薄膜形成方法和薄膜的成膜装置
公开(公告)号：JP5911160B1
公开(公告)日：2016-04-27
申请号：JP2015540940
申请日：2015-05-01
申请人：株式会社シンクロン
发明人：佐守真悟 , 高瀬慎一 , 菅原聡 , 長江亦周 , 姜友松
IPC分类号： B05C9/10 , B05D3/12
CPC分类号： B05C9/10 , B05D3/00
摘要：耐久性を備えた薄膜を低コストで成膜する方法を提供する。成膜装置(1)は、基板(100)が内部下方に配置される真空容器(11)と、該容器(11)内を排気する真空ポンプ(15)と、容器(11)外部に設けられた、成膜剤溶液(21)を貯蔵する貯蔵容器(23)と、成膜剤溶液(21)を吐出可能となる吐出部(19)を一端に持つノズル(17)と、貯蔵容器(23)内に貯蔵される成膜剤溶液(21)の液面を加圧する加圧手段(ガス供給源(29)など)を含む。成膜剤溶液(21)として、第1材料(S1)と該S1の蒸気圧(P1)よりも高い蒸気圧(P2)を持つ第2材料(S2)とを含む2種類以上の材料からなり、第1材料の濃度が0.01重量%以上の溶液を用いる。この成膜剤溶液(21)を、P2以上の圧力(但し、P2より一桁以上高い圧力を除く)の雰囲気下で、基板に0.05〜0.3MPaの吐出圧で吐出する。
摘要翻译：它提供了以较低的成本形成具有薄膜的耐久性的方法。成膜装置（1）包括：真空容器（11）连接到基板（100）设置在下部，真空泵内用于抽空的容器（11）（15），在所述容器（11）设置在外部并且，用于存储具有一个排出部，使排出沉积溶液（21）〜（19）在一端处，贮存器沉积的溶液（21）（23），喷嘴（17）的贮存器（23 ）含有（加压用于加压的21液体表面）（气体供给源（29单元）沉积的溶液，以被存储在，等等）。作为制膜原液（21）由两种或多种材料制成，并且第二材料（S2），其具有比所述第一材料的蒸气压力（S1）和S1（P1）高蒸汽压（P2）的中，第一材料的浓度，使用0.01重量％以上的解决方案。膜形成剂溶液（21），P2或多个压力（除了高压比P2高一个数量级）在0.05〜0.3MPa的衬底上的排放压力的排放的气氛下进行。

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