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1. 发明申请

WO2006011427A1 含フッ素化合物、含フッ素ポリマー、レジスト組成物、およびレジスト保護膜組成物审中-公开
标题翻译：含氟化合物，含氟聚合物，耐腐蚀组合物和耐腐蚀保护膜组合物
公开(公告)号：WO2006011427A1
公开(公告)日：2006-02-02
申请号：PCT/JP2005/013507
申请日：2005-07-22
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 江田昌隆 , 横小路修 , 佐々木崇
发明人：武部洋子 , 江田昌隆 , 横小路修 , 佐々木崇
IPC分类号： C08F36/20 , C07C33/42 , C07C43/17 , G03F7/039 , G03F7/11
CPC分类号： C07C43/30 , C07C33/423 , C07C43/17 , C08F36/20 , C08F214/18 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/11 , Y10S430/115 , Y10S430/146
摘要：　官能基を有し、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素ポリマーならびに該含フッ素ポリマーからなるレジスト用組成物およびレジスト保護膜組成物の提供。　下記式（１）で表される含フッ素ジエンを環化重合してなるモノマー単位を有する含フッ素ポリマー。　ＣＦ 2 ＝ＣＦＣＦ 2 Ｃ（ＣＦ 3 ）（ＯＲ 1 ）－（ＣＨ 2 ） n ＣＲ 2 ＝ＣＨＲ 3 　・・・（１）（ただし、式（１）中、Ｒ 1 は、水素原子、炭素数２０以下のアルキル基、または（ＣＨ 2 ） a ＣＯＯＲ 4 （ａは０または１であり、Ｒ 4 は水素原子または炭素数２０以下のアルキル基）を表す。Ｒ 2 およびＲ 3 は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１２以下のアルキル基を表す。ｎは０または２を表す。但し、ｎ＝０の場合、Ｒ 1 、Ｒ 2 およびＲ 3 のうち少なくとも１つは水素原子以外である。）
摘要翻译：公开了具有官能团并且在宽波长范围内高度透明的含氟聚合物。还公开了由这种含氟聚合物和抗蚀剂保护膜组合物组成的抗蚀剂组合物。具体公开了具有通过含氟二烯的成环聚合获得的由下式（1）表示的单体单元的含氟聚合物：CF 2 2 = CFCF 2 < / SUB> C（CF _{3 ）（OR ^{1 ） - （CH _{2 ）_{名词 CR ^{2 = CHR ^{3 。 [式（1）中，R 1表示氢原子，碳原子数为20以下的烷基或（CH 2）2） COOR 4（其中a为0或1，R 4表示氢原子或碳原子数为20以下的烷基），R 2， R 0和R 3独立地表示氢原子或碳原子数为12以下的烷基，n表示0或2.当n为0时，R 1 R 2，R 3和R 3不同于氢原子。]}}}}}}

2. 发明申请

WO2006132287A1 含フッ素共重合体とその製造方法およびそれを含むレジスト組成物审中-公开
标题翻译：荧光聚合物，其制造方法和含有它们的抗蚀剂组合物
公开(公告)号：WO2006132287A1
公开(公告)日：2006-12-14
申请号：PCT/JP2006/311451
申请日：2006-06-07
申请人：旭硝子株式会社 , 横小路修 , 佐々木崇
发明人：横小路修 , 佐々木崇
IPC分类号： C08F236/20 , C08F220/10 , G03F7/039
CPC分类号： G03F7/0046 , C08F214/186 , C08F236/20 , G03F7/0397
摘要：　官能基濃度が高く、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素ポリマーおよびその製造方法、ならびに該含フッ素ポリマーを用いたレジスト組成物の提供。　下記式（１）で表される含フッ素ジエンが環化重合してなるモノマー単位に由来する単位と、特定の構造を有するアクリル系単量体が重合してなるモノマー単位に由来する単位と、を有する含フッ素共重合体。ＣＦ２＝ＣＦＣＨ２ＣＨ（Ｃ（ＣＦ３）２（ＯＲ３））（ＣＨ２）ｎＣＲ１＝ＣＨＲ２　（１）ただし、式（１）中Ｒ１およびＲ２は、それぞれ独立に水素原子または炭素数１２以下のアルキル基を表す。Ｒ３は水素原子、炭素数２０以下のアルキル基、炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基またはＣＨ２Ｒ４（Ｒ４は炭素数１５以下のアルコキシカルボニル基）であり、Ｒ３を構成するアルキル基、アルコキシカルボニル基およびＲ４は、その水素原子の一部または全てがフッ素原子で置換されていてもよく、エーテル性酸素原子を有してもよい。ｎは０から２の整数を表す。
摘要翻译：具有高官能团浓度并且在宽波长区域具有高透明度的含氟聚合物。含氟共聚物具有由下式（1）表示的氟化二烯和由具有特定结构的丙烯酸单体的聚合得到的单体单元的环化聚合得到的单体单元。 CF _{2 = CFCH _{2 CH（C（CF _{3 ）_{2 （OR ³}}}}

3. 发明申请

WO2009011364A1 電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物审中-公开
标题翻译：使用电子束，X射线或EUV光的光刻工艺使用的耐蚀组合物。
公开(公告)号：WO2009011364A1
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：PCT/JP2008/062847
申请日：2008-07-16
申请人：旭硝子株式会社 , 佐々木崇 , 澤口正紀 , 横小路修
发明人：佐々木崇 , 澤口正紀 , 横小路修
IPC分类号： G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0392 , G03F7/0046
摘要：　電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物を提供する。　主鎖に結合したフッ素原子または含フッ素アルキル基を有し、側鎖に芳香族環構造を有する繰り返し単位（Ｆ）を含む酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する含フッ素重合体（ＰＦ）と、酸発生剤とを含む、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物。たとえば、前記繰り返し単位（Ｆ）は、下記繰り返し単位（ＦＶ１）、（ＦＶ２）、（ＦＶ３）および（ＦＶ４）からなる群から選ばれる少なくとも１種の繰り返し単位（ＦＶｎ）である（ＸＦ１は－Ｆまたは－ＣＦ３を、ｒ１およびｒ２はそれぞれ独立に０～２の整数（ｒ１とｒ２の和は１～３の整数である。）を、ＹＦはアルキル基、アルコキシアルキル基、アルキルカルボニル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選ばれる、フッ素原子を有していてもよい炭素数１～２０の基、ＷＦはアルキル基、アルコキシアルキル基およびアルコキシカルボニルアルキル基からなる群から選ばれる、フッ素原子を有していてもよい炭素数１～２０の基、を示す。）。
摘要翻译：公开了用于使用电子束，X射线或EUV光的光刻工艺的抗蚀剂组合物。具体公开了用于使用电子束，X射线或EUV光的光刻工艺的抗蚀剂组合物，其含有含有氟原子或含氟的重复单元（F）的含氟聚合物（PF）与主链键合的烷基和在酸的作用下碱溶性增加的侧链中的芳香环结构和酸发生剂。例如，重复单元（F）为选自下述重复单元（FV1），（FV2），（FV3），（FV4））中的至少一种重复单元（FVn）。（在下式中，XF1表示-F-或-CF3-; r1和r2独立地表示0-2的整数（r1和r2的和为1-3的整数）; YF表示具有1 -20个碳原子，并且任选地含有选自烷基，烷氧基烷基，烷氧基羰基和烷氧基羰基烷基的氟原子; WF表示具有1-20个碳原子并且任选地含有氟原子的基团，其中选自烷基，烷氧基烷基和烷氧基羰基烷基。）

4. 发明申请

WO2008044741A1 電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物审中-公开
标题翻译：使用电子束，X射线或EUV光的光刻方法中的耐蚀组合物
公开(公告)号：WO2008044741A1
公开(公告)日：2008-04-17
申请号：PCT/JP2007/069881
申请日：2007-10-11
申请人：旭硝子株式会社 , 佐々木崇 , 横小路修
发明人：佐々木崇 , 横小路修
IPC分类号： G03F7/039 , C08F12/14 , G03F7/004 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0046 , C08F12/20 , C08F212/14 , C09D125/18 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , C08F220/06
摘要：　電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物を提供する。　側鎖に含フッ素芳香族環構造を有する繰り返し単位（Ｆ）を含む酸の作用によりアルカリ溶解性が増大する含フッ素重合体（Ｆ）と、酸を発生する化合物とを含む、電子線、Ｘ線またはＥＵＶ光を用いたリソグラフィー法に用いられるレジスト組成物。たとえば、繰り返し単位（Ｆ）は、下記繰り返し単位（ＦＶ）である（ただし、ＲＦは水素原子、ハロゲン原子、メチル基またはハロメチル基（３個のＲＦは同一であってもよく、異なっていてもよい。）であり、ＹＦは炭素数１～２０の酸分解性基または水素原子であり、ｐ、ｑおよびｒはそれぞれ独立に０～５の整数であり、かつｐ、ｑおよびｒの和は１～５の整数である。）。
摘要翻译：公开了一种使用电子束，X射线或EUV光的光刻方法中使用的抗蚀剂组合物。具体公开了一种利用电子束，X射线或EUV光的光刻方法中使用的抗蚀剂组合物，其包含：在侧链具有氟化芳环结构的重复单元（F）的含氟聚合物（F）其碱溶性可以通过酸的作用而增加; 和能产生酸的化合物。例如，重复单元（F）是重复单元（F-V），其中R F表示氢原子，卤素原子，甲基或卤代甲基（条件是三条R 6可以彼此相同或不同）; Y代表具有1至20个碳原子的酸可降解基团或氢原子; 并且p，q和r独立地表示0〜5的整数，条件是p，q和r的总和为1〜5]。

5. 发明申请

WO2009104748A1 被露光基板用撥水化剤組成物、レジストパターンの形成方法及び該形成方法により製造した電子デバイス、被露光基板の撥水化処理方法、被露光基板用撥水化剤セット及びそれを用いた被露光基板の撥水化処理方法审中-公开
标题翻译：用于要暴露的基材的水 - 组合物，形成耐蚀图案的方法，通过形成方法生产的电子设备，将待喷涂的基底上的水再循环的方法，用于基底的水 -
公开(公告)号：WO2009104748A1
公开(公告)日：2009-08-27
申请号：PCT/JP2009/053057
申请日：2009-02-20
申请人：株式会社ルネサステクノロジ , 旭硝子株式会社 , 石橋優太 , 石橋つぐみ , 寺井護 , 萩原琢也 , 横小路修 , 武部洋子
发明人：寺井護 , 萩原琢也 , 横小路修 , 武部洋子
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/09
CPC分类号： G03F7/16 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：　液浸液による被露光基板裏面の汚染を抑制するとともに、被加工膜とその直上の有機膜との密着性を向上させて膜剥がれを抑制可能で、作業性に優れた被露光基板用撥水化剤組成物、レジストパターンの形成方法及びその形成方法により製造した電子デバイス、被露光基板の撥水化処理方法、被露光基板用撥水化剤セット及びそれを用いた被露光基板の撥水化処理方法を提供する。少なくとも下記一般式（１）で示される有機ケイ素化合物と溶剤とを含む被露光基板用撥水化剤組成物を用いる。　ただしＲ１は炭素数１４～３０の１価の有機基、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４はそれぞれ独立に炭素数１～１０の１価の有機基または加水分解性基であり、Ｒ２、Ｒ３、Ｒ４の少なくとも１つは加水分解性基である。
摘要翻译：提供一种用于曝光的基板的防水组合物，其抑制基板的背面被浸没液体污染，可以提高被处理膜与直接覆盖该膜的有机膜之间的粘合，以抑制膜剥离，并且具有优异的可加工性。还提供了：形成抗蚀剂图案的方法，通过形成方法制造的电子器件，赋予待暴露的基板的拒水性的方法，待曝光的基板的防水组件，以及将该组合物的防水性赋予待暴露的基材。用于曝光的基材的防水组合物包含由以下通式（1）表示的有机硅化合物和溶剂。在该式中，R 1是C 14-30单价有机基团，并且R 2，R 3和R 4各自独立地为C 1-10单价有机基团或可水解基团，条件是R 2，R 3和R 4中的至少一个为可水解组。

6. 发明申请

WO2008126475A1 新規な含フッ素化合物、含フッ素重合体、およびその製造方法审中-公开
标题翻译：新颖的含氟化合物，含氟聚合物及其制备方法
公开(公告)号：WO2008126475A1
公开(公告)日：2008-10-23
申请号：PCT/JP2008/052896
申请日：2008-02-20
申请人：旭硝子株式会社 , 村田浩一 , 代田直子 , 横小路修 , 武部洋子
发明人：村田浩一 , 代田直子 , 横小路修 , 武部洋子
IPC分类号： C08F36/20 , C07C51/09 , C07C51/38 , C07C57/52 , C07C67/04 , C07C67/343 , C07C69/65
CPC分类号： C07C57/32 , C07C69/65 , C07C2601/08 , C07C2601/14 , C07C2602/42 , C07C2603/74 , C07D307/20 , C08F14/18 , C08F36/20 , C08F214/18 , Y10S430/146 , C08F2/00
摘要：　新規な含フッ素化合物、含フッ素重合体、およびその製造方法を提供する。　式ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２Ｃ（Ｘ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺ）（ＣＨ２）ｎＣＲ＝ＣＨＲで表される化合物（ただし、Ｘは水素原子、シアノ基または式－Ｃ（Ｏ）ＯＺで表される基を、Ｚは水素原子または炭素数１～２０の１価有機基を、ｎは０、１または２を、Ｒは水素原子または炭素数１～２０の１価有機基を示す。）、その製造方法、および該化合物を重合させて得られた含フッ素重合体。
摘要翻译：公开了新的含氟化合物，含氟聚合物和含氟化合物的制造方法。具体公开的是由下式表示的化合物：CF 2 R 2 = CFCF 2 C（X）（C（O）OZ）（CH 2）2 >其中CR = CHR（其中X表示氢原子，氰基或表示为-C（O）OZ的基团; Z表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团碳原子; n表示0,1或2; R表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团）。还公开了制备这种化合物的方法和通过聚合这种化合物而获得的含氟聚合物。

7. 发明申请

WO2007145288A1 含フッ素重合体溶液組成物审中-公开
标题翻译：含氟聚合物溶液组合物
公开(公告)号：WO2007145288A1
公开(公告)日：2007-12-21
申请号：PCT/JP2007/062031
申请日：2007-06-14
申请人：旭硝子株式会社 , 代田直子 , 王舒鐘 , 横小路修
发明人：代田直子 , 王舒鐘 , 横小路修
IPC分类号： C08L33/16 , C08F20/22
CPC分类号： C09D133/16 , C08F220/22
摘要：　含フッ素重合体溶液組成物を提供する。　側鎖に含フッ素脂環式炭化水素基を有する繰り返し単位（Ａ）を含む含フッ素重合体（Ｆ）と、フッ素系有機溶媒（Ｓ）とを含む含フッ素重合体溶液組成物。たとえば、繰り返し単位（Ａ）は、下式（１）、下式（２）、下式（３）、下式（４）および下式（５）で表される化合物からなる群から選ばれる一種以上の環式飽和炭化水素化合物の水素原子をｎ個除いたｎ価の基（ただし、ｎは１～４の整数を示す。）であって、残余の水素原子の５０％以上がフッ素原子に置換された基（Ｇ）を有する繰り返し単位である。
摘要翻译：公开了含氟聚合物溶液组合物。公开了含有含侧链中具有含氟脂肪族烃基的重复单元（A）的含氟聚合物（F）和含氟有机溶剂（S）的含氟聚合物溶液组合物。例如，重复单元（A）具有通过从一种或多种选自以下的环状饱和烃化合物中除去n个氢原子（条件是n表示1-4的整数）而获得的n价基团（G）由以下所示的式（1），式（2），式（3），式（4）和式（5）表示的化合物组成，并且用氟原子代替不少于50％的剩余氢原子。

8. 发明申请

WO2005042453A1 含フッ素化合物、含フッ素ポリマーとその製造方法审中-公开
标题翻译：氟化合物，氟聚合物及其制造方法
公开(公告)号：WO2005042453A1
公开(公告)日：2005-05-12
申请号：PCT/JP2004/016160
申请日：2004-10-29
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 横小路修
发明人：武部洋子 , 横小路修
IPC分类号： C07C33/42
CPC分类号： G03F7/0046 , C07C33/423 , C08F14/18 , C08F36/20 , G03F7/11 , Y10S430/108 , Y10S430/115 , C08F2/02
摘要：　官能基の濃度が高く充分な官能基の特性を得ることができ、幅広い波長領域で高い透明性を有する含フッ素化合物、含フッ素ポリマーおよびその製造方法を提供する　下記式（１）で表される含フッ素ジエンを提供する。　ＣＦ２＝ＣＦＣＨ２ＣＨ（Ｃ（Ｒ１）（Ｒ２）（ＯＨ））ＣＨ２ＣＨ＝ＣＨ２　（１）　ただし、Ｒ１とＲ２は、それぞれ独立にフッ素原子、あるいは炭素数５以下のフルオロアルキル基を表す。
摘要翻译：具有高浓度的官能团的氟化合物因此可以具有归功于该官能团的足够的性质，并且在宽波长区域中是高度透明的。由下式（1）表示的氟化二烯：CF 2 = CFCH 2 CH（C（R 1）（R 2）（OH））CH 2 CH = CH 2（1）其中R 1和R 2 >各自独立地表示氟或C5或更低的氟代烷基。

9. 发明申请

WO2008120743A1 レジスト組成物、レジスト保護膜組成物およびレジストパターンの形成方法审中-公开
标题翻译：耐蚀组合物，耐蚀保护膜组合物和形成耐蚀图案的方法
公开(公告)号：WO2008120743A1
公开(公告)日：2008-10-09
申请号：PCT/JP2008/056170
申请日：2008-03-28
申请人：旭硝子株式会社 , 代田直子 , 武部洋子 , 村田浩一 , 横小路修
发明人：代田直子 , 武部洋子 , 村田浩一 , 横小路修
IPC分类号： C08F36/20 , G03F7/039 , G03F7/11 , G03F7/38
CPC分类号： C08F36/20 , G03F7/0046 , G03F7/0392 , G03F7/0395 , G03F7/0397
摘要：　レジスト組成物を提供する。　式ＣＦ２＝ＣＦＣＦ２Ｃ（ＸＡ）（Ｃ（Ｏ）ＯＺＡ）（ＣＨ２）ｎａＣＲＡ＝ＣＨＲＡで表される化合物の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を有する重合体（ＰＡ）を含むレジスト組成物（ただし、ＸＡは水素原子、シアノ基または式－Ｃ（Ｏ）ＯＺＡで表される基を示し、ＺＡは水素原子または炭素数１～２０の１価有機基を示し、ｎａは０、１または２を示し、ＲＡは水素原子または炭素数１～２０の１価有機基であって、２個のＲＡは同一であってもよく異なっていてもよい。）。
摘要翻译：公开了抗蚀剂组合物。具体公开的是含有具有重复单元（A）的聚合物（PA）的抗蚀剂组合物，该重复单元通过聚合由下式表示的化合物形成：CF 2 2 = CFCF 2 C（X ^{A ）（C（O）OZ ^{A ）（CH _{2 ）_{NA CR ^{A = CHR ^{A 。（式中，X A表示氢原子，氰基或下式表示的基团：-C（O）OZ A; Z < A 表示氢原子或具有1-20个碳原子的一价有机基团; n a表示0,1或2; R A表示氢原子或具有1个碳原子的一价有机基团 -20个碳原子，两个R a可以彼此相同或不同。）}}}}}}

10. 发明申请

WO2008032716A1 リソグラフィー用レジスト材料およびレジストパターンの形成方法审中-公开
标题翻译：用于形成电阻图案的电阻材料和方法
公开(公告)号：WO2008032716A1
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：PCT/JP2007/067680
申请日：2007-09-11
申请人：旭硝子株式会社 , 武部洋子 , 代田直子 , 横小路修
发明人：武部洋子 , 代田直子 , 横小路修
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , G03F7/0046 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：　リソグラフィー用レジスト材料およびレジストパターンの形成方法の提供。　下記化合物（ａ）の重合により形成された繰り返し単位（Ａ）を含む重合体を含むリソグラフィー用レジスト材料。ただし、Ｗは重合性の１価有機基を、ＴはＨ、Ｆ、炭素数１～６のアルキル基または炭素数１～６のフルオロアルキル基を、Ｑは式中の炭素原子と共同して含フッ素単環式炭化水素基を形成する炭素数３～１１のフルオロアルキレン基を、示す。ＴまたはＱ中の炭素原子－炭素原子間には、－Ｏ－、－Ｃ（Ｏ）－または－Ｃ（Ｏ）Ｏ－が挿入されていてもよい。
摘要翻译：公开了用于光刻的抗蚀剂材料。还公开了形成抗蚀剂图案的方法。用于光刻的抗蚀剂材料包括具有通过化合物（a）的聚合形成的重复单元（A）的聚合物[在该式中，W表示可聚合的一价有机基团; T表示H，F，碳原子数1〜6的烷基或碳原子数1〜6的氟烷基。 Q表示碳原子数3〜11的氟代亚烷基，与式（1）中的碳原子一起形成氟化单环烃基，条件是-O - ， - C（O） - 或-C（O） O-可以插入在T或Q中的（碳原子） - （碳原子）键之间。（a）

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