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    • 3. 发明专利
    • 試料の断面作製方法
    • 样品交叉部分的制备方法
    • JP2015169585A
    • 2015-09-28
    • JP2014045809
    • 2014-03-10
    • 住友電気工業株式会社
    • 川田 国安山川 真弘
    • G01N1/28
    • 【課題】試料にイオンビームを照射して試料の断面を作製する際、少ない照射回数で所定の断面を作製できる試料の断面作製方法を提供する。 【解決手段】準備工程として、主加工面11と、隣接加工面12と、これら両面で形成される稜線部13とを有する試料10を用意し、主加工面の一部を遮蔽板30で覆って、主加工面の稜線部から所定長さの領域を露出面11eとして露出させる。次に、露出面に垂直な方向から露出面にイオンビームを照射して、試料の露出面から隣接加工面に亘る所定領域を除去して試料の断面14を作製する。隣接加工面は、露出面とのなす角が91°以上95°以下の傾斜面で構成する。 【選択図】図1
    • 要解决的问题:提供一种样品的横截面的制备方法,其可以通过向样品照射离子束来制备样品的横截面时,可以制备具有小的照射频率的指定横截面。解决方案:作为 制备步骤,制备具有主处理表面11,相邻处理表面12和由表面11和12形成的边缘线部分13的样品10,主处理表面的一部分被掩蔽屏蔽层30覆盖,并且 主处理用面的边缘线部13的指定长度的面积作为露出面11e露出。 然后,通过从垂直于暴露表面的方向将离子束照射到暴露表面,并将暴露表面的指定区域从样品的相邻处理表面12移除,来制备样品的横截面14。 相邻的处理表面包括与暴露表面的角度为91°-95°的倾斜表面。