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1. 发明申请

WO2009008519A1 ガス処理装置、ガス処理システム及びガス処理方法、並びにそれを用いた排気ガス処理システム及び内燃機関审中-公开
标题翻译：气体处理装置，气体处理系统，气体处理方法和排气处理系统和内燃机使用
公开(公告)号：WO2009008519A1
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/JP2008/062637
申请日：2008-07-12
申请人：イマジニアリング株式会社 , 池田裕二 , 牧田忍
发明人：池田裕二 , 牧田忍
IPC分类号： B01J19/08 , A62D3/19 , B01J19/00 , A62D101/22 , A62D101/28
CPC分类号： B01D53/92 , B01D53/32 , B01D2259/806 , B01D2259/818 , F01N3/0892 , F01N13/009 , F01N2240/05 , F01N2240/28
摘要：プラズマを利用してガスの処理を行うガス処理装置において、汎用性が高く、特に芳香族化合物など処理が困難な成分を含有する大量のガスを速やかに処理することができるガス処理装置を提供する。ガスの流路上に直列配置された複数のガス処理ユニット２０Ａ，２０Ｂからなるプラズマ装置列と、プラズマ装置列の各プラズマ装置２０Ａ，２０Ｂの動作を制御する制御部１０とを備える。各プラズマ装置２０Ａ，２０Ｂは、ガスの流路に連通する導電体からなるキャビティ２２Ａ，２２Ｂと、このキャビティ２２Ａ，２２Ｂ内にプラズマを発生させるプラズマ発生器２３Ａ，２３Ｂと、このプラズマ始動部２３Ａ，２３Ｂの発生するプラズマにマイクロ波を照射するマイクロ波照射器２４Ａ，２４Ｂとを有する。制御手段１０は、稼働するプラズマ装置２０Ａ，２０Ｂの数を、導入されるガスの成分に応じて選択する。
摘要翻译：通过利用等离子体进行气体处理的通用气体处理装置，其中可以快速处理含有芳香族化合物等难处理成分的大量气体。气体处理装置包括由气体通道上串联排列的多个气体处理单元（20A，20B）构成的等离子体装置的阵列和用于控制各等离子体装置（20A，20B）的操作的控制部（10））在等离子体装置阵列中。每个等离子体装置（20A，20B）具有由与气体通道连通的导体构成的空腔（22A，22B），用于在空腔（22A，22B）中产生等离子体的等离子体起始部分（23A，23B）和微波照射器（24A，24B），用于用微波照射从等离子体起始部分（23A，23B）产生的等离子体。控制装置（10）根据导入气体的成分来选择等离子体装置（20A，20B）的数量。

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