发明申请
WO2019005433A1 NIOBIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF NIOBIUM-CONTAINING FILMS
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： NIOBIUM-CONTAINING FILM FORMING COMPOSITIONS AND VAPOR DEPOSITION OF NIOBIUM-CONTAINING FILMS
- 申请号：PCT/US2018/036015 申请日：2018-06-05
- 公开(公告)号：WO2019005433A1 公开(公告)日：2019-01-03
- 发明人： LANSALOT-MATRAS, Clément , LEE, Jooho , NOH, Wontae
- 申请人： L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE , LANSALOT-MATRAS, Clément , LEE, Jooho , NOH, Wontae
- 申请人地址： 75, Quai d'Orsay 75007 Paris FR
- 专利权人： L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE,LANSALOT-MATRAS, Clément,LEE, Jooho,NOH, Wontae
- 当前专利权人： L'AIR LIQUIDE, SOCIETE ANONYME POUR L'ETUDE ET L'EXPLOITATION DES PROCEDES GEORGES CLAUDE,LANSALOT-MATRAS, Clément,LEE, Jooho,NOH, Wontae
- 当前专利权人地址： 75, Quai d'Orsay 75007 Paris FR
- 代理机构： MCQUEENEY, Patricia E. et al.
- 优先权： US15/636,354 20170628
- 主分类号： C23C16/455
- IPC分类号： C23C16/455 ; C09D5/00 ; C09D1/00 ; C01B21/06 ; C07F9/00
摘要：
Disclosed are Niobium-containing film forming compositions, methods of synthesizing the same, and methods of forming Niobium-containing films on one or more substrates via atomic layer deposition processes using the Niobium-containing film forming compositions.