基本信息:
- 专利标题： 化合物、樹脂、組成物、並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法
- 专利标题（英）：WO2018052026A1 - Compound, resin, composition, resist pattern formation method, and circuit pattern formation method
- 专利标题（中）：化合物，树脂，组合物和形成抗蚀剂图案的方法和电路图案形成方法
- 申请号：PCT/JP2017/033063 申请日：2017-09-13
- 公开(公告)号：WO2018052026A1 公开(公告)日：2018-03-22
- 发明人： 越後 雅敏
- 申请人： 三菱瓦斯化学株式会社
- 申请人地址： 〒1008324 東京都千代田区丸の内二丁目5番2号 Tokyo JP
- 专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
- 当前专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
- 当前专利权人地址： 〒1008324 東京都千代田区丸の内二丁目５番２号 Tokyo JP
- 代理机构： 稲葉 良幸
- 优先权： JP2016-178433 20160913
- 主分类号： C07C39/21
- IPC分类号： C07C39/21 ; C07D311/78 ; C08G8/20 ; G03F7/004 ; G03F7/027 ; G03F7/11 ; G03F7/20
摘要：
本発明は、下記式（０）で表される、化合物を提供する。（式（０）中、Ｒ Ｙ は、水素原子であり、 Ｒ Ｚ は、炭素数１～６０のＮ価の基又は単結合であり、 Ｒ Ｔ は、各々独立して、置換基を有していてもよい炭素数１～３０のアルキル基、置換基を有していてもよい炭素数６～３０のアリール基、置換基を有していてもよい炭素数２～３０のアルケニル基、置換基を有していてもよい炭素数１～３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基又は水酸基であり、前記アルキル基、前記アリール基、前記アルケニル基及び前記アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよく、ここで、Ｒ Ｔ の少なくとも１つは水酸基であり、またＲ Ｔ の少なくとも１つは炭素数２～３０のアルケニル基であり、 Ｘは、酸素原子、硫黄原子、単結合又は無架橋であることを示し、 ｍは、各々独立して０～９の整数であり、ここで、ｍの少なくとも１つは２～９の整数又はｍの少なくとも２つは１～９の整数であり、 Ｎは、１～４の整数であり、ここで、Ｎが２以上の整数の場合、Ｎ個の［ ］内の構造式は同一であっても異なっていてもよく、 ｒは、各々独立して０～２の整数である。）
摘要（中）：
本发明提供了由下式（0）表示的化合物。 （在式（0），R ý是氢原子，R ž是N价基团或碳原子数1〜60的单键， [R Ť各自独立地为可以具有取代基的烷基为1〜30个碳原子，任选 - 碳原子数为6为30取代的芳基 基，可具有取代基的2至30个碳原子的链烯基，碳原子数为1〜30的可以具有取代基的烷氧基，卤原子，硝基，氨基，羧酸基团 巯基或羟基，烷基，芳基，烯基和烷氧基，醚键，可含有酮或酯键，其中，R Ť
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07C | 无环或碳环化合物 |
| ------C07C37/00 | 有羟基或氧—金属基连接在六元芳环碳原子上化合物的制备 |
| --------C07C37/64 | .氧—金属基连在六元芳环碳原子上的氧—金属化合物的制备 |
| ----------C07C39/21 | ..至少1个羟基在非稠环上 |