基本信息:
- 专利标题： 感光性樹脂組成物、硬化膜、有機ＥＬ表示装置、半導体電子部品、半導体装置
- 专利标题（英）：WO2018043250A1 - Photosensitive resin composition, cured film, organic el display device, semiconductor electronic component and semiconductor device
- 专利标题（中）：感光性树脂组合物，固化膜，有机EL显示装置，半导体电子部件，半导体装置
- 申请号：PCT/JP2017/030144 申请日：2017-08-23
- 公开(公告)号：WO2018043250A1 公开(公告)日：2018-03-08
- 发明人： 早坂 惇 , 木内 洋平 , 奥田 良治
- 申请人： 東レ株式会社
- 申请人地址： 〒1038666 東京都中央区日本橋室町2丁目1番1号 Tokyo JP
- 专利权人： 東レ株式会社
- 当前专利权人： 東レ株式会社
- 当前专利权人地址： 〒1038666 東京都中央区日本橋室町２丁目１番１号 Tokyo JP
- 代理机构： 清流国際特許業務法人
- 优先权： JP2016-166701 20160829; JP2016-166702 20160829
- 主分类号： G03F7/037
- IPC分类号： G03F7/037 ; C08G69/26 ; G03F7/004 ; G03F7/027 ; G03F7/075 ; G03F7/20
摘要：
低温での加熱処理においても金属材料、とりわけ銅との密着性に優れ、かつ高伸度な硬化膜となる感光性樹脂組成物を提供する。（Ａ）一般式（１）で表される構造単位を有するアルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）光架橋剤を含むことを特徴とする感光性樹脂組成物。 （一般式（１）中、Ｘ １ およびＸ ２ は、２～１０価の有機基を示し、Ｙ １ は２～４価の有機基を示し、Ｙ ２ は、炭素数が２以上の脂肪族構造を有する２価の有機基を示し、Ｒ １ およびＲ ２ は、水素または炭素数１～２０の有機基を示す。ｐ、ｑ、ｒ、ｓ、ｔは、０≦ｐ≦４、０≦ｑ≦４、０≦ｒ≦２、０≦ｓ≦４、０≦ｔ≦４の範囲内の整数を表す。ｎ１およびｎ２は、１≦ｎ１≦５００、１≦ｎ２≦５００、０．０５≦ｎ１／（ｎ１＋ｎ２）＜１の範囲内を満たす整数であって、各繰り返し単位の配列は、ブロック的でもランダム的でもよい。）
摘要（中）：
本发明提供一种感光性树脂组合物，其对金属材料，特别是铜的密合性优异，即使在低温热处理下也成为高伸长率的固化膜。 （A）具有由通式（1）表示的结构单元的碱溶性树脂和（B）光交联剂。 （在通式（1）中，X 1和X 2代表具有2-10价的有机基团，Y 1代表有机基团， Y 2表示具有2个或更多个碳原子的脂族结构的二价有机基团，并且R 1和R和R 2 它是，.P表示具有氢或C 1〜20，q，R，S，T是，0≦p≦4,0≦q≦4,0≦为r的有机基团≦ 2,0≦小号≦4,0≦吨≦.n1和n2表示在4范围的整数，1≦N1≦500,1≦N 2≦500,0.05≦N1 /（N1 + N2）<1 它是一个满足范围的整数，每个重复单元的序列可以是块或随机的。）
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G03 | 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术 |
| ----G03F | 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备 |
| ------G03F7/00 | 图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备 |
| --------G03F7/004 | .感光材料 |
| ----------G03F7/027 | ..具有碳—碳双键的非高分子的可光聚合的化合物，例如，乙烯化合物 |
| ------------G03F7/028 | ...含有增光敏物质的，例如，感光刺激剂 |
| --------------G03F7/037 | ....黏结剂是聚酰胺或聚酰亚胺 |