基本信息:
- 专利标题： 化合物、樹脂、組成物並びにレジストパターン形成方法及び回路パターン形成方法
- 专利标题（英）：Compound, resin, composition, resist pattern formation method, and circuit pattern formation method
- 专利标题（中）：化合物，树脂，组合物，形成抗蚀剂图案的方法，
- 申请号：PCT/JP2017/026423 申请日：2017-07-21
- 公开(公告)号：WO2018016615A1 公开(公告)日：2018-01-25
- 发明人： 越後 雅敏
- 申请人： 三菱瓦斯化学株式会社
- 申请人地址： 〒1008324 東京都千代田区丸の内二丁目5番2号 Tokyo JP
- 专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
- 当前专利权人： 三菱瓦斯化学株式会社
- 当前专利权人地址： 〒1008324 東京都千代田区丸の内二丁目５番２号 Tokyo JP
- 代理机构： 稲葉 良幸
- 优先权： JP2016-143619 20160721
- 主分类号： C07C43/23
- IPC分类号： C07C43/23 ; C07C43/20 ; C07C43/205 ; C07D303/27 ; C07D311/78 ; C07D311/82 ; C07D407/12 ; C08G59/20 ; G03F7/031 ; G03F7/11 ; G03F7/26 ; H01L21/027
摘要：
下記式（０）で表される、化合物。（０）（Ｒ Ｙ ：炭素数１～３０のアルキル基又は炭素数６～３０のアリール基、Ｒ Ｚ： 炭素数１～６０のＮ価の基又は単結合、Ｒ Ｔ ：炭素数１～３０のアルキル基、炭素数６～３０のアリール基、炭素数２～３０のアルケニル基、炭素数１～３０のアルコキシ基、ハロゲン原子、ニトロ基、アミノ基、カルボン酸基、チオール基、水酸基或いは水酸基の水素原子がヒドロキシアルキル基又はグリシジル基で置換された基（アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルコキシ基は、エーテル結合、ケトン結合又はエステル結合を含んでいてもよい）、Ｒ Ｔ の少なくとも１つは水酸基の水素原子がヒドロキシアルキル基で置換された基又はグリシジル基で置換された基を含む。Ｘ：酸素原子、硫黄原子又は無架橋、ｍ：０～９の整数（少なくとも１つは１～９の整数）、Ｎ：１～４の整数、ｒ：０～２の整数）
摘要（中）：
由下式（0）表示的化合物。 （0）（R ý：烷基或具有碳原子数为1〜30 6〜30个碳原子的芳基，R Z：的1〜60 N价碳 R T：具有1至30个碳原子的烷基，具有6至30个碳原子的芳基，具有2至30个碳原子的烯基，具有1至30个碳原子的烷氧基 基，卤原子，硝基，氨基，羧酸基团，硫醇基，羟基或其中一个氢原子被取代的羟烷基或缩水甘油基（烷基，芳基，烯基，烷氧基羟基， 醚键或酮或酯键），基团或者与R的一羟基取代了羟基的氢原子中的至少一个Ť取代有缩水甘油基 组：X：氧原子，硫原子或未悬浮 ，M：0〜9的整数（至少一个为1〜9的整数），N：1〜4整数，r为0〜2的整数）
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C07 | 有机化学 |
| ----C07C | 无环或碳环化合物 |
| ------C07C43/00 | 醚；含有COOC基、COOCOC基或COOCOCOC基的化合物 |
| --------C07C43/02 | .醚 |
| ----------C07C43/03 | ..所有的醚—氧原子都连接在非环碳原子上 |
| ------------C07C43/23 | ...含羟基或氧—金属基 |