基本信息:
- 专利标题： SYSTEM AND METHOD FOR TEMPERATURE CONTROL IN PLASMA PROCESSING SYSTEM
- 专利标题（中）：用于等离子体处理系统中的温度控制的系统和方法
- 申请号：PCT/US2017/023635 申请日：2017-03-22
- 公开(公告)号：WO2017165550A1 公开(公告)日：2017-09-28
- 发明人： DEVILLIERS, Anton J.
- 申请人： TOKYO ELECTRON LIMITED , TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC.
- 申请人地址： Akasaka Biz Tower 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-6325 JP
- 专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED,TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC.
- 当前专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED,TOKYO ELECTRON U.S. HOLDINGS, INC.
- 当前专利权人地址： Akasaka Biz Tower 3-1 Akasaka 5-chome Minato-ku, Tokyo 107-6325 JP
- 代理机构： MATHER, Joshua D.
- 优先权： US62/311,571 20160322
- 主分类号： C23C16/48
- IPC分类号： C23C16/48 ; C23C16/458 ; C23C16/04 ; C23C16/46 ; H01L21/67
摘要：
Techniques herein include systems and methods for fine control of temperature distribution across a substrate. Such techniques can be used to provide uniform spatial temperature distribution, or a biased spatial temperature distribution to improve plasma processing of substrates and/or correct characteristics of a given substrate. Embodiments include a plasma processing system with temperature control. Temperature control systems herein include a primary heating mechanism to heat a substrate, and a secondary heating mechanism that precisely modifies spatial temperature distribution across a substrate being processed. At least one heating mechanism includes a digital projection system configured to project a pattern of electromagnetic radiation onto or into a substrate, or through the substrate and onto a substrate support assembly. The digital projection system is configured to spatially and dynamically adjust the pattern of electromagnetic radiation and selectively augment heating of the substrate by each projected point location.
摘要（中）：
这里的技术包括用于精细控制基材上的温度分布的系统和方法。 这种技术可用于提供均匀的空间温度分布或偏置空间温度分布以改善衬底的等离子体处理和/或给定衬底的正确特性。 实施例包括具有温度控制的等离子处理系统。 本文的温度控制系统包括用于加热衬底的主加热机构和精确地改变正在被处理的衬底上的空间温度分布的第二加热机构。 至少一个加热机构包括数字投影系统，该数字投影系统被配置为将电磁辐射的图案投影到衬底上或衬底中，或穿过衬底并且衬底支撑组件上。 数字投影系统被配置为在空间上和动态地调整电磁辐射的图案并且通过每个投影点位置选择性地增加衬底的加热。