基本信息:
- 专利标题： 基板除電機構及びこれを用いた真空処理装置
- 专利标题（英）：Substrate destaticizing mechanism and vacuum treatment apparatus using same
- 专利标题（中）：使用相同的底物去除机械和真空处理设备
- 申请号：PCT/JP2016/064361 申请日：2016-05-13
- 公开(公告)号：WO2016186046A1 公开(公告)日：2016-11-24
- 发明人： 廣野 貴啓
- 申请人： 株式会社アルバック
- 申请人地址： 〒2538543 神奈川県茅ヶ崎市萩園2500 Kanagawa JP
- 专利权人： 株式会社アルバック
- 当前专利权人： 株式会社アルバック
- 当前专利权人地址： 〒2538543 神奈川県茅ヶ崎市萩園２５００ Kanagawa JP
- 代理机构： 阿部 英樹
- 优先权： JP2015-099574 20150515
- 主分类号： C23C14/58
- IPC分类号： C23C14/58 ; C23C16/56
摘要：
真空中でフィルム状の基板等に成膜等の処理を行う装置において、処理領域に影響を与えることなく、簡素な構成で効率良く除電を行うことができる技術を提供する。本発明は、真空中で搬送される成膜用フィルム１０に対してマグネトロン放電によって除電を行う基板除電機構である。本発明では、放電ガスが導入されるハウジング５１と、ハウジング５１内において基板搬送方向に対して直交するように配置され、所定の電圧が印加される直線状の放電電極５３と、放電電極５３の近傍に配置される磁石５４Ａとを有し、成膜用フィルム１０における帯電量の分布に応じて放電を発生させるように磁石５４Ａが配置されている。
摘要（中）：
提供了用于例如用于在真空中在膜状基板上形成膜的装置的技术，并且可以使用简单的结构进行有效的去静电，而不影响处理区域。 本发明还提供了通过磁控管放电使真空输送的成膜膜10去静电的基板去静电机构。 根据本发明，基板去静电机构包括：引入放电气体的壳体51; 线性放电电极53，其垂直于壳体51中的衬底的输送方向设置并施加预定电压; 以及设置在放电电极53附近的磁体54A。磁体54A被设置成根据成膜膜10中的电荷量的分布进行放电。