基本信息:
- 专利标题： 保護膜およびその製造方法
- 专利标题（英）：Protective film and method for producing same
- 专利标题（中）：保护膜及其制造方法
- 申请号：PCT/JP2016/061168 申请日：2016-04-05
- 公开(公告)号：WO2016167161A1 公开(公告)日：2016-10-20
- 发明人： 松尾 誠 , 林田 興明 , 飯田 明善
- 申请人： 株式会社iMott
- 申请人地址： 〒2250012 神奈川県横浜市青葉区あざみ野南三丁目16番地12 Kanagawa JP
- 专利权人： 株式会社iMott
- 当前专利权人： 株式会社ｉＭｏｔｔ
- 当前专利权人地址： 〒2250012 神奈川県横浜市青葉区あざみ野南三丁目１６番地１２ Kanagawa JP
- 代理机构： 青木 篤
- 优先权： JP2015-084478 20150416
- 主分类号： C23C16/04
- IPC分类号： C23C16/04 ; B23B27/14 ; B23B27/20 ; C23C14/04 ; C23C14/06 ; C23C16/27
摘要：
本発明は、セグメント構造の保護膜において、特に溝の側面から溝の底部に繋がる構造および溝の底部の構造により、内外力の負荷変形応力により溝構造が破壊・破損するのを防止し、強度的に安定なセグメント構造の保護膜を得ることを目的とする。本発明は、基材上に膜を堆積したセグメント構造の保護膜であって、該基材に溝加工した後に該保護膜を堆積してセグメント保護膜間の間隔を形成してなり、溝側面と溝の底部が交差する部分の縦断面が下に凸の曲線で繋がり、かつ溝の底部の縦断面が下に凸の曲線、または直線である保護膜に関する。
摘要（中）：
对于具有分段结构的保护膜，本发明的目的是获得具有在强度方面稳定的分段结构的保护膜，并且防止由于载荷变形应力引起的凹槽结构的破坏或损坏 并且通过特别地将沟槽的侧面与槽的底部连接的结构和槽的底部部分的结构来实现。 本发明是一种具有分段结构的保护膜，该膜通过在基材上沉积膜形成，其中通过在基材中加工凹槽之后将保护膜沉积在基材上而获得保护膜 并且在分割的保护膜之间形成空间，并且槽侧面和槽底面相交的部分的垂直截面用相对的下凸曲线连接，并且底面的垂直截面 凹槽是向下凸曲线或直线。