发明申请
WO2015121821A1 PROCEDE D'EXPLOITATION D'UNE INSTALLATION DE TRAITEMENT D'EAU, ET INSTALLATION POUR LA MISE EN OEUVRE DU PROCEDE
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： PROCEDE D'EXPLOITATION D'UNE INSTALLATION DE TRAITEMENT D'EAU, ET INSTALLATION POUR LA MISE EN OEUVRE DU PROCEDE
- 专利标题（英）：Method for operating a water treatment plant and plant for carrying out said method
- 专利标题（中）：水处理厂和运行方法的方法
- 申请号：PCT/IB2015/051053 申请日：2015-02-12
- 公开(公告)号：WO2015121821A1 公开(公告)日：2015-08-20
- 发明人： DELAGARDE, Sébastien
- 申请人： DEGREMONT
- 申请人地址： 16 Place de l'Iris - Tour CB 21 F-92040 Paris La Defense Cedex FR
- 专利权人： DEGREMONT
- 当前专利权人： DEGREMONT
- 当前专利权人地址： 16 Place de l'Iris - Tour CB 21 F-92040 Paris La Defense Cedex FR
- 代理机构： MOUGET-GONIOT, Claire et al.
- 优先权： FR14 20140214
- 主分类号： B01D65/02
- IPC分类号： B01D65/02
摘要：
Procédé d'exploitation d'une installation de traitement d'eau comprenant : au moins une unité à membrane (M) pour filtration par osmose inverse, ou par nanofiltration, une conduite d'arrivée (1, 1 a), au moins une conduite de sortie (4) pour le perméat, et une conduite de rejet (5); au moins une pompe haute pression (3) sur la conduite d'arrivée; un système de récupération d'énergie (6); un circuit (16, 17, 18) de solution de nettoyage, et un ensemble de vannes pour commander les opérations de filtration et les opérations de nettoyage, le débit de solution de nettoyage passant dans l'unité à membrane devant être au moins égal à une valeur Q prescrite; la solution de nettoyage est injectée en amont de la pompe haute pression (3), selon un débit Q1 inférieur à la valeur prescrite Q; au moins le complément de débit (Q-Q1 ) de solution de nettoyage est assuré par une recirculation de solution sortant par la conduite (5) de rejet de l'unité à membrane et traversant le système de récupération d'énergie (6); la pompe haute pression (3) est à l'arrêt lors du nettoyage.
摘要（中）：
本发明涉及一种用于操作水处理设备的方法，包括：用于通过反渗透或纳滤过滤的至少一个膜单元（M），入口导管（1,1a），用于渗透物的至少一个出口导管（4） 和排出管道（5）; 入口导管上的至少一个高压泵（3）; 能量回收系统（6）; 清洁溶液回路（16,17,18）; 以及用于控制过滤操作和清洁操作的一组阀。 根据本发明：通过膜单元的清洗液的流量必须至少等于规定值Q; 清洗溶液以低于规定值Q的流量Q1注入高压泵（3）的上游; 至少通过离开膜单元的排出管道（5）的溶液再循环并通过能量回收系统（6）来保证清洁溶液的流量Q-Q1。 高压泵（3）在清洁期间停止。
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B01 | 一般的物理或化学的方法或装置 |
| ----B01D | 分离 |
| ------B01D65/00 | 用于一般半透膜分离方法或设备的辅助设备或辅助操作 |
| --------B01D65/02 | .膜的清洗或消毒 |