基本信息:
- 专利标题： ナノインプリント用モールドの製造方法、および反射防止物品
- 专利标题（英）：Method for producing mold for nanoimprinting and anti-reflective article
- 专利标题（中）：用于生产用于纳米复印和反反射制品的模具的方法
- 申请号：PCT/JP2014/071023 申请日：2014-08-08
- 公开(公告)号：WO2015022916A1 公开(公告)日：2015-02-19
- 发明人： 釋▲迦▼郡 真矢 , 尾野本 広志 , 大川 真 , 高梨 一哉 , 原 勝己
- 申请人： 三菱レイヨン株式会社
- 申请人地址： 〒1008253 東京都千代田区丸の内一丁目1番1号 Tokyo JP
- 专利权人： 三菱レイヨン株式会社
- 当前专利权人： 三菱レイヨン株式会社
- 当前专利权人地址： 〒1008253 東京都千代田区丸の内一丁目１番１号 Tokyo JP
- 代理机构： 志賀 正武
- 优先权： JP2013-168539 20130814
- 主分类号： B29C59/04
- IPC分类号： B29C59/04 ; B29C33/38 ; C25D11/16 ; G02B1/11
摘要：
本発明のナノインプリント用モールドの製造方法は、表面が機械加工されたロール状のアルミニウム基材の表面に微細凹凸構造が形成されたナノインプリント用モールドを製造する方法であって、表面が機械加工されたロール状のアルミニウム基材の該表面を少なくとも平均結晶粒径が変化するまで機械研磨する研磨工程と、前記研磨工程の後にアルミニウム基材を陽極酸化し微細凹凸構造を形成する微細凹凸構造形成工程とを有する。本発明の反射防止物品は、表面に微細凹凸構造を有し、可視光の波長領域において、下記式（１）より求められる、Ｌ ＊ ａ ＊ ｂ ＊ 表色系で示される原点との色差（Ｅ ＊ ）が０．９以下であるか、下記式（２）より求められる彩度（Ｃ ＊ ）が０．７以下である。 Ｅ ＊ ＝｛（Ｌ ＊ ） ２ ＋（ａ ＊ ） ２ ＋（ｂ ＊ ） ２ ｝ １／２ ・・・（１） Ｃ ＊ ＝｛（ａ ＊ ） ２ ＋（ｂ ＊ ） ２ ｝ １／２ ・・・（２）
摘要（中）：
这种在已经加工表面的辊状铝基板的表面上形成有微小的凹凸结构的纳米压印用模具的制造方法具有：对辊状铝的表面进行机械研磨的研磨工序 表面已被加工的基材至少直到平均晶粒尺寸变化; 以及在抛光步骤之后阳极氧化铝基板并形成微小的凹凸结构的微小的凹凸结构形成步骤。 抗反射制品在表面具有微小的凹凸结构，在可见光的波长区域中，与L * a * b *色系中表示的原点具有色差（E *），并通过 式（1）不大于0.9，或通过式（2）确定的色度（C *）不大于0.7。 E * = {（L *）2 +（a *）2 +（b *）2} 1/2 ...（1）C * = {（a *）2 +（b *）2} 2）
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B29 | 塑料的加工；一般处于塑性状态物质的加工 |
| ----B29C | 塑料的成型或连接；塑性状态物质的一般成型；已成型产品的后处理，如修整 |
| ------B29C59/00 | 表面成型，如压花；所用的设备 |
| --------B29C59/02 | .用机械方法，如压制 |
| ----------B29C59/04 | ..使用辊或环形带 |