基本信息:
- 专利标题： アークプラズマ成膜装置
- 专利标题（英）：Arc-plasma film formation device
- 专利标题（中）：ARC等离子体膜形成装置
- 申请号：PCT/JP2013/079261 申请日：2013-10-29
- 公开(公告)号：WO2014136314A1 公开(公告)日：2014-09-12
- 发明人： 鈴木 正康 , 森元 陽介
- 申请人： 株式会社島津製作所
- 申请人地址： 〒6048511 京都府京都市中京区西ノ京桑原町1番地 Kyoto JP
- 专利权人： 株式会社島津製作所
- 当前专利权人： 株式会社島津製作所
- 当前专利权人地址： 〒6048511 京都府京都市中京区西ノ京桑原町１番地 Kyoto JP
- 代理机构： 三好 秀和
- 优先权： JPPCT/JP2013/056420 20130308
- 主分类号： C23C14/32
- IPC分类号： C23C14/32
摘要：
処理対象の基板が格納される成膜チャンバーと、ターゲットの少なくとも一部が格納され、成膜チャンバーに連結するプラズマチャンバーと、ターゲットと成膜チャンバーとの間に少なくとも１箇所の屈曲部を有して連続する磁力線を発生させる、非磁性金属からなる外皮によって被覆されてプラズマチャンバー内に配置された複数の中空コイルとを備え、アーク放電によりプラズマチャンバー内で生成されたターゲット材料に由来するイオンを含むプラズマが、中空コイルの内側を通過してターゲットから基板まで輸送される。
摘要（中）：
该电弧等离子体成膜装置具备：成膜室，其中存储有待处理的基板; 等离子体室，其连接到成膜室，并且其中存储有至少一部分靶; 并且位于等离子体室中的多个中空线圈被包含非磁性金属的外涂层覆盖，产生连续的磁力线，并且具有位于靶和成膜之间的一个或多个弯曲部分 室。 其中，作为电弧放电的结果，由靶材料产生并产生于等离子体室内的等离子体含有的离子通过中空线圈的内部从目标物传送到基板。