发明申请
WO2013191228A1 UNDER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION FOR IMPRINTS AND METHOD OF FORMING PATTERN
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： UNDER LAYER FILM-FORMING COMPOSITION FOR IMPRINTS AND METHOD OF FORMING PATTERN
- 专利标题（中）：在层压成膜组合物和形成图案的方法
- 申请号：PCT/JP2013/066899 申请日：2013-06-13
- 公开(公告)号：WO2013191228A1 公开(公告)日：2013-12-27
- 发明人： KITAGAWA, Hirotaka , HATTORI, Akiko , ENOMOTO, Yuichiro
- 申请人： FUJIFILM CORPORATION
- 申请人地址： 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 JP
- 专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人： FUJIFILM CORPORATION
- 当前专利权人地址： 26-30, Nishiazabu 2-chome, Minato-ku, Tokyo 1068620 JP
- 代理机构： SIKS & CO.
- 优先权： JP2012-136896 20120618; JP2013-063881 20130326
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027 ; B29C59/02 ; C08F8/00
摘要：
Provided is the under layer film excellent in the surface planarity. An under layer film-forming composition for imprints comprising a (meth)acrylic resin (A) containing an ethylenic unsaturated group(P) and a nonionic hydrophilic group (Q), and having a weight average molecular weight of 1,000 or larger; and a solvent (B), the resin(A) having an acid value of smaller than 1.0 mmol/g, and an under layer film-forming composition for imprints comprising a (meth)acrylic resin (A2) containing an ethylenic unsaturated group (P), and containing, as a nonionic hydrophilic group (Q), a cyclic substituent (Q2) having a carbonyl group in the cyclic structure thereof, with a weight average molecular weight of 1,000 or larger; and a solvent (B).
摘要（中）：
底层膜的表面平坦性优异。 一种用于压印的底层成膜组合物，其包含含有烯属不饱和基团（P）和非离子亲水基团（Q）的（甲基）丙烯酸树脂（A），并且具有1,000或更大的重均分子量; 和溶剂（B），酸值小于1.0mmol / g的树脂（A）和包含含有烯属不饱和基团的（甲基）丙烯酸树脂（A2）的压印用底膜成膜组合物 P），并且在其环状结构中含有具有羰基的环状取代基（Q2）作为非离子亲水基团（Q），重均分子量为1000以上; 和溶剂（B）。
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |