基本信息:
- 专利标题： 炭素膜成膜装置および炭素膜成膜方法
- 专利标题（英）：Device for forming carbon film and method for forming carbon film
- 专利标题（中）：用于形成碳膜的装置和形成碳膜的方法
- 申请号：PCT/JP2013/052868 申请日：2013-02-07
- 公开(公告)号：WO2013118822A1 公开(公告)日：2013-08-15
- 发明人： 鈴木 雅裕 , 山川 和芳 , 齊藤 利幸
- 申请人： 株式会社ジェイテクト
- 申请人地址： 〒5428502 大阪府大阪市中央区南船場三丁目5番8号 Osaka JP
- 专利权人： 株式会社ジェイテクト
- 当前专利权人： 株式会社ジェイテクト
- 当前专利权人地址： 〒5428502 大阪府大阪市中央区南船場三丁目５番８号 Osaka JP
- 代理机构： 上野 英樹
- 优先权： JP2012-027080 20120210
- 主分类号： C23C16/455
- IPC分类号： C23C16/455 ; C01B31/02 ; C23C16/27
摘要：
炭素膜成膜装置は、処理室内に原料ガスを吐出するための複数の吐出口、および各吐出口と連通するガス流通路を、内部に区画形成するガス導入配管を有するノズルを有する。複数の吐出口の形成領域に対応するガス導入配管の管壁は、当該管壁の流路径が、原料ガス供給手段による原料ガスの供給側から離れるほど縮径になるように、階段状に形成されている。
摘要（中）：
用于形成碳膜的装置具有喷嘴，其具有用于形成的用于形成的气体引入管的喷嘴，用于将原料气体排放到处理室中的多个排出口和用于与每个排出口连通的气体流路。 形成与形成有多个排出口的区域相对应的气体导入管的管壁，使得管壁的流路直径被减小到足以与原料侧分离 由原料气体供给装置供给的原料气体。