基本信息:
- 专利标题： 포토레지스트 조성물
- 专利标题（英）：Photoresist composition
- 专利标题（中）：光电组合物
- 申请号：PCT/KR2012/010724 申请日：2012-12-11
- 公开(公告)号：WO2013089403A1 公开(公告)日：2013-06-20
- 发明人： 윤혁민 , 여태훈 , 이상훈 , 김진선 , 윤주표 , 김동명 , 김진우 , 박경진 , 이선희 , 황치용
- 申请人： 주식회사 동진쎄미켐
- 申请人地址： 404-205 인천시 서구 가좌동 472-2, Incheon KR
- 专利权人： 주식회사 동진쎄미켐
- 当前专利权人： 주식회사 동진쎄미켐
- 当前专利权人地址： 404-205 인천시 서구 가좌동 472-2, Incheon KR
- 代理机构： 원영호
- 优先权： KR10-2011-0133957 20111213; KR10-2012-0142518 20121210
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/075 ; G03F7/20 ; H01L21/027
摘要：
본 발명은 포토레지스트 조성물에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 기판의 실리콘 질화막(SiNx) 상에 하프톤을 형성하는 공정을 포함하는 기판의 미세패턴형성용 포토레지스트 조성물에 관한 것이다. 본 발명의 포토레지스트 조성물은 상온 안정성이 뛰어나며, 변색이 적어 투과도가 우수하며, 실리콘 질화막과의 접착력이 우수하여 HMDS 공정을 생략하여도 미세화된 패턴의 현상공정시 유실이 발생하거나, 후공정시 패턴의 무너짐이 발생할 우려가 없다.
摘要（中）：
本发明涉及一种光致抗蚀剂组合物，更具体地说，涉及用于形成用于基材的精细图案的光致抗蚀剂组合物，其包括在基板的氮化硅（SiNx）层上形成半色调的工艺。 本发明的光致抗蚀剂组合物在室温下具有优异的稳定性，对于良好的透过性几乎没有变色，并且具有良好的氮化硅层的粘附性，使得即使省略HMDS工艺，也不可能将层冲洗掉 在精细图案的形成过程中或在随后的工艺中图案劣化的过程中。