基本信息:
- 专利标题： 一种干涉曝光装置及方法
- 专利标题（英）：Interference exposure device and method
- 申请号：PCT/CN2012/080258 申请日：2012-08-16
- 公开(公告)号：WO2013026368A1 公开(公告)日：2013-02-28
- 发明人： 许琦欣 , 王帆
- 申请人： 上海微电子装备有限公司 , 许琦欣 , 王帆
- 申请人地址： 中国上海市浦东新区张东路1525号, Shanghai 201203 CN
- 专利权人： 上海微电子装备有限公司,许琦欣,王帆
- 当前专利权人： 上海微电子装备有限公司,许琦欣,王帆
- 当前专利权人地址： 中国上海市浦东新区张东路1525号, Shanghai 201203 CN
- 代理机构： 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)
- 优先权： CN201110241758.0 20110822
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20 ; H01L21/027
摘要：
一种干涉曝光装置，包括：光源（100），用于提供曝光光束；匀光扩束单元（200），用于对光源发出的光束进行准直或整形；干涉头（300），包括至少两组光栅（303），用于将曝光光束形成至少两束干涉光束并会聚于基底表面形成一干涉曝光图形，光栅（303）的周期及位置与待曝光的图形的周期及分布特征相一致；运动承载单元（406），用于提供基底至少三自由度运动；测量单元（500），用于获得干涉头坐标系与运动承载单元坐标系的夹角，以便在对基底曝光之前依据测量单元（500）的测量结果对运动承载单元（406）的曝光位置进行调整。