基本信息:
- 专利标题： 荷電粒子線装置及び計測方法
- 专利标题（英）：Charged particle beam apparatus and measuring method
- 专利标题（中）：充电颗粒光束装置和测量方法
- 申请号：PCT/JP2012/065509 申请日：2012-06-18
- 公开(公告)号：WO2013015040A1 公开(公告)日：2013-01-31
- 发明人： 牧野 浩士 , 数見 秀之 , 波田野 道夫
- 申请人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ , 牧野 浩士 , 数見 秀之 , 波田野 道夫
- 申请人地址： 〒1058717 東京都港区西新橋一丁目24番14号 Tokyo JP
- 专利权人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ,牧野 浩士,数見 秀之,波田野 道夫
- 当前专利权人： 株式会社日立ハイテクノロジーズ,牧野 浩士,数見 秀之,波田野 道夫
- 当前专利权人地址： 〒1058717 東京都港区西新橋一丁目２４番１４号 Tokyo JP
- 代理机构： ポレール特許業務法人
- 优先权： JP2011-163522 20110726
- 主分类号： H01J37/22
- IPC分类号： H01J37/22 ; G01B15/00 ; G01B15/04 ; H01J37/147 ; H01J37/244 ; H01J37/28
摘要：
高アスペクト構造であっても、パターン底部の寸法を高精度に計測できる荷電粒子線装置及び計測方法を提供するために、アスペクト比の高いパターンが形成された試料のパターン寸法底部を計測する方法において、試料の同一領域に荷電粒子線を第１方向及び第１方向とは逆の第２方向に走査させたときにそれぞれ発生する信号荷電粒子に基づく第１走査像と第２走査像とを比較し、走査像の信号強度が小さい方を真値とし、走査像を再構築し、再構築した走査像を用いて試料に形成されたパターン底部の寸法を計測する。また、その方法を実現する荷電粒子線装置とする。
摘要（中）：
为了提供即使采用高纵横比的结构也能够高精度地测量图案底部的尺寸的带电粒子束装置和测量方法，本发明提供了一种用于测量图案底部尺寸的方法 其中形成具有高纵横比的图案的样品，其中基于在将带电粒子束扫描到同一区域时产生的信号带电粒子的第一扫描图像和第二扫描图像之间进行比较 在与第一方向相反的第一方向和第二方向上，将具有较低信号强度的扫描图像作为真实值，重建扫描图像，并且使用重建的扫描图像来测量 在样品上形成的图案底部的尺寸。 还提供了一种用于实现该方法的带电粒子束装置。