基本信息:
- 专利标题: 一种圆柱型等离子体谐振腔
- 专利标题(英):Cylindrical plasma resonant cavity
- 申请号:PCT/CN2010/079322 申请日:2010-12-01
- 公开(公告)号:WO2011124074A1 公开(公告)日:2011-10-13
- 发明人: 李震宇 , 卢松涛 , 刘善沛 , 龙胜亚 , 雷高清 , 刘泳涛
- 申请人: 长飞光纤光缆有限公司 , 李震宇 , 卢松涛 , 刘善沛 , 龙胜亚 , 雷高清 , 刘泳涛
- 申请人地址: 中国湖北省武汉市关山二路4号, Hubei 430073 CN
- 专利权人: 长飞光纤光缆有限公司,李震宇,卢松涛,刘善沛,龙胜亚,雷高清,刘泳涛
- 当前专利权人: 长飞光纤光缆有限公司,李震宇,卢松涛,刘善沛,龙胜亚,雷高清,刘泳涛
- 当前专利权人地址: 中国湖北省武汉市关山二路4号, Hubei 430073 CN
- 代理机构: 武汉开元知识产权代理有限公司
- 优先权: CN201010147798.4 20100409
- 主分类号: H01P7/06
- IPC分类号: H01P7/06
摘要:
本发明涉及一种用PCVD光纤预制棒加工机床的圆柱型等离子体谐振腔,包括有圆柱型谐振腔壳体,在圆柱型谐振腔壳体两端设置截止波导,在圆柱型谐振腔壳体周向开设有一波导入口,其特征在于:在圆柱型谐振腔壳体两端的截止波导为活动端盖结构,所述的活动端盖结构截止波导开设有中间通孔,内端面设置凸起的圆台,与圆柱型谐振腔相配置。本发明通过拆换截止波导可使谐振腔与不同直径的玻璃管相匹配,使波导装置更好地与谐振腔负载匹配,提高耦合效果,以适应加工过程中负载的变化,减少能量损耗,从而提高了圆柱型等离子体谐振腔的加工适应范围;本发明结构简单,易于加工制造;沉积均匀;沉积附着效果好,提高了PCVD工艺的加工精度和效率。