基本信息:
- 专利标题： 一种圆柱型等离子体谐振腔
- 专利标题（英）：Cylindrical plasma resonant cavity
- 申请号：PCT/CN2010/079322 申请日：2010-12-01
- 公开(公告)号：WO2011124074A1 公开(公告)日：2011-10-13
- 发明人： 李震宇 , 卢松涛 , 刘善沛 , 龙胜亚 , 雷高清 , 刘泳涛
- 申请人： 长飞光纤光缆有限公司 , 李震宇 , 卢松涛 , 刘善沛 , 龙胜亚 , 雷高清 , 刘泳涛
- 申请人地址： 中国湖北省武汉市关山二路4号, Hubei 430073 CN
- 专利权人： 长飞光纤光缆有限公司,李震宇,卢松涛,刘善沛,龙胜亚,雷高清,刘泳涛
- 当前专利权人： 长飞光纤光缆有限公司,李震宇,卢松涛,刘善沛,龙胜亚,雷高清,刘泳涛
- 当前专利权人地址： 中国湖北省武汉市关山二路4号, Hubei 430073 CN
- 代理机构： 武汉开元知识产权代理有限公司
- 优先权： CN201010147798.4 20100409
- 主分类号： H01P7/06
- IPC分类号： H01P7/06
摘要：
本发明涉及一种用PCVD光纤预制棒加工机床的圆柱型等离子体谐振腔，包括有圆柱型谐振腔壳体，在圆柱型谐振腔壳体两端设置截止波导，在圆柱型谐振腔壳体周向开设有一波导入口，其特征在于：在圆柱型谐振腔壳体两端的截止波导为活动端盖结构，所述的活动端盖结构截止波导开设有中间通孔，内端面设置凸起的圆台，与圆柱型谐振腔相配置。本发明通过拆换截止波导可使谐振腔与不同直径的玻璃管相匹配，使波导装置更好地与谐振腔负载匹配，提高耦合效果，以适应加工过程中负载的变化，减少能量损耗，从而提高了圆柱型等离子体谐振腔的加工适应范围；本发明结构简单，易于加工制造；沉积均匀；沉积附着效果好，提高了PCVD工艺的加工精度和效率。