发明申请
WO2011040745A3 IMAGE PROCESSING-BASED LITHOGRAPHY SYSTEM AND TARGET OBJECT COATING METHOD
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： IMAGE PROCESSING-BASED LITHOGRAPHY SYSTEM AND TARGET OBJECT COATING METHOD
- 专利标题（中）：基于图像处理的图像系统和目标对象涂层方法
- 申请号：PCT/KR2010006602 申请日：2010-09-29
- 公开(公告)号：WO2011040745A3 公开(公告)日：2011-11-03
- 发明人： KWON SUNGHOON , CHUNG SUEUN , LEE SEUNGAH , JANG JISUNG , HAN SANGKWON
- 申请人： SNU R&DB FOUNDATION , KWON SUNGHOON , CHUNG SUEUN , LEE SEUNGAH , JANG JISUNG , HAN SANGKWON
- 专利权人： SNU R&DB FOUNDATION,KWON SUNGHOON,CHUNG SUEUN,LEE SEUNGAH,JANG JISUNG,HAN SANGKWON
- 当前专利权人： SNU R&DB FOUNDATION,KWON SUNGHOON,CHUNG SUEUN,LEE SEUNGAH,JANG JISUNG,HAN SANGKWON
- 优先权： KR20090093027 2009-09-30; KR20100005094 2010-01-20
- 主分类号： H01L21/027
- IPC分类号： H01L21/027
摘要：
Disclosed is a technology for a lithography system. According to one embodiment of the present invention, the lithography system comprises: at least one target object which is disposed on a substrate; a processor which determines optical patterns for coating layers of the at least one target object by performing the image processing for the at least one target object; and an exposure device which provides the light having the optical patterns determined by the processor to the substrate.
摘要（中）：
公开了一种用于光刻系统的技术。 根据本发明的一个实施例，光刻系统包括：设置在基板上的至少一个目标物体; 处理器，其通过对所述至少一个目标对象执行图像处理来确定用于涂覆所述至少一个目标对象的层的光学图案; 以及曝光装置，其将具有由处理器确定的光学图案的光提供给基板。
IPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/02 | .半导体器件或其部件的制造或处理 |
| ----------H01L21/027 | ..未在H01L21/18或H01L21/34组中包含的为进一步的光刻工艺在半导体之上制作掩膜 |