基本信息:
- 专利标题： ALD SYSTEMS AND METHODS
- 专利标题（中）：ALD系统和方法
- 申请号：PCT/US2010/000590 申请日：2010-02-26
- 公开(公告)号：WO2010098875A2 公开(公告)日：2010-09-02
- 发明人： DEGUNS, Eric, W. , SUNDARAM, Ganesh, M. , COUTU, Roger, R. , BECKER, Jill, Svenja
- 申请人： CAMBRIDGE NANOTECH INC. , DEGUNS, Eric, W. , SUNDARAM, Ganesh, M. , COUTU, Roger, R. , BECKER, Jill, Svenja
- 申请人地址： 68 Rogers Street Cambridge, MA 02142 US
- 专利权人： CAMBRIDGE NANOTECH INC.,DEGUNS, Eric, W.,SUNDARAM, Ganesh, M.,COUTU, Roger, R.,BECKER, Jill, Svenja
- 当前专利权人： CAMBRIDGE NANOTECH INC.,DEGUNS, Eric, W.,SUNDARAM, Ganesh, M.,COUTU, Roger, R.,BECKER, Jill, Svenja
- 当前专利权人地址： 68 Rogers Street Cambridge, MA 02142 US
- 代理机构： WALAT, Robert, H.
- 优先权： US61/208,875 20090227
- 主分类号： C23C16/44
- IPC分类号： C23C16/44 ; C23C16/00
摘要：
A gas deposition system (1000) configured as a dual-chamber "tower" includes a frame (1140) for supporting two reaction chamber assemblies (3000) , one vertically above the other. Each chamber assembly (3000) includes an outer wall assembly surrounding a hollow chamber (3070) sized to receive a single generation 4.5 (GEN 4.5) glass plate substrate through a load port. The substrate is disposed horizontally inside the hollow chamber (3070) and the chamber assembly (3000) includes removable and cleanable triangular shaped input (3150) and output (3250) plenums disposed external to the hollow chamber (3070) and configured to produce substantially horizontally directed laminar gas flow over a top surface of the substrate. Each chamber includes a cleanable and removable chamber liner assembly (6000) disposed inside the hollow chamber (3070) to contain precursor gases therein thereby preventing contamination of chamber outer walls (3010, 3020, 3030, 3040).
摘要（中）：
构造为双室“塔”的气体沉积系统（1000）包括用于支撑两个反应室组件（3000）的框架（1140），一个垂直地在另一个上方。 每个室组件（3000）包括围绕中空室（3070）的外壁组件，该中空室（3070）的尺寸适于通过负载端口接纳单一的4.5（GEN 4.5）玻璃板基板。 基板被水平地设置在中空室（3070）内，并且室组件（3000）包括设置在中空室（3070）外部的可移除和可清洁的三角形输入（3150）和输出（3250）增压室，并且构造成基本上水平地 定向层流气体流过衬底的顶表面。 每个室包括设置在中空室（3070）内部的可清洁且可移除的室衬套组件（6000），以在其中容纳前体气体，从而防止室外壁（3010,3020,3030,3040）的污染。