基本信息:
- 专利标题： POLYIMIDE FILM
- 申请号：PCT/KR2009/005475 申请日：2009-09-25
- 公开(公告)号：WO2010036049A3 公开(公告)日：2010-04-01
- 发明人： CHO, Han Moon , PARK, Hyo Jun , JEONG, Young Han
- 申请人： KOLON INDUSTRIES, INC. , CHO, Han Moon , PARK, Hyo Jun , JEONG, Young Han
- 申请人地址： 1-23, Byeoryang-dong Gwacheon-si, Gyeonggi-do 427-800 KR
- 专利权人： KOLON INDUSTRIES, INC.,CHO, Han Moon,PARK, Hyo Jun,JEONG, Young Han
- 当前专利权人： KOLON INDUSTRIES, INC.,CHO, Han Moon,PARK, Hyo Jun,JEONG, Young Han
- 当前专利权人地址： 1-23, Byeoryang-dong Gwacheon-si, Gyeonggi-do 427-800 KR
- 代理机构： MYUNG MOON IP & LAW FIRM
- 优先权： KR10-2008-0094564 20080926; KR10-2008-0094565 20080926; KR10-2009-0089713 20090922
- 主分类号： C08J5/18
- IPC分类号： C08J5/18 ; C08G73/10
摘要：
Disclosed is a polyimide film, which is very transparent and very resistant to heat and thus undergoes little dimensional change under thermal stress, and is suitable for use in transparent conductive films, TFT substrates, flexible printed circuit boards and so on.
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08J | 加工；配料的一般工艺过程；不包括在C08B，C08C，C08F，C08G或C08H小类中的后处理 |
| ------C08J5/00 | 含有高分子物质的制品或成形材料的制造 |
| --------C08J5/18 | .薄膜或片材的制造 |