基本信息:
- 专利标题： PATTERNING OF NANOSTRUCTURES
- 申请号：PCT/SG2009/000064 申请日：2009-02-23
- 公开(公告)号：WO2009105045A8 公开(公告)日：2009-08-27
- 发明人： BHUPENDRA, Kumar , ZHANG,Yuanyuan , WANG, Zongbin , LI, Lain-Jong , MHAISALKAR, Subodh, Gautam
- 申请人： NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY , BHUPENDRA, Kumar , ZHANG,Yuanyuan , WANG, Zongbin , LI, Lain-Jong , MHAISALKAR, Subodh, Gautam
- 申请人地址： 50 Nanyang Avenue Singapore 639798 SG
- 专利权人： NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY,BHUPENDRA, Kumar,ZHANG,Yuanyuan,WANG, Zongbin,LI, Lain-Jong,MHAISALKAR, Subodh, Gautam
- 当前专利权人： NANYANG TECHNOLOGICAL UNIVERSITY,BHUPENDRA, Kumar,ZHANG,Yuanyuan,WANG, Zongbin,LI, Lain-Jong,MHAISALKAR, Subodh, Gautam
- 当前专利权人地址： 50 Nanyang Avenue Singapore 639798 SG
- 代理机构： CALLINAN, Keith, William
- 优先权： US61/030,762 20080222
- 主分类号： B41C1/10
- IPC分类号： B41C1/10 ; B82B3/00 ; G03F7/00 ; B41C1/06 ; C09D11/02 ; H01L21/02 ; B41N1/14 ; C09D11/10 ; H01L51/40
摘要：
A method of patterning nanostructures comprising printing an ink comprising the nanostructures onto a solvent-extracting first surface such that a pattern of nanostructures is formed on the first surface.
IPC结构图谱:
| B | 作业；运输 |
| --B41 | 印刷；排版机；打字机；模印机 |
| ----B41C | 印刷版的制造或复制工艺 |
| ------B41C1/00 | 印版准备 |
| --------B41C1/10 | .供平版印刷；将原版制成印刷版 |