发明申请
WO2008119823A1 A METHOD FOR PRODUCING A COATING BY ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA TECHNOLOGY
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： A METHOD FOR PRODUCING A COATING BY ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA TECHNOLOGY
- 专利标题（中）：一种通过大气压力等离子体技术生产涂料的方法
- 申请号：PCT/EP2008/053949 申请日：2008-04-02
- 公开(公告)号：WO2008119823A1 公开(公告)日：2008-10-09
- 发明人： DUBREUIL, Marjorie , VANGENEUGDEN, Dirk , WASBAUER, Ingrid , ISSARIS, Anna
- 申请人： VLAAMSE INSTELLING VOOR TECHNOLOGISCH ONDERZOEK (VITO) , DUBREUIL, Marjorie , VANGENEUGDEN, Dirk , WASBAUER, Ingrid , ISSARIS, Anna
- 申请人地址： Boeretang 200 B-2400 Mol BE
- 专利权人： VLAAMSE INSTELLING VOOR TECHNOLOGISCH ONDERZOEK (VITO),DUBREUIL, Marjorie,VANGENEUGDEN, Dirk,WASBAUER, Ingrid,ISSARIS, Anna
- 当前专利权人： VLAAMSE INSTELLING VOOR TECHNOLOGISCH ONDERZOEK (VITO),DUBREUIL, Marjorie,VANGENEUGDEN, Dirk,WASBAUER, Ingrid,ISSARIS, Anna
- 当前专利权人地址： Boeretang 200 B-2400 Mol BE
- 代理机构： PRONOVEM
- 优先权： EP07105457.1 20070402
- 主分类号： C08F2/48
- IPC分类号： C08F2/48
摘要：
The present invention is related to a method of coating a substrate, said method comprising the steps of: providing a substrate (1), producing an atmospheric pressure plasma discharge in the presence of a gas, at least partially exposing the substrate to said atmospheric pressure plasma discharge, introducing a liquid aerosol (6) of coating forming material into said atmospheric pressure plasma discharge, thereby forming a coating on the substrate, curing the substrate and coating, by exposing the substrate to ultraviolet light.
摘要（中）：
本发明涉及一种涂覆基材的方法，所述方法包括以下步骤：提供基材（1），在气体存在下产生大气压等离子体放电，至少部分地使基板暴露于所述大气压 等离子体放电，将涂料形成材料的液体气溶胶（6）引入所述大气压等离子体放电中，从而通过将基板暴露于紫外光而在基板上形成涂层，固化基板和涂覆。
IPC结构图谱:
| C | 化学；冶金 |
| --C08 | 有机高分子化合物；其制备或化学加工；以其为基料的组合物 |
| ----C08F | 仅用碳—碳不饱和键反应得到的高分子化合物 |
| ------C08F2/00 | 聚合工艺过程 |
| --------C08F2/46 | .波能或粒子辐射引发的聚合作用 |
| ----------C08F2/48 | ..用紫外光或可见光 |