发明申请
WO2007109103A2 METHOD AND SYSTEM FOR OPTIMIZING ALIGNMENT PERFORMANCE IN A FLEET OF EXPOSURE TOOLS
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： METHOD AND SYSTEM FOR OPTIMIZING ALIGNMENT PERFORMANCE IN A FLEET OF EXPOSURE TOOLS
- 专利标题（中）：在接触工具中优化对准性能的方法和系统
- 申请号：PCT/US2007/006569 申请日：2007-03-15
- 公开(公告)号：WO2007109103A2 公开(公告)日：2007-09-27
- 发明人： ADEL, Michael, E. , ROBINSON, John , IZIKSON, Pavel , EICHELBERGER, Brad , WIDMANN, Amir , KATO, Atsuhiko
- 申请人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES CORPORATION , ADEL, Michael, E. , ROBINSON, John , IZIKSON, Pavel , EICHELBERGER, Brad , WIDMANN, Amir , KATO, Atsuhiko
- 申请人地址： One Technology Drive Milpitas, California 95035 US
- 专利权人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES CORPORATION,ADEL, Michael, E.,ROBINSON, John,IZIKSON, Pavel,EICHELBERGER, Brad,WIDMANN, Amir,KATO, Atsuhiko
- 当前专利权人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES CORPORATION,ADEL, Michael, E.,ROBINSON, John,IZIKSON, Pavel,EICHELBERGER, Brad,WIDMANN, Amir,KATO, Atsuhiko
- 当前专利权人地址： One Technology Drive Milpitas, California 95035 US
- 代理机构： KALINSKI, Francis, T., II et al.
- 优先权： US60/783,696 20060316; US60/891,209 20070222
- 主分类号： G01J1/00
- IPC分类号： G01J1/00
摘要：
A method for optimizing alignment performance in a fleet of exposure systems involves characterizing each exposure system in a fleet of exposure systems to generate a set of distinctive distortion profiles associated with each exposure system. The set of distinctive distortion profiles are stored in a database. A wafer having reference pattern formed thereon is provided for further pattern fabrication and an exposure system is selected from the fleet to fabricate a next layer on the wafer. Linear and higher order parameters of the selected exposure system are adjusted using the distinctive distortion profiles to model the distortion of the reference pattern. Once the exposure system is adjusted, it is used to form a lithographic pattern on the wafer.
摘要（中）：
用于优化曝光系统队列中的对准性能的方法涉及表征曝光系统中的每个曝光系统，以产生与每个曝光系统相关联的一组独特的失真曲线。 一组有特色的失真简档存储在数据库中。 提供具有形成在其上的参考图案的晶片用于进一步的图案制造，并且从车队中选择曝光系统以在晶片上制造下一层。 使用不同的失真曲线来调整所选曝光系统的线性和高阶参数以对参考图案的失真进行建模。 一旦调整曝光系统，就用于在晶片上形成平版印刷图案。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01J | 红外光、可见光、紫外光的强度、速度、光谱成分，偏振、相位或脉冲特性的测量；比色法；辐射高温测定法 |
| ------G01J1/00 | 光度测定法，例如照相的曝光表 |