发明申请
WO2005024404A1 METHODS AND SYSTEMS FOR INSPECTION OF A SPECIMEN USING DIFFERENT INSPECTION PARAMETERS
审中-公开
基本信息:
- 专利标题： METHODS AND SYSTEMS FOR INSPECTION OF A SPECIMEN USING DIFFERENT INSPECTION PARAMETERS
- 专利标题（中）：使用不同检查参数检验样本的方法和系统
- 申请号：PCT/US2004/029189 申请日：2004-09-03
- 公开(公告)号：WO2005024404A1 公开(公告)日：2005-03-17
- 发明人： LANGE, Steve, R. , MARELLA, Paul, Frank , CEGLIO, Nat , HWANG, Shiow-Hwei , FU, Tao-Yi
- 申请人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES , LANGE, Steve, R. , MARELLA, Paul, Frank , CEGLIO, Nat , HWANG, Shiow-Hwei , FU, Tao-Yi
- 申请人地址： One Technology Drive, Milpitas, CA 95035 US
- 专利权人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES,LANGE, Steve, R.,MARELLA, Paul, Frank,CEGLIO, Nat,HWANG, Shiow-Hwei,FU, Tao-Yi
- 当前专利权人： KLA-TENCOR TECHNOLOGIES,LANGE, Steve, R.,MARELLA, Paul, Frank,CEGLIO, Nat,HWANG, Shiow-Hwei,FU, Tao-Yi
- 当前专利权人地址： One Technology Drive, Milpitas, CA 95035 US
- 代理机构： MEWHERTER, Ann, Marie
- 优先权： US60/500,174 20030904; US10/786,440 20040903
- 主分类号： G01N21/95
- IPC分类号： G01N21/95
摘要：
Methods and systems for inspection of a specimen using different parameters are provided. One computer-implemented method includes determining optimal parameters for inspection based on selected defects. This method also includes setting parameters of an inspection system at the optimal parameters prior to inspection. Another method for inspecting a specimen includes illuminating the specimen with light having a wavelength below about 350 nm and with light having a wavelength above about 350 nm. The method also includes processing signals representative of light collected from the specimen to detect defects or process variations on the specimen. One system configured to inspect a specimen includes a first optical subsystem coupled to a broadband light source and a second optical subsystem coupled to a laser. The system also includes a third optical subsystem configured to couple light from the first and second optical subsystems to an objective, which focuses the light onto the specimen.
摘要（中）：
提供了使用不同参数检查样本的方法和系统。 一种计算机实现的方法包括基于选择的缺陷确定用于检查的最佳参数。 该方法还包括在检查之前以最佳参数设置检查系统的参数。 用于检查样本的另一种方法包括用具有低于约350nm的波长的光和具有高于约350nm的波长的光照射样本。 该方法还包括处理代表从样本收集的光的信号，以检测样本上的缺陷或工艺变化。 配置成检查样本的一个系统包括耦合到宽带光源的第一光学子系统和耦合到激光器的第二光学子系统。 该系统还包括配置成将来自第一和第二光学子系统的光耦合到物镜的第三光学子系统，该物镜将光聚焦到样品上。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G01 | 测量；测试 |
| ----G01N | 借助于测定材料的化学或物理性质来测试或分析材料 |
| ------G01N21/00 | 利用光学手段，即利用红外光、可见光或紫外光来测试或分析材料 |
| --------G01N21/01 | .便于进行光学测试的装置或仪器 |
| ----------G01N21/88 | ..测试瑕疵、缺陷或污点的存在 |
| ------------G01N21/95 | ...特征在于待测物品的材料或形状 |