基本信息:
- 专利标题： METHOD AND APPARATUS FOR PROVIDING GAS TO A PROCESSING CHAMBER
- 专利标题（中）：用于向处理室提供气体的方法和设备
- 申请号：PCT/US0322186 申请日：2003-07-16
- 公开(公告)号：WO2004007793A3 公开(公告)日：2004-05-27
- 发明人： GANGULI SESHADRI , CHEN LING , KU VINCENT W
- 申请人： APPLIED MATERIALS INC
- 专利权人： APPLIED MATERIALS INC
- 当前专利权人： APPLIED MATERIALS INC
- 优先权： US19872702 2002-07-17
- 主分类号： C23C16/18
- IPC分类号： C23C16/18 ; C23C16/34 ; C23C16/44 ; C23C16/448 ; C23C16/455 ; H01L21/31 ; B01D7/00 ; H01L21/00
摘要：
A method and apparatus for generating gas for a processing system is provided. In one embodiment, an apparatus for generating gas for a processing system includes a canister having at least one baffle disposed between two ports and containing a precursor material. The precursor material is adapted to produce a gas vapor when heated to a defined temperature at a defined pressure. The baffle forces a carrier gas to travel an extended mean path between the inlet and outlet ports. In another embodiment, an apparatus for generating gas includes a canister having a tube that directs a carrier gas flowing into the canister away from a precursor material disposed within the canister.
摘要（中）：
提供了一种用于为处理系统产生气体的方法和装置。 在一个实施例中，用于为处理系统产生气体的装置包括罐，所述罐具有设置在两个端口之间并包含前体材料的至少一个挡板。 当在限定的压力下加热到限定的温度时，前体材料适于产生气体蒸汽。 挡板迫使载气在入口和出口之间延伸平均路径。 在另一个实施例中，用于产生气体的装置包括具有管的罐，该管将流入罐中的载气引导离开布置在罐内的前体材料。