基本信息:
- 专利标题： BESCHICHTUNGSANLAGE
- 专利标题（英）：COATING INSTALLATION
- 申请号：PCT/DE2003/001216 申请日：2003-04-11
- 公开(公告)号：WO2003087426A3 公开(公告)日：2003-10-23
- 发明人： GEISLER, Michael , KASTNER, Albert , SZYSZKA, Bernd , PFLUG, Andreas , MALKOMES, Niels
- 申请人： APPLIED FILMS GMBH & CO. KG , GEISLER, Michael , KASTNER, Albert , SZYSZKA, Bernd , PFLUG, Andreas , MALKOMES, Niels
- 申请人地址： Siemensstrasse 100, 63755 Alzenau DE
- 专利权人： APPLIED FILMS GMBH & CO. KG,GEISLER, Michael,KASTNER, Albert,SZYSZKA, Bernd,PFLUG, Andreas,MALKOMES, Niels
- 当前专利权人： APPLIED FILMS GMBH & CO. KG,GEISLER, Michael,KASTNER, Albert,SZYSZKA, Bernd,PFLUG, Andreas,MALKOMES, Niels
- 当前专利权人地址： Siemensstrasse 100, 63755 Alzenau DE
- 代理机构： SCHLAGWEIN, Udo
- 优先权： US102 20020415
- 主分类号： C23C14/00
- IPC分类号： C23C14/00
摘要：
Bei einer Beschichtungsanlage ist ein Rezipient (1) durch eine Blende (2) in einen Kathodenraum (3) und einen Substratraum (4) unterteilt. Sowohl der Kathodenraum (3) als auch der Substratraum (4) weisen eine unmittelbare Absaugung (10, 16) und jeweils eine eigene Gaszuführung (8, 14) auf. Die Gaszuführung (8) in den Kathodenraum (3) ist mit einer Prozessgasquelle (9) und die Gaszuführung (14) für den Substratraum (4) mit einer Reaktivgasquelle (15) verbunden.
摘要（英）：
The invention relates to a coating installation comprising a recipient (1) which is divided into a cathode side (3) and a substrate side (4) by means of a screen (2). The cathode side (3) and the substrate side (4) respectively have a direct extraction outlet (10, 16) and a gas admission (8, 14). The gas admission (8) on the cathode side (3) is connected to a process gas source (9) and the gas admission (14) for the substrate side (4) is connected to a reactive gas source (15).
公开/授权文献:
- WO2003087426A2 BESCHICHTUNGSANLAGE 公开/授权日：2003-10-23