基本信息:
- 专利标题： PLASMA REACTOR GAS PROCESSING
- 专利标题（中）：等离子体反应器气体处理
- 申请号：PCT/GB2001/005414 申请日：2001-12-06
- 公开(公告)号：WO02048515A1 公开(公告)日：2002-06-20
- 主分类号： H05H1/24
- IPC分类号： H05H1/24 ; B01D53/32 ; B01D53/94 ; B01J19/08 ; F01N3/02 ; F01N3/08 ; F01N3/24 ; F01N3/26 ; F01N3/28 ; F01N3/01
摘要：
A reactor (100) for the plasma assisted processing of a gaseous medium, including a cylindrical bed (106) of active material (107) contained between two concentric electrodes (108, 109), both of which are earthed and with a third cylindrical electrode (111) concentric with the other electrodes positioned within the bed of active material (107) and connected to a high voltage input terminal (112).
摘要（中）：
一种用于气态介质的等离子体辅助处理的反应器（100），包括活性材料（107）的圆柱形床（106），其包含在两个同心电极（108,109）之间，两个同心电极接地，并具有第三圆柱形电极 （111）与位于活性材料（107）床内的其它电极同心并且连接到高电压输入端子（112）。