基本信息:
- 专利标题： X-RAY MICRO-TARGET SOURCE
- 专利标题（中）：X射线微目标源
- 申请号：PCT/AU2001/000750 申请日：2001-06-22
- 公开(公告)号：WO01099478A1 公开(公告)日：2001-12-27
- 主分类号： G21K7/00
- IPC分类号： G21K7/00 ; H01J35/08 ; H01J35/12 ; H05G1/02 ; H05H1/00 ; H05H6/00
摘要：
X-ray generation apparatus including an elongated target body (12) and a mount (20) from which the body projects to a tip (14) remote from the mount. The target body includes a substance that, on being irradiated by a beam of electrons of suitable energy directed onto the target body from laterally of the elongate target body, generates a source of x-ray radiation from a volume of interaction (25) of the electron beam with the target body. The mount provides a heat sink for the target body.
摘要（中）：
X射线产生装置包括细长目标体（12）和安装件（20），主体从该突出体向远离支架的尖端（14）伸出。 目标体包括物质，该物质在由细长靶物体的侧面引导到目标体上的合适能量的电子束照射时，产生来自该体积的相互作用（25）的X射线辐射源 电子束与目标体。 安装座为目标机体提供散热器。
IPC结构图谱:
| G | 物理 |
| --G21 | 核物理；核工程 |
| ----G21K | 未列入其他类目的粒子或电磁辐射的处理技术；照射装置；γ射线或X射线显微镜 |
| ------G21K7/00 | γ射线或X射线显微镜 |